用于从流体流去除污染物的系统和方法

专利名称：用于从流体流去除污染物的系统和方法
用于从流体流去除污染物的系统和方法
背景技术：
1. 发明领域
本公开涉及用于从流体流去除污染物的系统和方法。特别地，本 公开涉及用于从流体流去除挥发性有机化合物的系统和方法。
2. 相关技术描述
家居、办公室建筑和其他封闭结构内的空气比室外空气更受污 染，特别是在高都市化的地区。
在一些情况下，室内空气可能包括挥发性有机化合物(VOC)和/或 半挥发性有机化合物(SVOC)。 VOC是在正常条件下具有足以明显蒸
发并进入大气的高蒸气压的有机化合物。svoc是室温下蒸气压通常
为10-2至10—SkPa的有机化合物，以致它们同时以气相和凝结相存在。 这些有机化合物作为气体从某些固体或液体逸出，所述固体或液体包 括许多家居或办公室环境常见的物品，例如油漆、家具、建筑材料、 办公设备和清洁辅助材料。
建筑可以利用空气净化系统来提高室内空气质量，从而使建筑操 作者能够减少通气而建立改善的环境。室内空气的质量通过空气净化 而完成，使用气溶胶去除或气态污染物去除技术。光催化是用于从空 气供给去除空气中的气态物质例如VOC的有效技术。光催化空气净 化器利用了含有光催化剂的基底或筒，所述光催化剂通常为基于氧化 钛的物质，当置于适当光源(通常为紫外光源)下时与空气中的氧和水 分子相互作用生成羟基。然后，氢氧化物基团攻击污染物并引发氧化 反应，氧化反应将污染物转化成危害更小的化合物，例如水和二氧化 碳。普遍使用的光催化剂是二氧化钬，或者称为二氧化钛(titania)。已经发现，Degussa P25 二氧化钛和二氧化鵠接枝的二氧化钛催化剂(例 如P25上的氧化钨)在紫外光源下去除有机污染物是特别有效的。
限制光催化氧化(PCO)空气净化器效力的一个公知现象是光催化 剂的去活化。去活化可以可逆地或不可逆地发生，并且去活化的程度 和范围取决于系统配置，包括催化剂表面的光强度、催化剂的量和配 置以及周围环境的条件。已经发现，目前可用的系统在它们被有机污 染物覆盖时表现出催化能力的明显损失，所述有机污染物例如乙醇、 异丙醇和其他对催化表面具有高亲合力的污染物。催化能力在光催化 剂受气态化合物攻击时也下降，所述气态化合物^f皮氧化时生成除非受
仅含有氢、碳和氧原子的化合物通常只导致可逆的去活化，这对 空气净化器的操作只具有短期影响。然而，如果VOC浓度在紫外光 存在下足够高，或者如果VOC浓度在紫外光不存在下维持足够长时 间，则光催化剂不能与水相互作用以产生足以保持可用于进一步反应 的活性位点(sights)的羟基。污染物则可以相互反应生成漆膜，所述漆 膜占据光催化剂位点并阻断光催化剂氧化污染物的能力。这种或任何
类型的永久去活化可以导致空气净化系统操作者的大量支出，这归因 于与清洁和/或更换光催化剂相关的人员和设备成本。
另一个近期发现的去活化途径是由含硅挥发性化合物、特别是称 为硅氧烷的化合物类的矿化引起的。当VOC在空气中的聚集量通常 为100至1000 ppb(体积)时，硅氧烷浓度可能低2或更多个数量级。 这些硅氧烷主要产生于某些个人护理产品或干洗流体的使用，它们也 可能产生于硅氧烷密封剂、粘合剂及类似物质的使用。然而，当这些 含硅化合物被氧化时，它们生成去活化光催化剂的非挥发性二氧化硅 或水合二氧化硅。这种去活化可以通过一种或多种方式，例如相对直 接的物理阻断活性位点、阻断光催化涂层中的孔或阻断VOC与活性 剂的相互作用。
8在从空气去除污染物中，某些物质的氧化能够产生不希望的副产 物，或者污染物本身可能具有对光催化单位性能的负面影响。因此，
单独的UV/PCO空气净化不足以使空气中的VOC浓度降低至希望的 限值内。
一个或多个过滤元件被引入系统中，其包括对含硅挥发性化合物
化学结合至其表面)。
在优选实施方案中，吸附材料通过物理力吸引有机化合物。这些 类型的吸附材料的典型实例有浸渍和非浸渍的活性碳、多孔石墨、硅 石、硅胶、粘土、沸石和疏水吸附剂。
在另一实施方案中，吸附材料与有机化合物化学相互作用。这些 吸附材料可以在本质上是反应性的，如非挥发性酸或;威，或者需要活 化，如光催化剂。这些材料可以涂布在过滤介质上以保护其免受紫外 辐射的有害作用。感兴趣的酸性材料包括杂多钼酸、杂多钨酸、杂多 铌酸、杂多钒酸、混合的杂多氧酸、硫酸化氧化锆、硅铝酸盐、铝硅 酸盐、铝磷酸盐、硅铝磷酸盐、中孔氧化物特别是硅酸盐、硅铝酸盐、 掺杂的硅铝酸盐、氧化钛、氧化锰以及前述的复合物和混合物。
虽然有机化合物与吸附材料的化学连接可能开始于物理吸附(例 如，无化学键合)，但是其在室温或热、微波或光(包括紫外光)影响下 向化学键发展。该键的生成需要大气湿度。硅化合物与过滤元件纤维 的粘着不影响其作为粉尘过滤器的效力，因为过滤器直径的变化，即 使在纳米过滤器情况下，小于1%且通常比1%小得多。
湿度传感器可与该发明结合使用，以便如果湿度过低以致不能有 效捕获硅时，则添加水至流体流或更具体说气流。如果流体过千，当 有机硅化合物的含硅部分的化学结合需要水时，则做其他调整以保证 流体中有足够但非过量的湿气以影响有机硅化合物的水解。
在一个实施方案中，过滤介质中的吸附材料是过滤器或织物形 式，并且该织物可以成褶皱或以其他方式形成以增加流体流流经的面积从而增加其作用。该过滤介质通常安装为巻或筒，以设定的间隔或 响应传感器而推进或更新，以便总是有足够的活性面积与流体流接 触。传感器决定什么时候吸附材料必须更换或更新。
在另 一 实施方案中，过滤纤维表面可以用使它们对有机硅化合物 成反应性的材料处理。
在从空气去除污染物时，某些物质的氧化可以产生不希望的副产 物，或者污染物本身可能对光催化单位的性能具有负面影响。因此，
单独的UV/PCO空气净化不足以使空气中的voc浓度降低至希望的
限值内。 发明概述
本公开提供了用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系 统。该污染物去除系统具有对去活化剂敏感的类型的催化反应器。该 催化反应器用以从流体流去除污染物。污染物去除系统具有在流体流 方向上位于催化反应器上游的第一吸附装置，该装置用以从流体流去 除去活化剂。污染物去除系统具有在流体流方向上位于催化反应器下 游的第二吸附装置。第二吸附装置用以去除在催化反应器从流体流去 除污染物时可能产生的不希望的副产物。
本领域技术人员通过下述详细描述、附图和所附权利要求将认可 并理解本公开的上述和其他特征和优点。
附图简述


图1是根据本公开的污染物去除系统的示例性实施方案的剖视
图2是图1的污染物去除系统的吸附装置的示例性实施方案的透 视图3是图2吸附装置的剖视图4是用于吸附装置的埋入微粒或纳米粒子的示例性实施方案；
图5是用于吸附装置的三层构造的示例性实施方案；
图6是用于吸附装置的褶皱状过滤器的示例性实施方案；
10图7显示了由Kyno1毡ACN 211-15吸附六甲基二硅氧烷(HMDS) 的穿透曲线；
图8显示由Kyno1毡ACN 211-15吸附八曱基环四硅氧烷的穿透 曲线；
图9显示了由Kyno1毡ACN 211-15吸附的HMDS和甲苯以十 亿分数(ppb)表示的浓度；且
图10显示了由Ahlstrom Trinitex K808-500和Kynol毡ACN 211-15吸附HMDS的穿透曲线。
发明详述
本公开提供了 一种污染物去除系统，其消除光催化氧化的有害副 产物以及可以导致光催化剂去活化的副产物的生成。
本公开提供了用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系 统。该污染物去除系统提供了由一个或多个吸附装置组成的系统，所 述吸附装置用于控制流体中有害污染物的浓度，特别是当这些污染物 不能^皮光催化氧化反应器充分转化成无害化合物时。可能的应用包括 建筑物和运输工具中的空气净化和空气处理系统。优选地，所述污染 物去除系统将从流体去除基本上全部的有害污染物、去活化剂和副产 物，包括杂原子、硅氧烷、硅烷、氮、磷、硫和其他类型的挥发性有
机化合物(voc)。
参考图1,图示了本公开的污染物去除系统10的示例性实施方案。 污染物去除系统10包括一个或多个吸附装置12以及一个或多个用于 从流体流16或者更具体地空气流去除污染物的催化反应器14。在图 l所示实施方案中，污染物去除系统10包括两个吸附装置12和一个 催化反应器14。优选地，催化反应器14是对去活化剂敏感的类型的 光催化氧化(PCO)装置。更优选地，催化反应器14是紫外光催化氧化 装置(UV/PCO)。吸附装置12可以位于催化反应器14的上游或下游。 优选地， 一个吸附装置12位于催化反应器14的上游，而一个吸附装 置12位于催化反应器14的下游。在一个示例性实施方案中，流体流
ii16进入污染物去除装置10并穿过上游吸附装置12,穿过光催化氧化
装置14,并最终穿过下游吸附装置12，然后排出污染物去除系统10。 本文使用的术语"上游"和"下游"的使用是就流体流16流动方向而言。
有利地，吸附装置12能够从流体流16选择性去除去活化剂、不 希望的副产物和VOC,包括杂原子、硅氧烷和硅烷。在一个实施方案 中，该选择性去除使用吸附装置12中的活性碳来完成。活性碳可以 是球粒、颗粒、纤维、织物、布或毡的形式，并且可以是浸渍或非浸 渍的。适用于吸附装置12的活性碳的实例包括AhlstromK822-300和 Ahlstrom K808-500,各自具有在两个网丝层之间夹有颗粒层的三层构 造。其他可能用于吸附装置12的活性碳包括Kynol ACC 5092-20 (织 物)、Kynol ACN-210-15 (毡)、Kynol ACN隱21卜15 (毡)、Kynol ACN 303-15 (毡)和Cameron SG6 (球粒)。可用于吸附装置12的浸渍的活性 碳的实例包括Cameron G6-NH (球粒)和Cameron SG-PH (球粒)。此外， 吸附装置12可以利用多孔石墨、硅胶、粘土、沸石和疏水吸附剂。 疏水吸附剂优选用于其中流体流16是高湿度空气流的实例中。
参考图2，吸附装置12包括蜂窝状结构，其提供高的表面与体积 比，实现了吸附装置12的有效操作，同时在流体流16穿过装置时保 持相对低的压降。吸附装置12的蜂窝结构的示例性实施方案示于图2。 蜂窝结构优选包括铝。流体流16的方向优选与吸附装置12垂直。吸 附装置12的蜂窝结构优选包括小室18。小室18可以是任何形状和尺 寸，其提供了足够的表面与体积比。小室18的几何形状可以是波紋 形或三角形。或者，小室18可以具有六角形、正方形或梯形的几何 形状。小室18优选具有约1.5毫米(mm)和约26 mm以及其间任何子 范围的尺寸。
图3图示了吸附装置12的另一个实施方案，其中小室18具有波 紋形。在该实施方案中，吸附装置12包括交替的平薄片20和波纹形 薄片22，由框架24围绕。薄片20、 22由一种或多种上述吸附材料涂 布。平薄片20和波紋形薄片22可以使用一个或多个销栓26(显示了一个)固定在一起。或者，平薄片20和波紋形薄片22可以焊接在一起。 优选地，吸附装置12的平薄片20和波紋形薄片22由铝制成。薄片 20、 22优选约0.05 mm厚，相邻平薄片20之间的距离优选为约3 mm。
在一个示例性实施方案中，吸附装置12是填充床。在另一个示 例性实施方案中，吸附装置12包括埋入过滤器的微粒。而在另一实 施方案中，吸附装置12包括埋入过滤器的纳米粒子。或者，吸附装 置12可以包括涂布整体(monolithic)结构的微粒或納米粒子。而在另 一实施方案中，吸附装置12包括具有快速吸收污染物的优点的微纤 维或纳米纤维材料。
图4图示了吸附装置12的优选实施方案，其中吸附装置包括埋 入过滤器的微粒或纳米粒子。
图5图示了吸附装置12的优选实施方案，其中吸附装置包括在 两个网丝层之间夹有颗粒层的三层构造。
图6图示了吸附装置12的优选实施方案，其中吸附装置包括褶 皱状过滤器。
在另一个示例性实施方案中，吸附装置12包括整体轮，其是圓 柱体形状的整体结构，圆柱体直径大于圆柱体高度。轮被分成至少两 个部分。这些部分可以是相同尺寸的，或者不同尺寸的。例如， 一个 部分可以占整体轮面积的四分之一，而另一部分占所述轮的其余部 分。所述轮围绕通过轮中心的轴旋转，以便吸附剂暴露于空气流一段 时间(相当于一个部分的尺寸)，然后在循环的剩余时间暴露于再生气 体。
在一个优选实施方案中，吸附装置12包括使用活性碳毡(例如 Kynol ACN2U-15)的过滤器，用于去除六甲基二硅氧垸(HMDS)。在 该实施方案中，吸附装置12位于催化反应器14的上游。 一经饱和， 吸附装置12的过滤器被更换或再生。优选地，过滤器通过加热而再 生。活性碳毡优选导电，其可以用于加速再生。图7显示了使用Kynol ACN 211-15吸附剂的吸附装置12从相对 湿度为50Q/()的空气流去除50ppbHMDS的能力。
图8显示了 KynolACN 211-15吸附装置12从相对湿度为45%的 空气流去除120 ppb八甲基环四硅氧烷(OMCTS)的能力。
图9显示了已经使用KynolACN 211-15吸附装置12—定小时数 后空气流中存在的甲苯和HMDS的浓度。
在另一个示例性实施方案中，吸附装置12包括同时使用Ahlstrom Trinitex K808-500和Kynol毡ACN 211-15的过滤器。图IO显示在 40%相对湿度下给定时段内穿透这种吸附装置12的50卯b HMDS污 染物的百分比。
含C1污染物(例如，氯苯)光催化产生的副产物是HC1。有利地， 具有浸渍活性碳的吸附装置12将从流体流16选择性地去除酸组分。
污染物去除系统10能够用于空气处理系统以将VOC转化为无害 化合物。有利地，污染物去除系统10将能够去除现有技术装置不能 去除的污染物，例如含有杂原子硅氧烷、硅烷和可去活化催化反应器 14的催化剂的化合物的有机化合物。例如，在可以可逆或不可逆地去 活化催化反应器14的光催化剂的污染物存在的环境下，污染物去除 系统IO优选包括至少一个位于催化反应器14上游的吸附装置12。类 似地，如果催化反应器14内发生的光催化反应产生有可能去活化催 化剂的产物，则污染物去除系统10优选包括至少一个位于催化反应 器14上游的吸附装置12。
在 一 个实施方案中，用于催化反应器的催化剂被设计为抗去活 化。例如，催化剂可以是适合的掺杂的二氧化钛，或者催化剂可以选 自二氧化钛、氧化锌和氧化锡，或者具有直径小于14纳米并且在直 径6纳米或更大的圓柱孔中至少200 n^表面积/cn^骨架体积的微晶， 或者具有紫外透射的并具有互联孔网络的重迭层(overlayer),所述互联 孔网络允许一部分VOC物质穿过重迭层，但至少阻止另一部分穿过 重迭层。可在催化反应器14上游使用的吸附装置12包括浸渍和非浸渍的
活性碳、多形态多孔石墨、粘土、硅石、天然和合成的沸石、中孔的
沸石(例如MCM-41)以及疏水吸附剂(例如硅质岩)。
如果流体流16本身中的污染物或其反应产物都不去活化催化反 应器14中的催化剂，但是从催化反应器14得到的反应产物是不希望 的，则吸附装置12可以置于催化反应器14的下游以从流体流16去 除这些反应产物。如图1所示， 一个或多个吸附装置12可以置于催 化反应器14的上游和下游。
在一个实施方案中，吸附装置12置于催化反应器14的下游。置 于催化反应器下游的吸附装置12可以包括上述用于上游吸附装置的 任何物质。此外，可以使用固体反应物，例如氧化物、氢氧化物、氧 化剂或络合剂。固体反应物用于去除任何酸性氧化产物，并可配置为 填充床、埋入褶皱状过滤器的微粒或者整体结构的涂层。埋入褶皱状 过滤器的微粒将最小化污染物去除系统10中的压降。
一些非耙向污染物或其氧化产物也可以通过多相催化反应(非光 活化的)清除。在这种情况下，吸附装置12和催化反应器14可以集成 在一起以行使两个功能，通过将固体反应物或催化剂与吸附材料混合 并将它们应用至支持结构(例如蜂窝结构)，或者通过将它们作为层独 立应用至支持结构实现。
或者，其他材料可以用于催化反应器14上游和下游的吸附装置 12。例如，吸附装置12可以包括进行另外的氧化反应的催化剂，其 可以是金属负载类型，包括钯(Pd)和/或铂(Pt)/氧化铝，以及氧化锰。 在这种情况下，可以使用填充床或整体结构。在低湿度空气流中，还 可以使用霍布卡拉特(hopcalite)型催化剂，其是氧化锰(MnO)和氧化铜 (CuO)的混合物。
在一个实施方案中，在超过装置的吸附剂容量的规定时间更换用 于吸附装置12的活性碳或其他材料。或者，吸附装置12可以使用吸附/解吸附循环原位再生。吸附剂
可以通过温度、压力或浓度操控(swings)而再生。
在一个示例性实施方案中，再生进行过夜。该再生方法对于涉及 商业建筑或学校的应用而言是理想的，因为这些建筑中加热换气和空 气调节(HVAC)系统通常在夜间不需要提供清洁空气时是关闭的。
另一种再生方法包括使用两个异相运转的吸附装置12，以便在一 个装置纯化进入建筑的空气流的同时，另一个装置被再生。
用于再生的温度操控可以使用加热装置实现，所述加热装置产生 电流、微波、红外波或任何其他适合的热源。在一个实施方案中，再 生使用压力改变来实现。该实施方案特别适用于飞机，其中高海拔的 真空可以实现需要的压力操控。
虽然本公开已经参考一个或多个示例性实施方案得到描述，但是 本领域技术人员应理解，在不背离本公开范围的条件下，可以进行各 种变化，并且等同物可以替代其要素。此外，可以进行许多调整以使 特定情况或材料适应本公开的教导，而不背离其范围。本合开预期不 限于作为考虑的最佳方式所公开的特定实施方案，而是本公开将包括 落入所附权利要求范围内的所有实施方案。
1权利要求
1.一种用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系统，该污染物去除系统包括其中具有催化剂的催化反应器，该催化反应器用以从流体流去除污染物；其中具有吸附材料的第一吸附装置，该第一吸附装置在所述流体流方向上位于所述催化反应器的上游，并用以从所述流体流去除催化剂去活化剂；和其中具有吸附材料的第二吸附装置，该第二吸附装置在所述流体流方向上位于所述催化反应器的下游，并用以去除在所述催化反应器从所述流体流去除污染物时可能产生的不希望的副产物。
2. —种用于从空气流选择性去除污染物以改善空气质量的污染 物去除系统，该污染物去除系统包括其中具有催化剂的催化反应器，该催化反应器用以从空气流去除 污染物；和其中具有吸附材料的吸附装置，所述吸附装置在所述空气流方向 上位于所述催化反应器的上游，并用以从所述空气流去除催化剂去活 化剂。
3. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器是紫 外光催化氧化装置。
4. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器中的 催化剂置于具有多个小室的蜂窝结构上。
5. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述催化反应器中的 催化剂是抗去活化的。
6. 权利要求1的污染物去除系统，其中所述第一吸附装置包括多 个吸附装置。
7. 权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括多 个吸附装置。
8. 权利要求2的污染物去除系统，其中所述吸附装置包括多个吸 附装置。
9. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂选自硅 氧烷、硅烷、其他含有硅的挥发性或半挥发性化合物及其任何组合。
10. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 氮的挥发性或半挥发性化合物。
11. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 磷的挥发性或半挥发性化合物。
12. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述去活化剂是含 硫的挥发性或半挥发性化合物。
13. 权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括 催化剂。
14. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中反应性固体或催化 剂与所述吸附材料混合并应用于支持结构，或者作为层独立应用于支 持结构。
15. 权利要求13的污染物去除系统，其中所述催化剂选自4巴/氧 化铝、铂/氧化铝、氧化锰及其任何组合。
16. 权利要求1的污染物去除系统，其中所述第二吸附装置包括 固体反应物。
17. 权利要求16的污染物去除系统，其中所述固体反应物选自氧 化物、氢氧化物及其任何组合。
18. 权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构进一步包 括铝。
19. 权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构的小室是 波紋状的。
20. 权利要求4的污染物去除系统，其中所述蜂窝结构的小室选 自三角形小室、六角形小室、正方形小室、梯形小室及其任何组合。
21. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述吸附材料选自 杂多钼酸、杂多钨酸、杂多铌酸、杂多钒酸、混合的杂多氧酸、硫酸 化氧化锆、硅铝酸盐、铝硅酸盐、铝磷酸盐、硅铝磷酸盐、中孔氧化 物特别是硅酸盐、硅铝酸盐、掺杂的硅铝酸盐、氧化钛、氧化锰及其 任何组合。
22. 权利要求1或2的污染物去除系统，其进一步包括测量流体 流湿度的湿度传感器，并且必要时向所述流体流添加水。
23. 权利要求1或2的污染物去除系统，其中所述吸附材料选自 浸渍和非浸渍的活性碳、多孔石墨、硅石、硅胶、粘土、沸石、疏水 吸附剂及其任何组合。
24. 权利要求1或2的污染物去除系统，其进一步包括活性碳， 其中所述活性碳选自球粒、颗粒、纤维、织物、布、毡及其任何组合。
25. 权利要求1或2的污染物去除系统，其进一步包括固体反应 物，其中所述固体反应物的配置选自填充床、埋入褶皱状过滤器的微 粒、整体结构的涂层及其任何组合。
26. 权利要求1或2的污染物去除系统，其进一步包括传感器， 该传感器确定何时必须更换或更新吸附材料以及何时必须推进吸附 材料巻。
27. 权利要求1的污染物去除系统，其中所述第一和第二吸附装 置在超过所述装置的吸附容量时被更换。
28. 权利要求1的污染物去除系统，其进一步包括用于原位再生 所述第一和第二吸附装置的工具。
29. 权利要求2的污染物去除系统，其中所述吸附装置在超过所 述装置的吸附容量时被更换。
30. 权利要求2的污染物去除系统，其进一步包括用于原位再生 所述吸附装置的工具。
31. 权利要求28或30的污染物去除系统，其中用于再生的工具 包括选自下述的工具压力操控工具、浓度操控工具、温度操控工具 及其任何组合。
32. 权利要求28或30的污染物去除系统，其中用于再生的工具 包括压力降低工具。
33. 权利要求28或30的污染物去除系统，其中用于再生的工具 包括加热装置。
34. 权利要求33的污染物去除系统，其中所述加热装置包括选自 下述的装置电流装置、微波装置、红外波产生装置及其任何组合。
35. —种用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系统，该 污染物去除系统包括其中具有催化剂的催化反应器，该催化反应器用以从空气流去除 污染物，并且所述催化剂祐:设计为是抗去活化的；和在所述空气流方向上位于所述催化反应器上游的吸附装置，该吸 附装置用于从所述空气流去除催化剂去活化剂。
36. —种用于从流体流去除挥发性有机化合物的方法，该方法包括使流体流穿过第一吸附装置以去除去活化剂，所述去活化剂能够 去活化用以从所述流体流去除污染物的类型的催化剂；使所述流体流穿过在所述流体流方向上位于所述第一吸附装置 下游的催化反应器，以从所述流体流去除污染物；和使所述流体流穿过在所述流体流方向上位于所述催化反应器下 游的第二吸附装置，以去除在所述催化反应器从所述流体流去除污染 物时可能产生的不希望的副产物。
37. —种用于从空气流去除挥发性有机化合物的方法，该方法包括使空气流穿过吸附装置以去除去活化剂，所述去活化剂能够去活 化用以从所述空气流去除污染物的类型的催化剂；和使所述空气流穿过在所述空气流方向上位于所述吸附装置下游 的催化反应器，以从所述空气流去除污染物。
38. —种用于从流体流去除挥发性有机化合物的方法，该方法包括使流体流穿过吸附装置以去除去活化剂，所述去活化剂能够去活 化用以从所述流体流去除污染物的类型的催化剂；和使所述流体流穿过在所述流体流方向上位于所述吸附装置下游 的催化反应器，以从所述流体流去除污染物，其中所述催化剂纟皮设计 为是抗去活化的。
39. 权利要求36、 37或38任一项的方法，其中所述催化反应器 包括紫外光催化氧化装置。
40. 用于从流体流去除挥发性有机化合物的设备、系统或方法， 其如参考附图中图l至IO任一个所描述的。
全文摘要
一种用于从流体流选择性去除污染物的污染物去除系统。该污染物去除系统具有对去活化剂敏感类型的催化反应器。该催化反应器用以从流体流去除污染物。污染物去除系统具有在流体流方向上位于催化反应器上游的第一吸附装置，该装置用以从流体流去除去活化剂。污染物去除系统具有在流体流方向上位于催化反应器下游的第二吸附装置。第二吸附装置用以去除在催化反应器从流体流去除污染物时可能产生的不希望的副产物。
文档编号B01J23/00GK101495228SQ200780028645
公开日2009年7月29日 申请日期2007年5月31日 优先权日2006年6月1日
发明者A·T·普奇诺, F·P·拉姆, J·J·桑焦文尼, N·O·伦科夫, S·D·布兰德斯, S·O·海, T·H·范德斯普尔特, T·N·奥比, T·赫格纳-坎贝尔, W·R·施米德特, Z·A·达达斯 申请人:开利公司