磁珠清洗方法及装置与流程

本发明涉及样本分析技术领域，特别涉及一种磁珠清洗方法及装置。

背景技术

发光免疫分析(chemicalluminescenceimmunityanalyzer，clia)是利用化学或生物发光系统作为抗原抗体反应的指示系统，借以定量检测抗原或抗体的方法，将发光分析和免疫反应相结合而建立的一种新型超微量分析技术。其兼具有发光分析的高灵敏性和抗原抗体反应的高度特异性。磁珠清洗在clia过程中不是反应步骤，但却是决定实验成败的关键。磁珠清洗的目的是洗去反应液中没有与固相抗原与抗体结合的物质以及在反应过程中非特异性吸附于固相载体的干扰物质。

目前，常规的磁珠清洗方式主要有以下两种方式：

第一种方式为：采用同一根清洗针，完成清洗液的加注和废液的抽取；第二种方式为：采用两根清洗针，分别实现清洗液的加注和废液的抽取。

然而，采用上述第一种方式，由于注液和抽液均采用同一根清洗针进行，那么，就无法对清洗针外壁和针尖进行清洗，易产生携带污染的同时，采用单针进行注液和抽液，在抽液时需要将管路中的废液抽净，在注液时，需要先对管路进行填充，再进行注液，如此流程复杂，清洗效率低，且不能保证注液精度；采用上述第二种方式，吸液针在抽取废液时，会和废液接触，将废液残留在针尖和针壁，在进行常规清洗时，有产生携带污染的风险。进一步的，容纳有反应液的反应杯在进行反应，和/或搬运，和/或混匀等过程中，有可能将反应液溅射在反应杯杯壁，产生溅液，从而导致最终的实验结果不精确。

技术实现要素：

本发明实施例的目的是提供一种磁珠清洗方法及装置，用以解决现有技术中存在的由于反应液溅射在反应杯杯壁，产生溅液，从而导致实验结果不精确的问题。

本发明实施例中提供的具体技术方案如下：

第一方面，本发明提供一种磁珠清洗方法，该磁珠清洗方法包括：向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；向该待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入该第二指定量的清洗液后，该待清洗反应杯中清洗液液面不低于该待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置；循环执行n次以下操作：采用双层清洗针的吸液针吸取该待清洗反应杯中的废液，并采用该双层清洗针的注液针向该待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，该双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且该注液针的注液口高于吸液针的吸液口，n为大于等于1的正整数；将该待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

采用本发明提供的磁珠清洗方法，通过二次注入清洗液的方式，使得待清洗反应杯中清洗液液面不低于待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，从而有效的对反应杯杯壁溅液进行稀释和清洗，这样就能够使得最终的实验结果更精确，进一步的，在吸、注液过程中，在采用双层清洗针的吸液针吸取完废液之后，采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入清洗液的同时，将吸液针吸取废液时携带的废液冲入待清洗反应杯中，避免了携带污染的产生。

可选的，向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液，包括：在检测到清洗站的取放工位有待清洗反应杯时，将上述待清洗反应杯旋转至上述清洗站的注液工位；并采用注液针向上述待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

上述可选的实施方式表征，一种具体的清洗站通过注液工位的注液针向待清洗反应杯中注入指定量的清洗液的方式。

可选的，在采用双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液之前，进一步包括：对所述待清洗反应杯进行磁吸附操作；在采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液之后，进一步包括：对上述待清洗反应杯解除磁吸附操作；在采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液之后，进一步包括：对上述待清洗反应杯中的磁珠进行混匀操作。

上述可选的方式表征，在对待清洗反应杯进行吸、注液的过程中，还可以对新注入清洗液的反应杯执行磁珠混匀操作，具体的，在吸取完废液之后，解除磁吸附操作，并注入新的清洗液，然后进行磁珠混匀操作。

可选的，上述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不低于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

上述可选的方式表征，从对待清洗反应杯进行吸、注液操作开始，在向待清洗反应杯中注入清洗液时，可以使得后续注入的清洗液液面高度不低于在注入第二指定量的清洗液后待清洗反应杯中清洗液液面高度，这样，就确保了后续的对待清洗的反应杯的清洗更彻底，更全面，使得最终的实验结果更准确。

第二方面，本发明提供一种磁珠清洗方法，该磁珠清洗方法包括：向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；循环执行m次以下操作：采用双层清洗针的注液针向该待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入所述第二指定量的清洗液后，所述待清洗反应杯中清洗液液面不低于所述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，并采用该双层清洗针的吸液针吸取该待清洗反应杯中的废液，以及采用该双层清洗针的注液针向该待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，该双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且该注液针的注液口高于吸液针的吸液口，m为大于等于1的正整数；将该待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

可选的，所述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不高于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

第三方面，本发明提供一种磁珠清洗装置，该磁珠清洗装置包括：第一注入单元，用于向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；第二注入单元，用于向上述待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入上述第二指定量的清洗液后，上述待清洗反应杯中清洗液液面不低于上述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置；执行单元，用于循环执行n次以下操作：采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液，并采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，上述双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且上述注液针的注液口高于吸液针的吸液口，n为大于等于1的正整数；吸取单元，用于将上述待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

可选的，在向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液时，上述第一注入单元用于：在检测到清洗站的取放工位有待清洗反应杯时，将上述待清洗反应杯旋转至上述清洗站的注液工位；并采用注液针向上述待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

可选的，在采用双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液之前，进一步包括：对所述待清洗反应杯进行磁吸附操作；在采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液之后，上述执行单元进一步用于：对上述待清洗反应杯解除磁吸附操作；在采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液之后，上述执行单元进一步用于：对上述待清洗反应杯中的磁珠进行混匀操作。

可选的，上述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不低于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

第四方面，本发明提供一种磁珠清洗装置，该磁珠清洗装置包括：注入单元，用于向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；执行单元，用于循环执行m次以下操作：采用双层清洗针的注液针向该待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入所述第二指定量的清洗液后，所述待清洗反应杯中清洗液液面不低于所述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，并采用该双层清洗针的吸液针吸取该待清洗反应杯中的废液，以及采用该双层清洗针的注液针向该待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，该双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且该注液针的注液口高于吸液针的吸液口，m为大于等于1的正整数；吸取单元，用于将该待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

可选的，所述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不高于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

第五方面，本发明提供一种计算设备，该计算设备包括：存储器，用于存储程序指令；处理器，用于调用上述存储器中存储的程序指令，按照获得的程序执行上述第一方面中任一项方法。

第六方面，本发明提供一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质存储有计算机可执行指令，上述计算机可执行指令用于使上述计算机执行上述第一方面中任一项方法。

本发明有益效果如下：

综上所述，采用本发明提供的磁珠清洗方法，通过二次注入清洗液的方式使得待清洗反应杯中清洗液液面高度不低于反应杯杯壁溅液的最高位置，从而有效的对反应杯杯壁溅液进行稀释和清洗，使得最终的实验结果更精确，并在吸、注液过程中，在采用双层清洗针的吸液针吸取完废液之后，采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入清洗液的同时，将吸液针吸取废液时携带的废液冲入待清洗反应杯中，避免了携带污染的产生。

附图说明

图1为本发明实施例中，第一种磁珠清洗方法的详细流程图；

图2为本发明实施例中，一种清洗站的结构示意图；

图3为本发明实施例中，一种双层清洗针的结构示意图；

图4为本发明实施例中，第二种磁珠清洗方法的详细流程图；

图5为本发明实施例中，第三种磁珠清洗方法的详细流程图；

图6为本发明实施例中，第四种磁珠清洗方法的详细流程图；

图7为本发明实施例中，一种磁珠清洗装置的结构示意图；

图8为本发明实施例中，另一种磁珠清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明实施例中介绍的技术方案，现给出部分术语的定义：

1、磁珠清洗，指的是洗去反应液中没有与固相抗原与抗体结合的物质以及在反应过程中非特异性吸附于固相载体的干扰物质的方法。

2、磁吸附操作，指的是通过磁吸附单元使得磁珠吸附在与磁吸附单元相对应的反应杯杯壁上的操作。

3、注液针，指的是只用于注液操作的单清洗针；吸液针，指的是只用于吸液操作的单清洗针。

4、双层清洗针，指的是包括注液针和吸液针，既可用于注液操作，亦可用于吸液操作的清洗针。

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，并不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

首先，本发明实施例中术语“和”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

当本发明提及“第一”、“第二”、“第三”或者“第四”等序数词时，除非根据上下文其确实表达顺序之意，否则应当理解为仅仅是起区分之用。

下面将通过具体实施例对本发明的方案进行详细描述，当然，本发明并不限于以下实施例。

参阅图1所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗方法的详细流程如下：

步骤100：向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

具体的，本发明实施例中在执行步骤100时，在检测到清洗站的取放工位有待清洗反应杯时，将所述反应杯旋转至所述清洗站的注液工位；并采用注液针向所述待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

实际应用中，对磁珠的清洗可以理解为通过清洗站对容纳有磁珠和反应液的反应杯的清洗，清洗站包括多个工作工位，可通过旋转使得待清洗反应杯旋转至不同工作工位上。

示例性的，参阅图2所示，可旋转清洗站的结构示意图。该清洗站可以包括取放工位和若干吸液，注液，和/或吸、注液工位(如，注液工位，第一吸、注液工位，第二吸、注液工位，第三吸注液工位和吸液工位)。

本发明实施例中，所谓取放工位，指的是将待清洗反应杯放置在清洗台上，以及从清洗台上取下已清洗完的反应杯的位置；所谓注液工位，指的是向待清洗反应杯中注入清洗液的工位；所谓吸液工位，指的是从待清洗反应杯中吸取废液的工位；所谓吸、注液工位，指的是既能从待清洗反应杯中吸取废液，亦能向待清洗反应杯中注入清洗液的工位。

本发明实施例中，当清洗站检测到取放工位上有待清洗反应杯时，将待清洗反应杯旋转至注液工位，并采用设置在该注液工位的清洗针，向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，用以稀释待清洗反应杯中反应液。实际应用中，在第一次向待清洗反应杯中注入清洗液时，清洗液的注入量不会太多，可以认为，在完成第一次清洗液注入之后，清洗液液面并不能覆盖反应杯杯壁溅液的最高位置。

当然，上述清洗针可以是只具备注液功能的注液针，也可以是本发明实施例中即将提及的双层清洗针。示例性的，参阅图3所示，双层清洗针的结构示意图。该双层清洗针吸液针1和注液针2，吸液针1和注液针2互不导通，注液针2连接至注液口4，通过导向套3将吸液针1，注液针2和注液口4连接在一起，该双层清洗针的注液针2套在吸液针1外侧，且注液针2的注液口高于吸液针1的吸液口。

实际应用中，吸液针1在吸取废液时，会与废液接触，那么，吸液针1在吸取废液之后，其外侧和吸液口会携带有废液，这样，在对下一待清洗反应杯进行吸液时，会对下一待清洗反应杯产生携带污染，而采用本发明提供的双层清洗针进行吸液和注液，由于该双层清洗针的注液针2套在吸液针1的外侧，且注液针2的注液口高于吸液针1的吸液口，那么，在吸液针1完成废液吸取之后，注液针2再注入清洗液的过程中，将吸液针1上携带的废液又重新冲洗入当前待清洗反应杯中，从而避免吸液针1对后续的待清洗反应杯的携带污染的发生。

步骤110：向上述待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入上述第二指定量的清洗液后，上述待清洗反应杯中清洗液液面不低于上述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置。

具体的，本发明实施例中，在执行步骤110时，在注液工位中向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液之后，将待清洗反应杯旋转至下一工位(可以是注液工位，也可以是吸、注液工位)，并向待清洗反应杯中再次注入一定量的清洗液，以确保待清洗反应杯中清洗液液面高度不低于待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，从而实现通过清洗液对待清洗反应杯杯壁溅液进行稀释和/或清洗。

若上述下一工位为注液工位，则采用设置在该注液工位的清洗针，向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液；若上述下一工位为吸、注液工位，则采用设置在该吸、注液工位的双层清洗针的注液针，向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液。

实际应用中，不同类型的反应杯，和/或不同类型的发光免疫分析，和/或在不同应用场景下，其在反应过程、搬运过程或者混匀过程中，反应杯内出现反应杯杯壁溅液的情况也不尽相同，那么，即可通过大量实验，确定出不同情况下的反应杯杯壁溅液的最高位置，进而可以根据第一次清洗液注入量和通过实验得到的反应杯杯壁溅液的最高位置，确定出第二次清洗液注入量。

步骤120：采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液，并采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液。

实际应用中，一般在吸取待清洗反应杯中废液之前，需要对待清洗反应杯进行磁吸附操作，从而使得磁珠吸附在杯壁上，以便进行废液的吸取。

具体的，本发明实施例中，若待清洗反应杯的当前所在工位为注液工位，那么，即需将待清洗反应杯旋转至吸、注液工位，进行磁吸附操作，并采用设置在该吸、注液工位的双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完成后，采用该双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，完成一次吸、注液操作。

若待清洗反应杯的当前所在工位为吸、注液工位，则进行磁吸附操作，并直接采用设置在该吸、注液工位的双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完成后，采用该双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，完成一次吸、注液操作。

进一步的，本发明实施例中，一种较佳的实施方式为，在采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液之前，对上述待清洗反应杯进行磁吸附操作；在采用双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液之后，对上述待清洗反应杯解除磁吸附操作；并在采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液之后，对上述待清洗反应杯中的磁珠进行混匀操作。也就是说，在一个吸、注液工位上一次完整的吸、注液操作可以包括：1、磁吸附操作，2、废液吸取，3、磁吸附操作解除，4、清洗液注入，5、磁珠混匀。

当然，在一个吸、注液工位可仅执行一次吸、注液操作，也可执行多次吸、注液操作；清洗站可以仅包括一个吸、注液工位，也可包括多个吸、注液工位；各吸、注液工位执行的吸、注液操作次数可以相同，也可以不同，各吸、注液操作中可以执行磁珠混匀操作，也可以不执行磁珠混匀操作。具体的应用情况可根据实际应用场景和/或用户需求进行相应设置。

步骤130：判断上述采用双层清洗针对上述待清洗反应杯进行吸、注液次数是否达到设定阈值，若是，则执行步骤140；否则，执行步骤120。

步骤140：将上述待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

本发明实施例中，需要将待清洗反应杯中废液吸取，以获得清洗后的磁珠，从而完成对磁珠的清洗。

实际应用中，若清洗站上设置有相应的吸液工位，则在完成最后一次吸、注液操作之后，将待清洗反应杯旋转至吸液工位，进行磁吸附操作，并采用设置在该吸液工位的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，以及将清洗后的反应杯旋转至取放工位，从而得到清洗后的磁珠。

若清洗站上未设置有相应的吸液工位，则在完成最后一次吸、注液操作之后，直接采用设置在当前所在吸、注液工位的双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并将清洗后的反应杯旋转至取放工位，从而得到清洗后的磁珠。

示例性的，参阅图4所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗方法的详细流程如下：

步骤400：向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

步骤410：循环执行m次以下操作：采用双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入上述第二指定量的清洗液后，上述待清洗反应杯中清洗液液面不低于上述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，并采用上述双层清洗针的吸液针吸取上述待清洗反应杯中的废液，以及采用上述双层清洗针的注液针向上述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液。

实际应用中，若注液工位的下一工位为第一吸、注液工位，则当待清洗反应杯运转至上述第一吸、注液工位后，采用设置在上述第一吸、注液工位的第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，以确保待清洗反应杯中清洗液页面高度不低于杯壁溅液的最高位置，之后，进行磁吸附操作，并采用该第一双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，进一步的，采用该第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，以便将该第一双层清洗针的吸液针吸取废液时携带的废液冲入待清洗反应杯中；在第一吸、注液工位完成二次注液之后，将待清洗反应杯旋转至下一工位，执行后续的磁珠清洗流程。

若下一工位为第二吸、注液工位，则可以选择对待清洗反应杯解除磁吸附操作，并采用设置在第二吸、注液工位的第二双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，之后，进行磁吸附操作，并采用该第二双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，进一步的，采用该第二双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，以便将该第二双层清洗针的吸液针吸取废液时携带的废液冲入待清洗反应杯中；在第二吸、注液工位完成二次注液之后，将待清洗反应杯旋转至下一工位，执行后续的磁珠清洗流程。

当然，本发明实施例中，在任意相邻的两个吸、注液工位之间还可以包括一个混匀工位，可以通过设置在该混匀工位上的混匀装置对上述待清洗反应杯中的磁珠进行混匀操作。

进一步的，本发明实施例中一种较佳的实施方式为，上述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不高于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。这样，就确保了待清洗反应杯在从一个工位运转至下一工位的过程中，待清洗反应杯中的清洗液不会溢出。

步骤420：将上述待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

若待清洗反应杯旋转至吸液工位，则采用设置在该吸液工位的吸液针将待清洗反应杯中的废液吸取完，获取清洗后的磁珠，完成磁珠清洗。

下面采用具体的应用场景对上述实施例作进一步详细说明，参阅图5所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗方法的详细流程如下：

步骤500：将待清洗反应杯运转至取放工位。

具体的，可以采用反应杯抓取机构将待清洗反应杯抓取至清洗站的取放工位处。

步骤501：判断取放工位是否有待清洗反应杯，若是，则执行步骤502；否则，执行步骤510。

具体的，清洗站可以检测到取放工位上是否放置有待清洗反应杯，并在检测到有待清洗反应杯时，继续执行后续清洗操作；若未检测到有待清洗反应杯，则发出警报和/或停机。

步骤502：将待清洗反应杯旋转至注液工位。

具体的，清洗站检测到取放工位有待清洗反应杯，则旋转清洗站，使得待清洗反应杯旋转至注液工位。

步骤503：利用注液针向待清洗反应杯中注入清洗液。

具体的，清洗站采用设置在注液工位的注液针向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

步骤504：将待清洗反应杯旋转至吸、注液工位，并对待清洗反应杯进行磁吸附操作。

具体的，清洗站完成在注液工位的第一次注液之后，将待清洗反应杯旋转至吸、注液工位，并启动磁吸附单元(如，磁铁，电磁铁等)对待清洗反应杯进行磁吸附操作，其中，每一吸、注液工位都设置有相应的可用于吸液和注液的双层清洗针，双层清洗针的吸液针可用于吸取待清洗反应杯中的废液，双层清洗针的注液针可用于向待清洗反应杯中注入清洗液。

步骤505：采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，使得清洗液液面不低于杯壁溅液的最高位置。

具体的，在对待清洗反应杯进行磁吸附操作之后，采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，以使得待清洗反应杯中清洗液液面不低于杯壁溅液的最高位置，从而实现对待清洗反应杯中杯壁溅液的稀释和清洗。

步骤506：采用双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液。

具体的，本发明实施例中，由于双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且注液针的注液口高于吸液针的吸液口，那么，在采用吸液针吸取完废液之后，再采用注液针向待清洗反应杯中注入清洗液，使得吸液针上携带的废液清洗下去，避免了将吸液针上携带的废液携带至下一待清洗反应杯中。

步骤507：判断在吸、注液工位对待清洗反应杯进行吸、注液操作的次数是否达到阈值，若是，则执行步骤508；否则，执行步骤506。

具体的，可根据不同应用场景和/或不同用户需求设置相应的阈值，例如，假设阈值为n，则可循环执行n次吸、注液操作，其中，n为大于等于1的正整数。

步骤508：将待清洗反应杯旋转至吸液工位，采用吸液针吸取待清洗反应杯中的废液。

具体的，清洗站在判定完成对待清洗反应杯的吸、注液操作之后，将待清洗反应杯旋转至吸液工位，并采用设置在吸液工位的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，此时，得到了清洗后的反应杯，清洗后的反应杯中容纳有清洗后的磁珠。

步骤509：将清洗后反应杯旋转至取放工位，完成磁珠清洗。

具体的，清洗站将待清洗反应杯旋转至取放工位，可取走清洗后的反应杯，完成磁珠清洗过程。

步骤510：报警和/或停机。

进一步的，结合图2所示的清洗站和图5所示的磁珠清洗流程，完成一次磁珠清洗的流程包括：将待清洗反应杯放置在清洗站取放工位；将待清洗反应杯旋转至注液工位，并采用注液针向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第一吸、注液工位，采用第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，并对待清洗反应杯进行磁吸附操作，以及采用第一双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，在吸取完废液之后，立即采用第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第二吸、注液工位，对待清洗反应杯进行磁吸附操作，采用第二双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完废液之后，立即采用第二双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第四指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第三吸、注液工位，对待清洗反应杯进行磁吸附操作，采用第三双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完废液之后，立即采用第三双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第四指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至吸液工位，并采用吸液针吸取待清洗反应杯中的废液；将清洗后的反应杯旋转至取放工位，取走清洗后的反应杯，得到清洗后的磁珠，完成磁珠清洗。当然，也可以在吸、注液过程中加入磁珠混匀操作。

下面采用具体的应用场景对上述实施例作进一步详细说明，参阅图6所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗方法的详细流程如下：

步骤600：将待清洗反应杯运转至取放工位。

步骤601：判断取放工位是否有待清洗反应杯，若是，则执行步骤602；否则，执行步骤609。

步骤602：将待清洗反应杯旋转至注液工位。

步骤603：利用注液针向待清洗反应杯中注入清洗液。

步骤604：将待清洗反应杯旋转至吸、注液工位，采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液，使得清洗液液面不低于杯壁溅液的最高位置。

步骤605：对待清洗反应杯进行磁吸附操作，采用双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入一定量的清洗液。

步骤606：判断在吸、注液工位对待清洗反应杯进行吸、注液操作的次数是否达到阈值，若是，则执行步骤607；否则，执行步骤604。

步骤607：将待清洗反应杯旋转至吸液工位，采用吸液针吸取待清洗反应杯中的废液。

步骤608：将清洗后反应杯旋转至取放工位，完成磁珠清洗。

步骤609：报警和/或停机。

进一步的，结合图2所示的清洗站和图6所示的磁珠清洗流程，完成一次磁珠清洗的流程包括：将待清洗反应杯放置在清洗站取放工位；将待清洗反应杯旋转至注液工位，并采用注液针向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第一吸、注液工位，采用第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，并对待清洗反应杯进行磁吸附操作，以及采用第一双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，在吸取完废液之后，立即采用第一双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第二吸、注液工位，采用第二双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第四指定量的清洗液，对待清洗反应杯进行磁吸附操作，采用第二双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完废液之后，立即采用第二双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至第三吸、注液工位，采用第三双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第四指定量的清洗液，对待清洗反应杯进行磁吸附操作，采用第三双层清洗针的吸液针吸取待清洗反应杯中的废液，并在吸取完废液之后，立即采用第三双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液；将待清洗反应杯旋转至吸液工位，并采用吸液针吸取待清洗反应杯中的废液；将清洗后的反应杯旋转至取放工位，取走清洗后的反应杯，得到清洗后的磁珠，完成磁珠清洗。当然，也可以在吸、注液过程中加入磁珠混匀操作。

基于上述实施例，参阅图7所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗装置，至少包括第一注入单元70，第二注入单元71，执行单元72和吸取单元73，其中，

第一注入单元70，用于向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；

第二注入单元71，用于向所述待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入所述第二指定量的清洗液后，所述待清洗反应杯中清洗液液面不低于所述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置；

执行单元72，用于循环执行n次以下操作：采用双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液，并采用所述双层清洗针的注液针向所述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，所述双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且所述注液针的注液口高于吸液针的吸液口，n为大于等于1的正整数；

吸取单元73，用于将所述待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

可选的，在向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液时，所述第一注入单元70用于：

在检测到清洗站的取放工位有待清洗反应杯时，将所述待清洗反应杯旋转至所述清洗站的注液工位；并

采用注液针向所述待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液。

可选的，在采用双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液之前，所述执行单元72进一步用于：对所述待清洗反应杯进行磁吸附操作；

在采用双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液之后，所述执行单元72进一步用于：对所述待清洗反应杯解除磁吸附操作；

在采用所述双层清洗针的注液针向所述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液之后，所述执行单元72进一步用于：对所述待清洗反应杯中的磁珠进行混匀操作。

可选的，所述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不低于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

示例性的，参阅图8所示，本发明实施例中，一种磁珠清洗装置，至少包括注入单元80，执行单元81和吸取单元82，其中，

注入单元80，用于向待清洗反应杯中注入第一指定量的清洗液；

执行单元81，用于循环执行m次以下操作：采用双层清洗针的注液针向所述待清洗反应杯中注入第二指定量的清洗液，其中，在注入所述第二指定量的清洗液后，所述待清洗反应杯中清洗液液面不低于所述待清洗反应杯杯壁溅液的最高位置，并采用所述双层清洗针的吸液针吸取所述待清洗反应杯中的废液，以及采用所述双层清洗针的注液针向所述待清洗反应杯中注入第三指定量的清洗液，其中，所述双层清洗针的注液针套在吸液针外侧，且所述注液针的注液口高于吸液针的吸液口，m为大于等于1的正整数；

吸取单元82，用于将所述待清洗反应杯中废液吸取，完成磁珠清洗。

可选的，所述待清洗反应杯在注入第三指定量的清洗液之后，清洗液液面高度不高于在注入第二指定量的清洗液后的清洗液液面高度。

综上所述，采用本发明提供的磁珠清洗方法，通过二次注入清洗液的方式使得待清洗反应杯中清洗液液面高度不低于反应杯杯壁溅液的最高位置，从而有效的对反应杯杯壁溅液进行稀释和清洗，使得最终的实验结果更精确，并在吸、注液过程中，在采用双层清洗针的吸液针吸取完废液之后，采用双层清洗针的注液针向待清洗反应杯中注入清洗液的同时，将吸液针吸取废液时携带的废液冲入待清洗反应杯中，避免了携带污染的产生。

本领域内的技术人员应明白，本发明的实施例可提供为方法、系统、或计算机程序产品。因此，本发明可采用完全硬件实施例、完全软件实施例、或结合软件和硬件方面的实施例的形式。而且，本发明可采用在一个或多个其中包含有计算机可用程序代码的计算机可用存储介质(包括但不限于磁盘存储器、cd-rom、光学存储器等)上实施的计算机程序产品的形式。

本发明是参照根据本发明实施例的方法、设备(系统)、和计算机程序产品的流程图和/或方框图来描述的。应理解可由计算机程序指令实现流程图和/或方框图中的每一流程和/或方框、以及流程图和/或方框图中的流程和/或方框的结合。可提供这些计算机程序指令到通用计算机、专用计算机、嵌入式处理机或其他可编程数据处理设备的处理器以产生一个机器，使得通过计算机或其他可编程数据处理设备的处理器执行的指令产生用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的装置。

这些计算机程序指令也可存储在能引导计算机或其他可编程数据处理设备以特定方式工作的计算机可读存储器中，使得存储在该计算机可读存储器中的指令产生包括指令装置的制造品，该指令装置实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能。

这些计算机程序指令也可装载到计算机或其他可编程数据处理设备上，使得在计算机或其他可编程设备上执行一系列操作步骤以产生计算机实现的处理，从而在计算机或其他可编程设备上执行的指令提供用于实现在流程图一个流程或多个流程和/或方框图一个方框或多个方框中指定的功能的步骤。

尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。

显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明实施例的精神和范围。这样，倘若本发明实施例的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。