一种窑炉嘴清洁装置的制作方法

本实用新型涉及窑炉设备技术领域，具体涉及一种玻璃窑炉的窑炉嘴清洁装置。

背景技术：

玻璃窑炉通过窑炉嘴进行浇铸，浇铸完成后，窑炉嘴上会残留部分耐火材料，为了不影响下次浇铸，需对窑炉嘴上的残余材料进行清理。目前，由于各生产玻璃窑炉的厂家所用的窑炉8都是小规模的，窑炉8前面的凹坑9也较小，窑炉嘴81朝向凹坑9，对窑炉嘴81进行清洁的方法如图3所示，是在凹坑9上放置一个推车10，当需要对窑炉嘴81进行清洁时，通过气缸调节窑炉8上窑炉嘴81的倾斜角度，使得窑炉嘴81向下倾斜，然后将推车10移动到窑炉嘴81附近，技术人员站到推车10上用清洁杆对窑炉嘴81进行清洁，敲掉干物料。但是，这种方法只适合小规模的窑炉，对于中、大规模的窑炉，其前面的凹坑较大，无法使用宽度较窄的推车，无法对窑炉嘴进行清理。

技术实现要素：

针对上述现有技术中的不足，本实用新型提供一种窑炉嘴清洁装置，其适用于中、大规模窑炉的窑炉嘴的清洁。

本实用新型的目的是以下述方式实现的：

一种窑炉嘴清洁装置，包括双层机架1，双层机架1的下方设有轨道3，双层机架1的底端安装有滑轮，滑轮位于轨道3中，双层机架1连接有电机7；所述双层机架1由上层机架11和下层机架12焊接而成，上层机架11的一端沿下层机架12伸出，上层机架11的另一端侧面焊接有爬梯，爬梯的底端靠近地面，上层机架11内滑动套接有伸缩架2。

所述上层机架11的伸出端与下层机架12之间焊接有支撑架4。

所述上层机架11上靠近爬梯的一端设有下料筒15，下料筒15穿出上层机架11，下层机架12上设有储料仓6，储料仓6位于下料筒15的正下方。

所述上层机架11和伸缩架2均为U型，上层机架11的靠近爬梯一端焊接有拦杆5，伸缩架2的外端也焊接有拦杆5。

所述上层机架11的伸出端的伸出距离等于下层机架12的高度。

有益效果：相对于现有技术，本实用新型巧妙设计可伸缩的机架，可根据窑炉规模调节伸缩距离，适用于中、大规模窑炉的窑炉嘴的清洁，结构简单，操作简易，又节省空间。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图2是图1的正视图。

图3是现有技术的示意图。

其中，1是双层机架，11是上层机架，12是下层机架，13是下横梁，14是上横梁，15是下料筒；2是伸缩架，21是横梁滑轨；3是轨道；4是支撑架；5是拦杆；6是储料仓；7是电机；8是窑炉；9是凹坑；10是推车；81是窑炉嘴。

具体实施方式

如图1-2所示，一种窑炉嘴清洁装置，包括双层机架1，双层机架1的下方设有轨道3，双层机架1的底端安装有滑轮（图中未画出），滑轮位于轨道3中，双层机架1连接有电机7；所述双层机架1由上层机架11和下层机架12焊接而成，上层机架11的一端沿下层机架12伸出，上层机架11的另一端侧面焊接有爬梯（图中未画出），爬梯的底端靠近地面，上层机架11内滑动套接有伸缩架2。伸缩架2的靠近爬梯的内端设有固定装置（图中未画出），固定装置将伸缩架2与上层机架11锁紧、固定，固定装置可为螺栓，也可以是其他固定结构。上述上层机架11的伸出端长度与伸缩架2的长度，可根据窑炉规模、凹坑规模来设计。

上述下层机架12的最底端为下横梁13，下横梁13上内嵌有滑轮，滑轮通过电机7驱动。上层机架11的下端为上横梁14，下横梁14上设有滑道（图中未画出），伸缩架2的下端设有横梁滑轨21，横梁滑轨21位于滑道中，可沿滑道移动。伸缩架2的结构也可设置为折叠架。

为了双层机架1更稳固，所述上层机架11的伸出端与下层机架12之间焊接有支撑架4。

为了便于将清洁后的废料转移至下层的储料仓6中，所述上层机架11上靠近爬梯的一端设有下料筒15，下料筒15穿出上层机架11，下层机架12上设有储料仓6，储料仓6位于下料筒15的正下方。

所述上层机架11和伸缩架2均为U型，上层机架11的靠近爬梯一端焊接有拦杆5，伸缩架2的外端也焊接有拦杆5。这样的结构既保证了操作人员的安全，又最大限度地节省了清洁装置的材料。

优选地，所述上层机架11的伸出端的伸出距离等于下层机架12的高度。

本实用新型工作时，本清洁装置垂直于窑炉嘴81，启动电机7，电机7驱动双层机架1在轨道3上向窑炉嘴81方向滑动，直至下层机架12靠近凹坑9边缘，然后关闭电机7。清洁工人顺着爬梯爬至上层机架11，手动推动伸缩架2，横梁滑轨21在滑道上移动，直至伸缩架2的外端位于窑炉嘴81的前方，便于工人进行清洁作业，然后通过固定装置将伸缩架2与上层机架11锁紧固定。接着，工人通过伸缩架2走到靠近窑炉嘴81的适宜位置，利用清洁杆敲掉窑炉嘴81上的废料。清洁完毕后，将废料转移到伸缩架2的非伸出端，通过下料筒15将废料倒入储料仓6中。

以上所述的仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本实用新型整体构思前提下，还可以作出若干改变和改进，这些也应该视为本实用新型的保护范围，这些都不会影响本实用新型实施的效果和专利的实用性。