一种电镀废水还原处理装置的制作方法

1.本实用新型涉及电镀废液处理装置技术领域，具体而言，涉及一种电镀废水还原处理装置。


背景技术：

2.现阶段人们对于电镀工业废水处理的方式，通常有物理、吸附、生物和化学多种方法，当人们使用化学还原法对电镀工业废水进行处理时，其方法是在废水中加入还原剂，使得还原剂与废水反应，达到处理废水的效果。
3.现有的电镀工业废水处理回用装置，通常通过直接向装置内的废水中加入还原剂来进行反应，这样虽然能够对电镀工业废水进行处理，但是无法有效的保证还原剂的有效利用，会存在用料不均的情况导致还原剂的浪费，公开号为cn216764426u的中国实用新型专利电镀工业废水处理回用装置，该申请通过储料盒储存还原剂，并通过十二个出料嘴出料达到了均匀出料的效果，但该申请中的储料盒要用人工定期向里面添加还原剂，就会导致整个操作过程变得复杂繁琐起来且会消耗时间。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种电镀废水还原处理装置，无需人为进行还原剂的添加，简化操作流程。
5.本实用新型的实施例是这样实现的：
6.本技术实施例提供一种电镀废水还原处理装置，包括处理装置本体设置在处理装置本体上的滑动组件，上述滑动组件上设有固定块，上述固定块上开设有储液腔，上述固定块上设有与上述储液腔连通的进液管，上述固定块上周向开设有多个与上述储液腔连通的排液通道，多个上述排液通道均位于同一水平面上。
7.在本实用新型的一些实施例中，上述固定板上设有滑杆，上述滑杆上滑动连接有固定板，上述固定板上开设有供上述滑杆通过的通孔，上述固定板连接在上述滑动组件上，上述固定块上设有弹簧，上述弹簧的自由端与上述滑动组件相连接。
8.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块上还设有与上述储液腔连通的出液口，上述出液口上设有开关阀门。
9.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块上可拆卸连接有盖子，上述盖子用于覆盖上述储液腔和多个上述排液通道。
10.在本实用新型的一些实施例中，上述进液管与上述固定块的连通处设有单向阀。
11.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块上设有观察窗口。
12.相对于现有技术，本实用新型的实施例至少具有如下优点或有益效果：
13.本技术实施例提供一种电镀废水还原处理装置，处理装置本体设置在处理装置本体上的滑动组件，上述滑动组件上设有固定块，上述固定块上开设有储液腔，上述固定块上设有与上述储液腔连通的进液管，上述固定块上周向开设有多个与上述储液腔连通的排液
通道，多个上述排液通道均位于同一水平面上。该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架和滑动连接杆，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架，导轨架之间滑动式设置有滑动连接杆。固定块则是设置在滑动组件中的滑动连接杆上，固定块的内部开设储液腔，储液腔为漏斗状，且储液腔的大口径端朝向固定块的顶部方向设置，在固定块上设置和储液腔相连通的进液管，进液管用于将还原剂同通入至储液腔的内部。在固定块的顶部开设多个排液通道，多个排液通道沿储液腔进行周向设置，且排液通道处在固定块上的同一水平面上，使得从储液腔出来的还原剂能够通过排液通道进行均匀分开来排料；本实用新型无需人为进行还原剂的添加，简化操作流程。
14.在实际使用时，该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架和滑动连接杆，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架，导轨架之间滑动式设置有滑动连接杆。固定块则是设置在滑动组件中的滑动连接杆上，固定块的内部开设储液腔，储液腔为漏斗状，且储液腔的大口径端朝向固定块的顶部方向设置，在固定块上设置和储液腔相连通的进液管，进液管用于将还原剂同通入至储液腔的内部。在固定块的顶部开设多个排液通道，多个排液通道沿储液腔进行周向设置，且排液通道处在固定块上的同一水平面上，使得从储液腔出来的还原剂能够通过排液通道进行均匀分开来排料。
附图说明
15.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
16.图1为本实用新型实施例一种电镀废水还原处理装置的结构示意图一；
17.图2为本实用新型实施例一种电镀废水还原处理装置的结构示意图二。
18.图标：1-导轨架；2-滑动连接杆；3-固定块；4-储液腔；5-进液管；6-排液通道；7-出液口；8-单向阀；9-开关阀门；10-盖子；11-观察窗口；12-滑杆；13-固定板；14-通孔；15-弹
簧。
具体实施方式
19.实施例
20.请参照图1至图2，图1为本实用新型实施例一种电镀废水还原处理装置的结构示意图一；图2为本实用新型实施例一种电镀废水还原处理装置的结构示意图二。
21.本技术实施例提供一种电镀废水还原处理装置，处理装置本体设置在处理装置本体上的滑动组件，上述滑动组件上设有固定块3，上述固定块3上开设有储液腔4，上述固定块3上设有与上述储液腔4连通的进液管5，上述固定块3上周向开设有多个与上述储液腔4连通的排液通道6，多个上述排液通道6均位于同一水平面上。该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架1和滑动连接杆2，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架1，导轨架1之间滑动式设置有滑动连接杆2。固定块3则是设置在滑动组件中的滑动连接杆2上，固定块3的内部开设储液腔4，储液腔4为漏斗状，且储液腔4的大口径端朝向固定块3的顶部方向设置，在固定块3上设置和储液腔4相连通的进液管5，进液管5用于将还原剂同通入至储液腔4的内部。在固定块3的顶部开设多个排液通道6，多个排液通道6沿储液腔4进行周向设置，且排液通道6处在固定块3上的同一水平面上，使得从储液腔4出来的还原剂能够通过排液通道6进行均匀分开来排料；本实用新型无需人为进行还原剂的添加，简化操作流程。
22.在实际使用时，该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架1和滑动连接杆2，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架1，导轨架1之间滑动式设置有滑动连接杆2。固定块3则是设置在滑动组件中的滑动连接杆2上，固定块3的内部开设储液腔4，储液腔4为漏斗状，且储液腔4的大口径端朝向固定块3的顶部方向设置，在固定块3上设置和储液腔4相连通的进液管5，进液管5用于将还原剂同通入至储液腔4的内部。在固定块3的顶部开设多个排液通道6，多个排液通道6沿储液腔4进行周向设置，且排液通道6处在固定块3上的同一水平面上，使得从储液腔4出来的还原剂能够通过排液通
道6进行均匀分开来排料。
23.在本实用新型的一些实施例中，上述固定板13上设有滑杆12，上述滑杆12上滑动连接有固定板13，上述固定板13上开设有供上述滑杆12通过的通孔14，上述固定板13连接在上述滑动组件上，上述固定块3上设有弹簧15，上述弹簧15的自由端与上述滑动组件相连接。
24.在实际使用时，固定块3上设置滑杆12，滑杆12上滑动连接固定板13，固定板13上则是开设供滑杆12通过的通孔14，固定板13设置在滑动组件中的导轨架1上，固定块3上还设置弹簧15，弹簧15的另一端则设置在固定板13上，由于固定块3在滑动连接杆2的带动下运行时，容易导致储液腔4内的还原剂因滑动连接杆2的运动而发生停顿泼洒的情况，弹簧15则能够进行减缓滑动连接杆2的运动。
25.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块3上还设有与上述储液腔4连通的出液口7，上述出液口7上设有开关阀门9。
26.在实际使用时，固定块3上还设置和储液腔4相连通的出液口7，出液口7能够在不使用还原剂时，将储液腔4内剩余的还原剂排出，避免长时间存放在储液腔4得到内部而造成还原剂的效果失效。
27.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块3上可拆卸连接有盖子10，上述盖子10用于覆盖上述储液腔4和多个上述排液通道6。
28.在实际使用时，固定块3上可拆卸连接盖子10，盖子10对储液腔4和排液通道6进行覆盖，能够防止其他的异物进入到储液腔4和排液通道6内而造成影响。
29.在本实用新型的一些实施例中，上述进液管5与上述固定块3的连通处设有单向阀8。
30.在实际使用时，进液管5和固定块3的连通处设置单向阀8，单向阀8的设置能够放置还原剂发生倒流。
31.在本实用新型的一些实施例中，上述固定块3上设有观察窗口11。
32.在实际使用时，固定块3上设置观察窗口11便于对固定块3上储液腔4的内部还原剂的使用量进行实际的观察。
33.本技术实施例提供一种电镀废水还原处理装置，处理装置本体设置在处理装置本体上的滑动组件，上述滑动组件上设有固定块3，上述固定块3上开设有储液腔4，上述固定块3上设有与上述储液腔4连通的进液管5，上述固定块3上周向开设有多个与上述储液腔4连通的排液通道6，多个上述排液通道6均位于同一水平面上。该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架1和滑动连接杆2，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架1，导轨架1之间滑动式设置有滑动连接杆2。固定块3则是设置在
滑动组件中的滑动连接杆2上，固定块3的内部开设储液腔4，储液腔4为漏斗状，且储液腔4的大口径端朝向固定块3的顶部方向设置，在固定块3上设置和储液腔4相连通的进液管5，进液管5用于将还原剂同通入至储液腔4的内部。在固定块3的顶部开设多个排液通道6，多个排液通道6沿储液腔4进行周向设置，且排液通道6处在固定块3上的同一水平面上，使得从储液腔4出来的还原剂能够通过排液通道6进行均匀分开来排料；本实用新型无需人为进行还原剂的添加，简化操作流程。
34.在实际使用时，该还原处理装置包括处理装置本体以及设置在处理装置本体上的滑动组件，处理装置本体以及滑动组件均为现有技术，即公开号为cn216764426u，处理装置本体包括有外壳、撑脚、观察窗、排水管、第一安装槽架、第一挡板、第二安装槽架、第二挡板、导向架和均匀倒料机构，外壳底部设置有左右对称的撑脚，外壳前后两侧均设置有观察窗，外壳右侧设置有排水管，外壳左部下侧开有出料口，外壳左部下侧设置有第一安装槽架，第一安装槽架上滑动式设置有第一挡板，第一挡板顶部设置有拉板，外壳内右部下侧设置有第二安装槽架，第二安装槽架上滑动式设置有第二挡板，第二挡板顶部设置有拉手，外壳内右部上侧设置有导向架，第二挡板在导向架内滑动，外壳顶部设置有均匀倒料机构，滑动组件则是包括有导轨架1和滑动连接杆2，外壳顶部前后两侧均设置有导轨架1，导轨架1之间滑动式设置有滑动连接杆2。固定块3则是设置在滑动组件中的滑动连接杆2上，固定块3的内部开设储液腔4，储液腔4为漏斗状，且储液腔4的大口径端朝向固定块3的顶部方向设置，在固定块3上设置和储液腔4相连通的进液管5，进液管5用于将还原剂同通入至储液腔4的内部。在固定块3的顶部开设多个排液通道6，多个排液通道6沿储液腔4进行周向设置，且排液通道6处在固定块3上的同一水平面上，使得从储液腔4出来的还原剂能够通过排液通道6进行均匀分开来排料。
35.以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。