清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机的制作方法

文档序号:28684085发布日期:2022-01-29 10:21阅读:158来源:国知局
清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆清洗技术领域,尤其涉及清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机。


背景技术:

2.化学机械平坦化技术是化学作用和机械作用相结合的技术。其工作原理是,首先工件表面材料与抛光液中的氧化剂等发生化学反应,生成一层相对容易去除的软质层,然后在抛光液中的磨料和抛光垫的机械作用下去除该软质层,使工件表面重新裸露出来,随后再进行化学反应,介此在化学作用过程和机械作用过程的共同作用下完成工件表面抛光。因此,在晶圆清洗过程中,如何提供清洗液,就成为一个亟待解决的问题。


技术实现要素:

3.有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机。
4.为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:一种清洗液提供设备,包括:存储装置,所述存储装置设置n个开口朝上且相互分隔的存储格,每个存储格的底部都设置有出液口,出液口中设置有液体探测传感器;药液提供装置,所述药液提供装置设置有药液出口;加热装置,所述加热装置设置有n个进口、n个出口和n个热交换器,所述n个进口、n个出口和n个热交换器一一对应,每个热交换器一端连通通对应的进口、另一端连通对应的出口;其中,n为自然数。
5.可选的,所述热交换器放置于恒温装置内。
6.可选的,所述存储装置的左右两侧均设置有滑轨。
7.可选的,n个所述存储格沿前后方向分布。
8.可选的,所述存储装置还设置有拖线。
9.本发明实施例还提供了一种晶圆清洗机,包括上述的清洗液提供设备。
10.与现有技术相比,本实用新型中的清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机的优点为:本发明实施例公开了一种清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机,该清洗液提供设备包括:存储装置,所述存储装置设置n个开口朝上且相互分隔的存储格,每个存储格的底部都设置有出液口,出液口中设置有液体探测传感器;药液提供装置,所述药液提供装置设置有药液出口;加热装置,所述加热装置设置有n个进口、n个出口和n个热交换器,所述n个进口、 n个出口和n个热交换器一一对应,每个热交换器一端连通通对应的进口、另一端连通对应的出口;其中,n为自然数。从而能够提供清洗液。
附图说明
11.图1和图2为本实用新型实施例中的存储装置的立体图;
12.图3为本实用新型实施例中的加热装置的立体图。
具体实施方式
13.为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
14.需要理解的是,在本实用新型的描述中,术语“上”“下”“竖直”以晶圆清洗机正常使用的状态为参考。这些指示方位或位置关系的术语,包括但不限于“上”“下”“竖直”,仅是为了方便描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
15.此外,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
16.在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
17.本实用新型实施例一提供了一种清洗液提供设备,包括:
18.存储装置1,所述存储装置1设置n个开口朝上且相互分隔的存储格11,每个存储格 11的底部都设置有出液口14,出液口14中设置有液体探测传感器;药液提供装置12,所述药液提供装置12设置有药液出口;加热装置2,所述加热装置2设置有n个进口、n个出口和n个热交换器21,所述n个进口、n个出口和n个热交换器21一一对应,每个热交换器21一端连通通对应的进口、另一端连通对应的出口;其中,n为自然数。这里,该存储装置1具有多个存储格11,每个存储格11都能够存储有清洗液,每个存储格11都有一个出液口14,且该加热装置2能够为每个出液口流出的清洗液进行加热。这里,药液提供装置可以为一个存放液体的瓶子(即用于处理硅片的药液),该瓶子的上表面设置有一个盖子,在该盖子上设置有药液出口和进气口,当瓶内药液用完了,把上面的盖子取下来,往瓶内加药液。而当通过进气口向瓶内输入缩空气时,该药液出口就会向外提供药液。该液体探测传感器能够用于检测瓶内液体是否还有药液,当检测到药液已经抽空了,会报警提示。
19.本实施例中,所述热交换器21放置于恒温装置内。
20.本实施例中,所述存储装置1的左右两侧均设置有滑轨13。
21.本实施例中,n个存储格11沿前后方向分布。
22.所述存储装置1还设置有拖线15。
23.本发明实施例二提供了一种晶圆清洗机,包括实施例一中的清洗液提供设备。
24.以上所述,仅为本实用新型的较佳实施例而已,并非用于限定本实用新型的保护范围,凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征:
1.一种清洗液提供设备,其特征在于,包括:存储装置(1),所述存储装置(1)设置n个开口朝上且相互分隔的存储格(11),每个存储格(11)的底部都设置有出液口(14),出液口(14)中设置有液体探测传感器;药液提供装置(12),所述药液提供装置(12)设置有药液出口;加热装置(2),所述加热装置(2)设置有n个进口、n个出口和n个热交换器(21),所述n个进口、n个出口和n个热交换器(21)一一对应,每个热交换器(21)一端连通通对应的进口、另一端连通对应的出口;其中,n为自然数。2.根据权利要求1所述的清洗液提供设备,其特征在于;所述热交换器(21)放置于恒温装置内。3.根据权利要求1所述的清洗液提供设备,其特征在于;所述存储装置(1)的左右两侧均设置有滑轨(13)。4.根据权利要求1所述的清洗液提供设备,其特征在于;n个所述存储格(11)沿前后方向分布。5.根据权利要求1所述的清洗液提供设备,其特征在于;所述存储装置(1)还设置有拖线(15)。6.一种晶圆清洗机,其特征在于,包括权利要求1-5任一项所述的清洗液提供设备。

技术总结
本实用新型公开了一种清洗液提供设备及具有其的晶圆清洗机,该清洗液提供设备包括:存储装置,所述存储装置设置N个开口朝上且相互分隔的存储格,每个存储格的底部都设置有出液口,出液口中设置有液体探测传感器;药液提供装置,所述药液提供装置设置有药液出口;加热装置,所述加热装置设置有N个进口、N个出口和N个热交换器,所述N个进口、N个出口和N个热交换器一一对应,每个热交换器一端连通通对应的进口、另一端连通对应的出口;其中,N为自然数。从而能够提供清洗液。从而能够提供清洗液。从而能够提供清洗液。


技术研发人员:唐君 阙进林 李永祥 成林
受保护的技术使用者:苏州中辉半导体设备有限公司
技术研发日:2020.11.18
技术公布日:2022/1/28
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