本实用新型属于水处理装置技术领域，尤其是涉及一种循环水系统用黄锈水处理装置。
背景技术：
黄锈水处理装置的主要作用为控制水质浊度、色度、收集排放杂质，对水质进行超净过滤。广泛适用于卫生热水、饮用水系统、热交换器及锅炉的补水系统、工业循环水及补水系统等。目前，市场上应用广泛的黄锈水处理装置主要应用机械变孔径过滤层及活性铁质滤膜复合过滤方式；同时利用电能产生场效应，对离子状态的铁、锰离子产生吸附作用，达到有效控制水质浊度、色度、收集排放杂质的目的。但因其除垢和防腐的能力较差，使用一段时间后容易造成堵塞及降低设备的使用寿命，对水质进行检测时，需从出水口取水再使用相关仪器进行检测，当水质浓缩、恶化、超标时无法对水质进行实时监控工作，当水质不达标又未及时进行检测的情况下直接影响到用水的安全卫生问题。
技术实现要素：
本实用新型要解决的问题是提供一种操作简单、可实时监控、除垢防腐效率高，延长设备使用寿命的循环水系统用黄锈水处理装置。
为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种循环水系统用黄锈水处理装置，包括支撑体、主体、进水口、活性过滤体、加药器、出水口、控制系统、排污口和接收器；所述控制系统包括压力传感器，PLC可编程控制器，压差控制器、水质综合检测控制器和显示屏，所述支撑体分别设置于主体底部的左右两侧，所述进水口设置于主体的左侧壁的下部，所述活性过滤体设置于主体内部的中上部位置，所述加药器设置于主体顶部的左侧，所述出水口设置于主体顶部的右侧，所述控制系统嵌设在主体右侧壁的中下部位置，所述排污口设置于主体底部的中间位置，所述接收器设置于排污口的下方。
所述支撑体为三角体结构，末端的加强块为长方体结构。
所述主体为椭圆体的中空结构。
所述进水口为圆柱体中空结构。
所述出水口为圆柱体中空结构。
由于采用上述技术方案，增加加药装置，装置中所用水处理药剂为硅磷晶。硅磷晶是一种经济有效的用于保护生活饮用水和工业水系统管道的水处理药剂，它采用控制释放技术，主要成份由聚磷酸盐和聚硅酸盐组成，增强除垢、防腐的能力，且具有降低水体色度、提高水质的优点，用硅磷晶处理后的水，对人体是一种自然增补矿物质的良好途径。控制系统中增加的压力传感器和PLC可编程控制器，实现水处理设备的连续运行和自动反冲洗，提高了整体设备的自动化水平。增加的压差控制器、水质综合检测控制器和显示屏，对水质进行连续监测、数字显示，当水质浓缩、恶化、超标时，可声光报警，管理人员可及时进行相关的操作处理，保证用水的安全卫生。
本实用新型的有益效果是：操作简单、可实时监控、除垢防腐效率高、延长设备使用寿命的优点。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型的结构示意视图
图中：
1、支撑体 2、主体 3、进水口
4、活性过滤体 5、加药器 6、出水口
7、控制系统 8、排污口 9、接收器
具体实施方式
如图1所示，本实用新型一种循环水系统用黄锈水处理装置，包括支撑体1、主体2、进水口3、活性过滤体4、加药器5、出水口6、控制系统7、排污口8和接收器9；所述控制系统7包括压力传感器，PLC可编程控制器，压差控制器、水质综合检测控制器和显示屏，所述支撑体1分别设置于主体2底部的左右两侧，所述进水口3设置于主体2的左侧壁的下部，所述活性过滤体4设置于主体2内部的中上部位置，所述加药器5设置于主体2顶部的左侧，所述出水口6设置于主体2顶部的右侧，所述控制系统7嵌设在主体2右侧壁的中下部位置，所述排污口8设置于主体2底部的中间位置，所述接收器9设置于排污口8的下方。所述支撑体1为三角体结构，末端的加强块为长方体结构。所述主体2为椭圆体中空结构。所述进水口3为圆柱体中空结构。所述出水口6为圆柱体中空结构。
本实例的工作过程：需处理的水从进水口3进入装置主体2，经过活性过滤体4处理，加药器5释放水处理药剂；控制系统7中的压力传感器和PLC可编程控制器，实现水处理设备的连续运行和自动反冲洗，提高了整体设备的自动化水平，压差控制器、水质综合检测控制器和显示屏，对水质进行连续监测、数字显示，当水质浓缩、恶化、超标时，可声光报警，管理人员可及时进行相关的操作处理，保证用水的安全卫生；当处理过程完成后，水从出水口6排出，处理过程中产生的废物有排污口8排出，接收器9进行接收。
以上对本实用新型所提供的一种循环水系统用黄锈水处理装置进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。应当指出术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。