纯水制造系统的运转方法与流程

本发明涉及纯水制造系统的运转方法，特别涉及构成制造半导体、液晶等电子工业领域中使用的超纯水的超纯水制造装置的纯水制造系统的运转方法。

背景技术：

1、以往，半导体等电子工业领域中使用的超纯水通过用由前处理系统、一次纯水装置以及对一次纯水进行处理的子系统构成的超纯水制造装置对原水进行处理来制造。

2、例如，如图1所示，超纯水制造装置1由前处理装置2、一次纯水制造装置(纯水制造系统)3以及子系统4这三段装置构成。在这样的超纯水制造装置1的前处理装置2中，实施原水w的过滤、凝集沉淀、使用微滤膜等的前处理，主要除去悬浮物质。

3、一次纯水制造装置3具有对前处理水w1进行处理的反渗透膜装置(ro)5、脱气膜装置(mdg)6、紫外线氧化装置(uv)7、电去离子装置(edi)9以及向该电去离子装置9供给供水的供水泵(p)8。通过该一次纯水制造装置3进行前处理水w1中大部分的电解质、微粒、活菌等的去除并且分解有机物。

4、而且，子系统4具有副罐(stk)10、供给泵(p)11、紫外线氧化装置12、非再生型混床式离子交换装置(di)13以及超滤膜(uf膜)14，构成为从超滤膜(uf膜)14经由用水点(pou)15回流到副罐10。在该子系统4中，将由一次纯水制造装置3制造的一次纯水w2中所含的微量的有机物(toc成分)氧化分解，去除碳酸根离子、有机酸类、阴离子性物质、甚至金属离子、阳离子性物质，最后用超滤(uf)膜14去除微粒而形成超纯水w3，将其供给至用水点15，未使用的超纯水回流到子系统的前段。

5、在如上所述的超纯水制造装置1的一次纯水制造装置3中，依次配置反渗透膜装置5、紫外线氧化装置7以及电去离子装置9，向电去离子装置9通入紫外线氧化装置7的处理水时，紫外线氧化装置中产生的过氧化氢有时导致电去离子装置9的电极、浓缩室或者电极室内的离子交换体恶化。

6、作为其对策，在专利文献1中提出了绕过紫外线氧化装置而将反渗透膜装置的处理水通入电去离子装置的浓缩室和电极室的纯水制造系统的运转方法。

7、现有技术文献

8、专利文献

9、专利文献1：国际公开2020/045061号公报。

技术实现思路

1、发明要解决的问题

2、然而，在该专利文献1所记载的纯水制造系统的运转方法中，需要用于向电去离子装置通入反渗透膜装置的处理水的旁通线，在大规模的纯水制造系统中，存在由于长距离配管的增加而导致装置的成本增大的问题。

3、本发明是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提出能够以简单的结构抑制电去离子装置的电极、浓缩室、电极室内的离子交换体的恶化的纯水制造系统的运转方法。

4、用于解决问题的手段

5、鉴于上述目的，本发明提供一种纯水制造系统的运转方法，其为具有紫外线氧化装置以及电气式去离子装置且从上游侧依次向这些装置通水的纯水制造系统的运转方法，使所述电去离子装置的浓缩室的被浓缩水以及电极室的电极水的过氧化氢浓度小于透过所述电去离子装置的脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度(发明1)。特别是，在上述发明(发明1)中，优选将所述电去离子装置的浓缩室的被浓缩水以及电极室的电极水的过氧化氢浓度设为透过所述电去离子装置的脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度的1/3以下(发明2)。

6、根据上述发明(发明1、2)，通过紫外线氧化装置处理过的处理水的过氧化氢增加，使该处理水向电去离子装置的浓缩室和电极室流通时，促进了电去离子装置的电极、浓缩室、电极室内的离子交换体的恶化。因此，通过调整或者设定电去离子装置的运转条件以使浓缩室和电极室的供给水的过氧化氢浓度较低，特别是达到透过脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度的1/3以下，能够抑制电去离子装置的电极、浓缩室、电极室内的离子交换体的恶化，能够延长电去离子装置的耐用期间。

7、在上述发明(发明1、2)中，优选的是，将通过所述紫外线氧化装置处理过的处理水作为所述电气式去离子装置的被处理水供给至脱盐室，将所述电气式去离子装置的脱盐室的一部分透过水作为被浓缩水和电极水向所述电气式去离子装置的浓缩室和电极室通水(发明3)。特别是在上述发明(发明3)中，优选的是，将所述电去离子装置的脱盐室的通水方向和所述浓缩室的通水方向设为对流式(发明4)。

8、根据上述发明(发明3、4)，当使紫外线氧化装置的处理水透过电气式去离子装置的脱盐室时，过氧化氢减少，因此，通过向所述电气式去离子装置的浓缩室和电极室通入该一部分透过水，能够将比透过脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度更低的水作为浓缩室和电极室的透过水。特别是，通过将所述电去离子装置的脱盐室的通水方向与所述浓缩室的通水方向设为对流式，能够以简单的结构实现。

9、在上述发明(发明1～4)中，所述纯水制造系统优选为具有一次纯水装置以及二次纯水装置的超纯水制造装置的一次纯水装置(发明5)。

10、根据上述发明(发明5)，由于能够如上所述地延长电去离子装置的耐用期间，因此，通过将构成超纯水制造装置的一次纯水装置的纯水制造系统设为如上所述的运转控制，也能够实现超纯水制造装置的耐用期间的延长，能够长期稳定供给通过超纯水制造装置制造的超纯水。

11、发明的效果

12、根据本发明的纯水制造系统的运转方法，通过使浓缩室和电极室的供给水的过氧化氢浓度较低，特别是达到透过脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度的1/3以下，能够抑制电去离子装置的电极、浓缩室、电极室内的离子交换体的恶化，能够延长电去离子装置的耐用期间。由此，能够以简单结构的纯水制造系统来实现电去离子装置的耐用期间的延长。

技术特征：

1.一种纯水制造系统的运转方法，其为具有紫外线氧化装置以及电气式去离子装置且从上游侧依次向这些装置通水的纯水制造系统的运转方法，其中，使所述电去离子装置的浓缩室的被浓缩水以及电极室的电极水的过氧化氢浓度小于透过所述电去离子装置的脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度。

2.如权利要求1所述的纯水制造系统的运转方法，其中，将所述电去离子装置的浓缩室的被浓缩水以及电极室的电极水的过氧化氢浓度设为透过所述电去离子装置的脱盐室的被处理水的过氧化氢浓度的1/3以下。

3.如权利要求1或2所述的纯水制造系统的运转方法，其中，将通过所述紫外线氧化装置处理过的处理水作为所述电气式去离子装置的被处理水供给至脱盐室，将所述电气式去离子装置的脱盐室的一部分透过水作为被浓缩水和电极水向所述电气式去离子装置的浓缩室和电极室通水。

4.如权利要求3所述的纯水制造系统的运转方法，其中，将所述电去离子装置的脱盐室的通水方向与所述浓缩室的通水方向设为对流式。

5.如权利要求1～4中任一项所述的纯水制造系统的运转方法，其中，所述纯水制造系统为具有一次纯水装置以及二次纯水装置的超纯水制造装置的一次纯水装置。

技术总结
本发明的一次纯水制造装置具有反渗透膜装置、脱气膜装置、紫外线氧化装置、电去离子装置(9)以及向该电去离子装置(9)供给供水的供水泵。该一次纯水制造装置中，将通过紫外线氧化装置(7)处理过的被处理水(W4)向电去离子装置(9)通水，去除因通过UV氧化而分解的有机物导致的离子性杂质，制造脱盐水(W5)。此时，通过分取出作为电去离子装置(9)的浓缩室(26)以及电极室(阳极室(27)、阴极室(28))的供给水(电极水)的脱盐水(W5)并供给，使电去离子装置(9)的浓缩室(26)以及电极室(阳极室(27)、阴极室(28))的供给水的过氧化氢浓度小于向脱盐室(25)供给的被处理水(W4)的过氧化氢浓度。根据本发明，能够提出以简单结构能抑制电去离子装置的电极、浓缩室、电极室内的离子交换体的恶化的纯水制造系统的运转方法。

技术研发人员：田部井丽奈,港康晴
受保护的技术使用者：栗田工业株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/3/11