一种污水处理用污泥脱水机的制作方法

本实用新型涉及污泥脱水机技术领域，尤其涉及一种污水处理用污泥脱水机。

背景技术：

污水处理所产生的污泥具有较高的含水量，由于水分与污泥颗粒结合的特性，采用机械方法脱除具有一定的限制，污泥中的有机质含量、灰分比例特别是絮凝剂的添加量对于最终含固率有着重要影响。一般来说，采用机械脱水可以获得20%－30%的含固率，所形成的污泥也被称为泥饼。泥饼的含水率仍然较高，具有流体性质，其处置难度和成本仍然较高，因此有必要进一步减量。此时，在自然风干之外，只有通过输入热量形成蒸发，才能够实现大规模减量。采用热量进行干燥的处理就是热干化。

现有的污泥脱水机结构复杂，污泥脱水耗能高，购置成本高，无法满足使用者的使用需求，为此我们设计出一种污水处理用污泥脱水机，来解决上述问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种污水处理用污泥脱水机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种污水处理用污泥脱水机，包括设备主体，所述设备主体的内部设置有脱水室，所述脱水室的底部安装有第一输送装置，且第一输送装置水平设置，所述第一输送装置的上方安装有倾斜的第二输送装置，所述第一输送装置的底部设置有集水槽，所述第一输送装置包括两个第一驱动辊，且两个第一驱动辊之间等距离安装有第一支撑辊，所述第一驱动辊和第一支撑辊的外部设置有滤网，所述第二输送装置包括两个第二驱动辊，且两个第二驱动辊之间等距离安装有第二支撑辊，所述第二驱动辊和第二支撑辊的外部安装有传送履带，所述第一输送装置和第二输送装置相互靠近一端的设备主体处设置有污泥排出口，且污泥排出口贴近滤网和传送履带的位置均安装有弧形刮板，所述设备主体远离污泥排出口的一端沿纵向设置有输送通道，所述输送通道内安装有螺旋状的下料桨，所述设备主体的顶部设置有污泥进口，且污泥进口与输送通道连通。

优选的，所述第一输送装置和第二输送装置之间形成的锐角为15度-20度。

优选的，所述第一驱动辊和第二驱动辊均由伺服电机驱动。

优选的，所述集水槽为漏斗状结构，且底部设置有排水管，排水管延伸至设备主体的外部，并设置有止水阀。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型中，通过第一输送装置和第二输送装置之间逐渐减小的间隙，对污泥进行压缩，将其内部的水分挤压出来，达到对污泥进行脱水的目的，进料通道处安装的下料桨以及第一输送装置和第二输送装置使得污泥朝向污泥排放口移动，提高污泥的移动和脱水效率，且本装置结构简单，使用便捷，能耗低，操作容易，适宜推广使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种污水处理用污泥脱水机的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种污水处理用污泥脱水机的第一输送装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-2，一种污水处理用污泥脱水机，包括设备主体1，设备主体1的内部设置有脱水室2，脱水室2的底部安装有第一输送装置，且第一输送装置水平设置，第一输送装置的上方安装有倾斜的第二输送装置，第一输送装置和第二输送装置之间形成的锐角为15度-20度，第一输送装置的底部设置有集水槽6，集水槽6为漏斗状结构，且底部设置有排水管，排水管延伸至设备主体1的外部，并设置有止水阀，第一输送装置包括两个第一驱动辊3，且两个第一驱动辊3之间等距离安装有第一支撑辊4，第一驱动辊3和第一支撑辊4的外部设置有滤网5，第二输送装置包括两个第二驱动辊7，第一驱动辊3和第二驱动辊7均由伺服电机驱动，且两个第二驱动辊7之间等距离安装有第二支撑辊8，第二驱动辊7和第二支撑辊8的外部安装有传送履带9，第一输送装置和第二输送装置相互靠近一端的设备主体1处设置有污泥排出口，且污泥排出口贴近滤网5和传送履带9的位置均安装有弧形刮板10，设备主体1远离污泥排出口的一端沿纵向设置有输送通道11，输送通道11内安装有螺旋状的下料桨12，设备主体1的顶部设置有污泥进口13，且污泥进口13与输送通道11连通。

本实用新型在使用时，通过污泥进口13向设备主体1的脱水室2内加注污泥，污泥在经过输送通道11时，由下料桨12将污泥推向脱水室2，脱水室2内的第一输送装置和第二输送装置均朝向污泥排出口转动，随着第一输送装置和第二输送装置之间逐渐减小的间隙，对污泥进行压缩，将其内部的水分挤压出来，挤出的水分穿过滤网5滴落至集水槽6，污泥随着第一输送装置和第二输送装置的输送挤压作用，朝向污泥排出口移动，移动至污泥排出口时，弧形刮板10将滤网5和传送履带9上的污泥刮落，达到对污泥进行脱水的目的。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。