一种立式真空清洗机的制作方法

文档序号:11496610阅读:254来源:国知局
一种立式真空清洗机的制造方法与工艺

本发明涉及一种医疗器械,具体涉及一种立式真空清洗机。



背景技术:

清洗机,指用于清洁指定器械或设备的装置,不仅可以提高器械或设备的使用寿命,也能保证其满足使用的清洁度要求。医疗器械清洗装置是一种常见的清洗装置,本公司提供一种卧式真空清洗机,该卧式真空清洗机主要包括电气控制柜、工作室和真空管路;在卧式真空清洗机中,电气柜、工作室和管路水平布置,导致清洗机的纵向较长,因此卧式真空清洗机占地面积较大;由于卧式真空清洗机的占地面积大,则不好布置水箱,因此需要另设单独的水箱。

卧式真空清洗机工作时,工作室内会注入清洗液,将工作室门关闭,并对工作室抽真空,从而可使真空室内的清洗液低压沸腾,对医疗器械起到冲洗的作用。由于工作室内会注入水,因此为防止打开工作室门后,清洗液流出;工作室门设置在工作室的顶部,并绕水平轴转动,即通过向上翻转工作室门可打开工作室;另外,在工作室门的后方还设有触摸屏,通过对触摸屏进行操作,可控制该卧式真空清洗机。由于触摸屏设置在工作室门后方,因此当工作室门打开后,工作室门则形成了操作触摸屏的障碍。



技术实现要素:

本发明的目的在于提供一种占地面积更小的立式真空清洗机。

为达到上述目的,本发明的基础方案如下:

包括清洗机主体,及安装在清洗机主体上的电气控制系统、工作室、清洗系统、热水箱和清洗剂存储柜,所述电气控制系统包括电器控制柜、打印机和触摸屏,清洗系统包括与工作室连接的抽放气机构、水位控制机构和进排水机构,所述热水箱、清洗剂存储柜、工作室和电气控制系统从下至上依次布置;清洗机主体的前侧设有可与工作室组成密闭空间的工作室门,工作室门通过竖直设置的铰接轴铰接在清洗机主体上,工作室门上设有可将工作室门锁死的锁紧机构;打印机和触摸屏设置在清洗机主体的前侧,清洗系统安装在工作室或热水箱的侧壁。

本方案立式真空清洗机的原理在于:

热水箱和抽放气机构与工作室连接,则抽放气机构可对工作室进行抽真空处理,热水箱则可以向工作室供水。将待清洗的医疗器械放入工作室内,并关闭工作室门,使工作室内部形成密闭空间,通过热水箱向工作室内供水,然后迅速通过抽放气机构对工作室进行抽真空,则可使工作室内的水低压沸腾;则在工作室抽放气过程中有利于对器械内部的污物进行清洗;抽真空后再向工作室充入气体有利于酶溶液进入器械内部溶解污物。抽真空过程中,管腔器械内部的气泡气压减小而逐渐扩大,可以将污物排出腔内。当液面上方的空间进气回压时,管腔器械内气压和工作室气压迅速回压,酶溶液进入管腔器械内部溶解污物;当溶液底部进气时,干净空气进入溶液中使溶液剧烈沸腾,溶液的冲击力冲刷器械,使得器械表面污物脱离器械。通过反复的抽气,然后对液面上部空间充气和从溶液底部充气的操作,可对医疗器械进行比较彻底的清洗,尤其对小孔、微管和盲端管器械进行清洗。

由于工作室是清洗医疗器械的空间,需要频繁的将医疗器械从工作室装入或取出,因此,将工作室设置在热水箱和清洗剂存储柜之上,可以减少工作人员频繁的弯腰;同时,又不致使工作室太高,而不便于工作人员放入或取出医疗器械。由于热水箱、清洗剂存储柜和工作室均具有储水结构,因此,难免会出现水洒出的情况;而电气控制系统属于电器设备,与水接触极易出现触电情况,因此,将电气控制系统设置在最顶层,可以使用更简单的防水结构,使成本更低,且有利于延长其寿命。

由于工作室上方安装有电器控制柜、打印机和触摸屏,且本方案中的工作室的离地高度比卧式真空清洗机的工作室的离地高度更高,因此,为更便于操作人员的操作,工作室门通过竖直设置的铰接轴铰接在清洗机主体上,即向外拉动工作室门便可打开工作室。另外,工作室门打开后,工作室门将位于工作室的侧面,因此不会对位于工作室上方的触摸屏或打印机的操作形成障碍。

本方案产生的有益效果是:

(一)热水箱、清洗剂存储柜、工作室和电气控制系统从下至上竖直布置,减小了占地面,且热水箱、清洗剂存储柜、工作室和电气控制系统的侧面和后方空间可用于布置管道、阀件和控制线,从而充分利用清洗机主体的竖直空间;

(二)与现有卧式真空清洗机相比,立式真空清洗机的工作室门通过竖直设置的铰接轴铰接在清洗机主体上,使得工作室门为侧开门,因此不会对位于工作室上方的触摸屏或打印机的操作形成障碍,且工作室门侧开更适合于人们的使用习惯;

(三)电气控制系统设置在清洗机主体的最顶端,而工作室、水箱等储水结构和储水管件均设置在电气控制系统下端,当储水结构和储水管件出现泄漏后,水不会流入电气控制系统中,从而不会造成电气元件的短路,使电气控制系统损坏,因此可以使用更简单的防水结构,使成本更低,且该布置方法有利于延长其寿命。

优选方案一:作为对基础方案的进一步优化,所述清洗系统还包括变温调节供水机构,变温调节供水机构包括热水泵、若干管道和管阀,管阀设于热水箱侧壁上,抽放气机构和热水泵安装在热水箱的后侧。通过设置变温调节供水机构可实时向工作室提供常温至90摄氏度的水,而管阀设于水箱侧壁上,抽放气机构和热水泵安装在热水箱的后侧,可以充分利用清洗机主体的安装空间。

优选方案二:作为对优选方案一的进一步优化,还包括冷凝系统,冷凝系统包括冷凝器、气液分离器和冷凝排水阀,冷凝系统设于清洗剂存储柜后侧。由于本装置可利用90摄氏度的水对器械进行清洗,因此,在抽真空时,高温蒸汽先经过冷凝系统降温,再经气液分离后排出,以防止高温蒸汽损伤真空泵;另外冷凝器设置在清洗剂存储柜后侧,可以更充分的利用清洗剂存储柜的后方空间。

优选方案三:作为对优选方案二的进一步优化,所述工作室门上设有观察窗,可便于观察工作室内的清洗实况,工作室的离地高度为1~1.4m;从而更有利于工作人员放入或取出医疗器械;同时,在打开工作室时也不会因为工作室太高,而需要工作人员频繁的弯腰。

优选方案四:作为对优选方案三的进一步优化,所述电气控制系统的正前侧设有控制面板,且控制面板向后凹陷形成安装槽,打印机和触摸屏均安装在安装槽内,且打印机和触摸屏的前侧面位于清洗机主体前侧面的后方。当打开工作室门时,工作室内产生的水蒸气将上升,而打印机和触摸屏的前侧面位于清洗机主体前侧面的后方,从而可防止水雾凝结在触摸屏上。

优选方案五:作为对优选方案四的进一步优化,所述清洗剂存储柜包括柜腔和柜门,柜门与柜腔侧壁铰接,柜腔内设有酶液桶、酶液吸取机构和缺酶报警机构。在原有的卧式清洗机中,柜门滑动连接在柜腔内,当拉动柜门时可以将清洗剂存储柜打开,同时酶液桶、酶液吸取机构和缺酶报警机构也将被拉出,在此过程中会造成酶液汲取机构和缺酶报警机构的误动作,从而影响设备的正常运行。而在优选方案五提供的方案中,在打开柜门时,酶液桶仍处于清洗剂存储柜内,从而便于测量酶液桶内的液面高度,同时工作室也正常汲取酶液。

优选方案六:作为对优选方案五的进一步优化,所述工作室内设有摇摆机构,摇摆机构包括托架、固定在托架下部的旋转轴和驱动装置,旋转轴与工作室转动连接,驱动装置可驱动托架上下摆动。在清洗运行过程中,驱动装置驱动托架绕旋转轴进行一定角度的上下摆动,则放置在托架上的器械内的气泡也会因为摇摆而移动,可有利于气泡排出,从而达到更佳的清洗效果。

优选方案七:作为对优选方案六的进一步优化,所述工作室的顶部的侧壁上设有进气口、抽气口、进水口。进水口设置在顶侧,可以防止避免工作室内污水回流进水管形成污染。抽气口和进气口设置在顶侧,可以减小设备工作时工作室上部的无效空间。相比传统卧式清洗机,在清洗相同有效容量器械的情况下,可以减小工作室的容积。

附图说明

图1是本发明立式真空清洗机实施例的内部结构示意图;

图2是本发明立式真空清洗机实施例的外部结构示意图;

图3是本发明立式真空清洗机实施例的锁死机构结构示意图;

图4是本发明立式真空清洗机实施例的工作室的结构示意图;

图5是本发明立式真空清洗机实施例的工作室密封结构示意图。

具体实施方式

下面通过具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:

说明书附图中的附图标记包括:清洗机主体01、热水箱11、热水泵12、抽放气机构13、柜门21、柜腔22、冷凝系统23、工作室31、工作室门32、锁死机构33、机械锁331、电锁332、环形凸棱311、密封槽312、气孔313、密封条321、单向阀322、泄气阀323、观察窗34、抽气口35、进气口36、进水口37、触摸屏41、打印机42、电器控制柜43。

实施例基本如图1、图2、图3、图4所示:

本实施例的立式真空清洗机包括清洗机主体01,及安装在清洗机主体01上的电气控制系统、工作室31、清洗系统、热水箱11和清洗剂存储柜;热水箱11、清洗剂存储柜、工作室31和电气控制系统从下至上依次布置,从而将清洗机主体01分为四层。热水箱11为储水机构,清洗系统包括抽放气机构、水位控制机构、进排水机构和变温调节供水机构,抽放气机构13的主要部件为真空泵,抽放气机构13用以对工作室31进行抽真空;变温调节供水机构包括热水泵12、若干管道和管阀,通过热水泵12可对供入工作室31的水进行加热,从而可向工作室31提供常温至90摄氏度的水,对于某些医学仪器采用高温水进行清洗,可以节省清洗时间。热水箱11、变温调节机构和抽放气机构13均安装在第一层,管道固定在热水箱11的右侧壁上,抽放气机构13的真空泵和变温调节机构的热水泵12则安装在热水箱11的后侧,以充分利用空间,并利于安装和检修。

清洗剂存储柜安装在清洗机主体01的第二层,清洗剂存储柜包括柜腔22和柜门21,柜门21铰接在柜腔22的侧壁,向侧面转动柜门21可以打开清洗剂存储柜。柜腔22固定在清洗机主体01上,柜腔22用于放置酶液桶,柜腔内还设有酶液吸取机构和缺酶报警机构,关闭柜门21,可以使酶液桶处于封闭空间内,从而防止酶液被污染;当霉液桶内缺酶液时,缺酶报警机构输出报警信号,提示添加酶液;当需要向酶液桶内添加酶液时,可以将酶液桶取出。在清洗剂存储柜的后侧还安装有冷凝系统23,冷凝系统23包括冷凝器、水气分离器、冷凝排水阀及冷凝管件,在抽真空时,高温蒸汽先经过冷凝系统降温,再经气液分离后排出,以防止高温蒸汽损伤真空泵;另外冷凝器设置在清洗剂存储柜后侧,可以更充分的利用清洗剂存储柜的后方空间。

工作室31设于清洗机主体01的第三层,且工作室31的离地高度为1.2m。清洗机主体01的前侧设有可与工作室31组成密闭空间的工作室门32,工作室门32上设有透明度玻璃窗,工作室31的左右两侧设有固定在清洗机主体01上的左侧门梁和右侧门梁,工作室门32通过竖直设置的铰接轴铰接在左侧门梁上,工作室门32上设有可将工作室门32锁死的锁死机构33。锁死机构33包括机械锁331和电锁332,机械锁331包括锁紧部和门锁座,锁紧部转动连接在工作室门32的右侧,锁紧部包括锁钩和锁柄,锁钩和锁柄分别位于锁紧部转动中心的两侧,锁紧部的重心落在锁柄上,即锁柄与锁钩不受外力的情况下,锁柄总处于竖直状态,而锁柄处于锁钩下方。锁钩呈圆弧形,锁钩从首端至尾端的厚度增加,门锁座固定在右侧门梁上,门锁座上设置有锁槽,逆时针转动锁柄,使锁钩进入锁槽,可锁紧工作室门32。电锁332包括电控开关、锁舌和锁孔。锁舌滑动连接在右侧门梁内,而锁孔对应于锁舌设置在工作室门32上;锁舌的尾端连接有压簧,锁舌的前端设有斜面,使得锁舌的前端形成三角形,锁舌的前端朝向锁孔,当锁舌前端插入锁孔,则工作室门32将无法打开。锁舌前端的斜面朝向外侧,当关闭工作室门32时,锁舌的斜面受压,使得压簧被压缩,则锁舌缩回,当锁孔与锁舌对应后,压簧可使锁舌弹出。电控开关包括相对设置的电磁铁和衔铁,电磁铁固定在工作室门柱上,衔铁与锁舌固定。关上工作室门32后,将锁钩的前端插入锁槽内,随着工作室31内的压力逐渐降低,工作室门32逐渐向工作室31一侧转动,锁柄受重力向下转动,从而锁钩的尾端逐渐进入锁槽内,将工作室门32楔紧,此时锁舌也将进入锁孔内,从而工作室门32被锁死。

工作室31内设有摇摆机构,摇摆机构包括篮筐、固定在篮筐下部的旋转轴和驱动装置,旋转轴与工作室31转动连接,驱动装置可驱动篮筐上下摆动。在本实施例中,驱动装置采用曲柄摇杆机构。在清洗运行过程中,驱动装置驱动篮筐绕旋转轴进行一定角度的上下摆动,则篮筐中器械内的气泡也会因为摇摆而移动,可有利于气泡排出,从而达到更佳的清洗效果。

另外,工作室31的顶部的侧壁上设有进气口36、抽气口35、进水口37。通过进水口37进水时,可以避免工作室内污水回流进水管形成污染。抽气口35和进气口36设置在顶侧,可以减小设备工作时工作室上部的剩余空间。相比传统卧式清洗机,在清洗相同有效容量器械的情况下,可以减小工作室的容积。

电气控制系统设置在清洗机主体01的第四层,电气控制系统包括电器控制柜43、打印机42和触摸屏41,打印机42和触摸屏41设置在电器柜的前侧。电气控制系统的正前侧设有控制面板,且控制面板向后凹陷形成安装槽,打印机42和触摸屏41均安装在安装槽内,且打印机42和触摸屏41的前侧面位于清洗机主体01前侧面的后方,及打印机42和触摸屏41相对于清洗机主体01的前侧面向内凹陷。当打开工作室门32时,工作室31内产生的水蒸气将上升,而打印机42和触摸屏41相对于清洗机主体01的前侧面向内凹陷,因此可防止水雾凝结在触摸屏41上。

由于工作室门32为侧开门,因此需要工作室31与工作室门32之间具有极强的密封性才能防止工作室31内的水不溢出。如图5所示,为了增强工作室门32和工作室31的密封性,工作室31内壁上设有环形凸棱311,环形凸棱311上设有密封槽312,环形凸棱311的上部设有贯穿环形凸棱311并将环形凸棱311内侧的工作室31空间和密封槽312连通的气孔313;工作室门32上设有与环形凸棱311相对且可变形的密封条321,密封条321内设有气腔,工作室门32上设有将气腔和外部连通的进气孔313,进气孔313内设有单向阀322,且还设有与气腔连通的泄气阀323。当关闭工作室门32后,工作室31内将被抽真空,因此外部空气空气通过单向阀322进入气腔,密封条321膨胀并嵌入环形凸棱311上的密封槽312内,从而增强密封性。当工作室31内的气压恢复常压后,由于进气孔313内设置有单向阀322,气腔内的气体无法排出,因此密封条321仍处于膨胀状态,从而可使工作室31具有较好的密封性。当打开工作门后,通过泄气阀323可排除气腔内的气体;另外,气孔313设置在环形凸棱311的上部可避免水通过气孔313进入密封槽312内。

以上所述的仅是本发明的实施例,方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出,对于本领域的技术人员来说,在不脱离本发明结构的前提下,还可以作出若干变形和改进,这些也应该视为本发明的保护范围,这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。本申请要求的保护范围应当以其权利要求的内容为准,说明书中的具体实施方式等记载可以用于解释权利要求的内容。

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