一种整平台的清理装置的制作方法

文档序号:18316871发布日期:2019-07-31 21:59阅读:253来源:国知局
一种整平台的清理装置的制作方法

本实用新型涉及XPS塑料板生产技术领域,更具体地说,它涉及一种整平台的清理装置。



背景技术:

XPS塑料板是以聚苯乙烯树脂为原料加上其他的原辅料与聚含物,通过加热混合同时注入催化剂,然后挤塑压出成型而制造的硬质泡沫塑料板。XPS塑料板具有完美的闭孔蜂窝结构,这种结构让XPS塑料板有极低的吸水性、低热导系数、高抗压性、抗老化性。XPS塑料板在生产过程中,首先被加热成熔融状态,再通过挤塑机挤出,进入整平台内平行设置的上压板与下压板之间,被塑成板状,经过冷却即可成型,再被传送进入切割工序中,得到满足需求的塑料板。

整平台内的上压板与下压板为水平平行放置,容易堆积灰尘等杂质,由于初进入上压板内的原料依旧为熔融状态,容易混入整平台内的一些灰尘杂质,影响塑料板的生产品质,现有技术中的清理装置通过风机吹扫灰尘,往往清理得不彻底,仍然有部分积尘残留。



技术实现要素:

针对现有技术中整平台积尘清理不彻底的问题,本实用新型提供一种整平台的清理装置,其具有清理彻底、清理效率高的优点。

为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:

一种整平台的清理装置,包括机架,所述机架内固定有下压板,所述机架内升降设置有上压板,所述上压板与所述下压板之间滑移设置有滚轴,所述滚轴周侧固定有毛刷;

所述机架顶部固定有风机,所述风机连通有风管,所述风管远离所述风机的一端置于所述上压板与所述下压板之间,所述机架内固定有水箱,所述水箱连通有水管,所述水管远离所述水箱的一端置于所述上压板与所述下压板之间,所述水箱与所述水管之间固定有水泵。

通过上述技术方案,调整上压板的高度,控制上压板与下压板之间的距离,驱动滚轴滑移进入上压板与下压板之间,水泵将水箱内的水通过水管喷入下压板上,毛刷通过滚轴的滑移对上压板与下压板相互靠近的两面实现全方位的清洗,清洗操作完成后,风机启动,直至吹干上压板与下压板。升降设置的上压板与滑移设置的滚轴便于毛刷全方位接触并清理上压板与下压板相互靠近的两面,水箱与水管的设置便于水流对上压板与下压板的冲刷,风机有利于快速干燥清洗后湿润的上压板与下压板。

进一步的,所述滚轴一端同轴固定有齿轮,所述机架内固定有与所述齿轮啮合连接的齿条,所述齿轮远离所述滚轴的一侧设置有用于驱动所述齿轮沿所述齿条运动的驱动装置。

通过上述技术方案,齿轮沿着齿条运动,带动滚轴沿着齿条的方向呈直线滚动前进,从而带动毛刷在上压板与下压板之间一边转动刷洗,一边前进,实现对上压板与下压板的全方位刷洗。

进一步的,所述驱动装置包括穿设在所述齿轮轴线处的滑块,所述滑块内穿设有与所述齿条平行设置的丝杆,所述机架上固定有与所述丝杆传动连接的驱动电机。

通过上述技术方案,驱动电机驱动丝杆旋转,实现滑块的滑移,从而带动齿轮与滚轴一同沿着齿条的长度方向滑移,而由于齿轮与齿条的啮合连接,齿轮实现转动滑移。

进一步的,所述机架内设置有与所述齿条平行的限位板,所述限位板远离所述驱动电机的一端开设有旋转槽。

通过上述技术方案,限位板限制了滑块在丝杆上转动,使得滑块只能沿着丝杆直线滑移,当滑块、齿轮和滚轴沿着滑移至旋转槽时,失去了限位板的限制,滑块可绕着丝杆转动,带动滚轴转动至竖直状态,从而将毛刷收纳起来,避免占用下压板与上压板之间的空间从而影响塑料板的生产。

进一步的,所述机架上固定有用于驱动所述上压板升降的动力气缸,所述上压板四周固定有用于配合所述上压板升降的滑轮。

通过上述技术方案,动力气缸实现上压板高度的调整,便于毛刷能同时接触并刷洗到上压板与下压板,上压板在升降过程中,通过滑轮配合减小上压板升降过程中受到的摩擦力,保证上压板实现垂直升降,不会偏离方向。

进一步的,所述水管远离所述水箱的一端固定有朝向所述下压板设置的喷头。

通过上述技术方案,喷头将从水管喷出的水呈花洒状喷出,便于水流溅射更广,能充分清洗到距离喷头较远的地方。

进一步的,所述机架底面固定有多个万向轮。

通过上述技术方案,机架便于工人进行推动转移,节省工人的劳动强度。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果如下:

(1)滚动前进的滚轴便于毛刷对上压板与下压板的全方位刷洗,使清洗更加彻底,水箱与水管的设置便于水流对上压板与下压板的冲刷,风机有利于快速干燥清洗后湿润的上压板与下压板,提高了清理效率;

(2)限位板使得清理过程中毛刷能边旋转刷洗边前进,旋转槽使得清理完成后毛刷能竖直收纳起来,不影响整平台的正常生产工作;

(3)升降设置的上压板可调整上压板与下压板之间的距离,便于毛刷同时刷到上压板与下压板相互靠近的一面。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图;(用于展示毛刷收纳后)

图2是本实用新型的整体结构示意图;(用于展示毛刷工作时)

图3是沿图1中A-A线的剖视图;

图4是图3中B部局部放大图。

附图标记:1、机架;2、下压板;3、上压板;4、滚轴;5、毛刷;6、风机;7、风管;8、水箱;9、水管;10、水泵;11、齿轮;12、齿条;13、滑块;14、丝杆;15、驱动电机;16、限位板;17、旋转槽;18、动力气缸;19、滑轮;20、喷头;21、万向轮。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案和有益效果更加清楚,下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步的详细说明,但本实用新型的实施方式不仅限于此。

一种整平台的清理装置,参照图1和图2,包括机架1,机架1底面固定有多个万向轮21,万向轮21优选为四个且分别置于机架1的四角。机架1内固定有水平设置的下压板2,机架1内升降设置有上压板3,上压板3与下压板2平行设置,上压板3与下压板2形状大小、厚度均一致。机架1上固定有用于驱动上压板3升降的动力气缸18,动力气缸18的活塞杆与上压板3远离下压板2的一面固定连接,上压板3靠近动力气缸18的一面于边缘处固定有多个滑轮19,滑轮19优选为四个且分别置于四角。动力气缸18驱动上压板3升降,上压板3通过滑轮19在机架1内升降滑移,减小了上压板3升降过程中受到的摩擦力,实现上压板3与下压板2之间的距离调整,既能满足不同厚度塑料板的生产,又便于清洗。

参照图1和图2,机架1顶部固定有风机6,风机6的出风口连通有风管7,风管7远离风机6的一端置于上压板3与下压板2之间。机架1内于远离风机6的一端固定有水箱8,水箱8顶面设置有进水口,水箱8底部连通有水管9,水管9远离水箱8的一端置于上压板3与下压板2之间且固定有用于溅射水流的喷头20,喷头20出口朝向下压板2设置,水箱8与水管9之间固定有水泵10。水泵10将水从水箱8中泵处,喷头20呈花洒状设置,使水流溅射更广,能充分清洗到距离喷头20较远的地方。清洗完成后,风机6能加速吹干上压板3与下压板2,便于整平台能快速干燥,并在干净的环境下生产作业。

参照图1和图2,上压板3与下压板2之间滑移设置有滚轴4,滚轴4与下压板2平行设置,滚轴4周侧固定有毛刷5。参照图3和图4,滚轴4一端同轴固定有齿轮11,机架1内固定有水平设置的限位板16,限位板16与滚轴4呈正交设置,限位板16远离底座的一面固定有与齿轮11啮合连接的齿条12,齿条12的齿纹朝向机架1顶面设置。齿轮11中心轴线处铰接连接有滑块13,滑块13呈“T”字形,滑块13内螺纹穿设有丝杆14,丝杆14与齿条12平行设置,机架1上固定有与丝杆14传动连接的驱动电机15,限位板16远离驱动电机15的一端开设有旋转槽17,旋转槽17呈“C”字形。

参照图1和图2,驱动电机15驱动丝杆14旋转,通过滑块13带动齿轮11在齿条12上转动前进,从而实现毛刷5的转动,完成清刷,配合水流的喷射,转动前进的毛刷5对上压板3与下压板2的刷洗更加彻底、干净。滑块13在机架1内时,限位板16与滑块13抵接并且限位板16限制了滑块13绕丝杆14转动,使滑块13只能沿着丝杆14做直线运动,当滑块13滑移出机架1,进入到旋转槽17内时,滑块13可在旋转槽17内绕丝杆14旋转,直至毛刷5到竖直状态,使毛刷5收纳起来,避免占用下压板2与上压板3之间的空间从而影响整平台的正常工作。

本实用新型的工作原理及有益效果如下:

动力气缸18上压板3升降,控制上压板3与下压板2之间的距离,使毛刷5能同时接触并刷洗到上压板3与下压板2。驱动电机15驱动丝杆14旋转,使滑块13绕着丝杆14旋转,直至毛刷5旋转到水平位置。此时,齿轮11与齿条12啮合,使滑块13的旋转受到限制,之后滑块13沿着齿条12的长度方向滑移,从而实现齿轮11在齿条12上转动前进,使滚轴4滑移进入上压板3与下压板2之间,直至靠近驱动电机15。驱动电机15反向驱动丝杆14转动,清理工作开始,毛刷5在上压板3与下压板2之间向旋转槽17的方向转动前进并刷洗上压板3与下压板2,水泵10将水箱8内的水通过水管9喷入上压板3与下压板2之间,实现全方位的清洗,多次清洗操作后,风机6启动,加速上压板3与下压板2的干燥,当滑块13运动到旋转槽17位置时,恢复旋转运动并绕丝杆14旋转,使滚轴4与毛刷5成竖直状态收纳起来,避免影响整平台的生产工作。

升降设置的上压板3可调整上压板3与下压板2之间的距离,便于毛刷5同时刷到上压板3与下压板2相互靠近的一面,滚动前进的滚轴4便于毛刷5的全方位刷洗,水箱8与水管9的设置便于水流对上压板3与下压板2的冲刷,喷头20可使水流喷射面更广,清洗更加彻底,风机6有利于快速干燥清洗后湿润的上压板3与下压板2。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例,凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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