1.一种用于二极管自动清洗的供水系统，其特征在于：包括水槽（1）、供水管道（2）、喷头（3）和水压加压装置（4），所述喷头（3）设置于供水管道（2）的一端，供水管道（2）的另一端伸至水槽（1）内，水压加压装置（4）设置于供水管道（2）上，供水管道（2）上设置有控制阀（5），供水管道（2）对应设置有多组喷头（3），每组喷头（3）对应固定于一沿横向设置的固定部（6）上，每组喷头（3）内设置有多个喷头（3）。
2.根据权利要求1所述一种用于二极管自动清洗的供水系统，其特征在于：每组喷头（3）中共有三排喷头（3），且三排喷头（3）相互平行。
3.根据权利要求1或2所述一种用于二极管自动清洗的供水系统，其特征在于：喷头（3）均倾斜向下设置，且每组喷头（3）中喷头（3）的倾斜方向均相同，或喷头（3）为角度可调式结构。
4.根据权利要求1所述一种用于二极管自动清洗的供水系统，其特征在于：供水管道（2）上设置有水压检测装置（7）。