清洁装置和产品加工设备的制作方法

文档序号:14186735阅读:141来源:国知局

本发明涉及根据权利要求1和17的前序部分的特征的清洁装置和产品加工设备。



背景技术:

本发明涉及用于清洁工业设备、尤其产品加工设备的罐等的清洁装置。已知例如有可旋转的用于清洁罐的喷嘴装置,在其中,以电的、液压的、或气动的方式使喷嘴头旋转且由此使清洁流体至少尽可能完全分布。例如,这种喷嘴装置由多个单个喷嘴构成,单个喷嘴分别输出整束的清洁流体。单个喷嘴例如借助驱动装置围绕转动轴线转动,以便覆盖大的面。

经改进的喷嘴装置具有额外的第二转动轴线,以便增大受加载的面或提高清洁效率。

de102011078723a1描述一种可旋转的喷嘴装置,在其中喷嘴头围绕第一转动轴线旋转,且其中,旋转轴线的出口可围绕第二转动轴线转动,第二转动轴线与第一转动轴线不同。通过结合可旋转的喷嘴头与至少一个可旋转的单个喷嘴产生对处理面的有效加载。

ep2543441a2公开了具有第一驱动装置和第二驱动装置的可旋转的喷嘴装置,第一驱动装置用于使喷嘴头围绕第一转动轴线转动,第二驱动装置用于使喷嘴头以及第一驱动装置围绕第二转动轴线转动,其中,第一转动轴线和第二转动轴线基本彼此垂直地布置。通过两个不同的转动运动的叠加可在紧凑地构造喷嘴装置的情况下实现大面积覆盖。

ep2556896a2描述一种罐清洁喷嘴,罐清洁喷嘴具有可围绕第一转动轴线转动的轴和可围绕第二转动轴线转动的喷嘴头,其中,第一转动轴线和第二转动轴线基本彼此垂直地布置。用于轴的驱动单元具有涡轮,涡轮不可相对转动地与轴连接。涡轮和轴分别具有贯通的中间孔,使得在罐清洁喷嘴的壳体之内提供经由涡轮引导的第一流动路径和经由中间孔引导的第二流动路径。由此将涡轮的转速保持得很低,其中,尽管如此涡轮的转矩足以使与涡轮连接的轴围绕第一转动轴线且喷嘴头围绕第二转动轴线转动。

ep0426431b1公开用于罐冲洗装置的喷射头,喷射头分别具有流动区域、旋转分配装置以及作用面,该旋转分配装置具有旋转分配板,旋转分配板的旋转轴线与流动区域同轴,作用面位于流动区域之前且与旋转轴线相交。此外,在分配装置上布置螺栓形状的翼面,翼面在与液体流接触时使分配装置转动运动。



技术实现要素:

本发明的目的是提供改进的清洁装置,尤其清洁头,该清洁头也可使用清洁流体,清洁流体可能例如由于循环流通而具有作为杂质的粗粒组分。

上述目的通过在专利权利要求1和16中的特征的清洁装置和产品加工设备实现。其他的有利设计方案通过从属权利要求描述。

本发明涉及一种清洁装置,尤其清洁头,借助清洁装置将清洁流体施加到待清洁的面上,例如产品加工设备的待清洁的罐或其他产品容器的内壁面上,产品加工设备例如为用于加工巧克力和/或其他的糖果产品的设备。清洁装置尤其布置在用于清洁流体的输入管路上。尤其清洁装置可松开地或不可松开地与产品容器或输入管路等连接。

清洁装置包括壳体,壳体与用于清洁流体的输入管路连接。壳体是静止的且例如固定地连接在法兰上等。此外,壳体在与输入管路相对的端部区域上具有用于清洁流体的出口。在壳体的出口上或与输入管路相对的端部区域上布置可围绕第一转动轴线转动的喷嘴头。喷嘴头尤其具有用于清洁流体的贯通孔。优选地,清洁装置如此固定在输入管路上,使得输入管路、壳体的出口和喷嘴头的贯通孔对齐地布置。在可转动的喷嘴头上布置分配装置,分配装置可围绕与第一转动轴线不同的第二转动轴线旋转。分配装置具有至少一个叶片元件或至少一个摆动元件以便完全地分配清洁流体。

根据本发明的优选的实施方式,在壳体之内在输入管路上的连接端和壳体的相对的端部区域之间布置引导元件,使得引起清洁流体的旋转运动。尤其引导元件使清洁流体进行涡旋或引起清洁流体的涡流形成。

引导元件尤其接收输送的、例如为此泵送的清洁流体的背压且将背压转变成清洁流体的定向运动。

通过清洁流体的旋转使得喷嘴头相对于壳体转动,即,引导元件用作第一驱动元件,第一驱动元件用于使喷嘴头围绕第一转动轴线旋转运动。

根据本发明的一种实施方式,引导元件可松动地布置在壳体中。引导元件具有外周边,外周边基本相应于壳体的内周边。引导元件通过流入的清洁流体的背压挤入设置的位置中。可替代地,引导元件也可固定在壳体上和/或为壳体的一体式组成部分。

根据本发明的一种实施方式,引导元件包括围绕引导元件的纵轴线布置的多个引导件,例如浆等,引导件引起清洁流体的期望的旋转运动。通过引导件必然使得清洁流体经过确定的路径。对此,强制清洁流体具有新的运动方向。优选地,经引导的沿着引导件的流通引起清洁流体旋转。引导件在侧面邻接壳体的内壁面,使得在俯视图中形成部分闭合的面或得到部分闭合的横截面。引导元件的纵轴线尤其与分配装置的第一转动轴线同轴或平行。

引导件相对于引导元件的纵轴线的倾斜度(steigung)影响清洁流体的圆周速度且可根据对清洁装置的相应要求选择为不同的。引导件的倾斜度构造得越小或越低,清洁流体的圆周速度越高。此外,引导件的倾斜度也影响形成涡流的强度。

根据本发明的一种实施方式,引导元件构造成螺旋元件,螺旋元件具有至少一个完整的螺纹且在侧面如此邻接壳体的内壁面,使得在俯视图中形成闭合的面或得到闭合的横截面。螺旋元件引起在清洁装置的壳体之内有针对性地引导清洁流体。对此,强制清洁流体完全地且尤其没有通过任何捷径地通过螺旋元件。对此,清洁流体进行旋转运动,即,螺旋元件尤其引起在清洁流体中的涡流形成。

螺旋元件的螺旋的倾斜度影响清洁流体的圆周速度且可根据对清洁装置的相应要求选择为不同的。螺旋元件的倾斜度构造得越小或越低,清洁流体的圆周速度越高。此外,螺旋的倾斜度也影响形成涡流的强度。

此外可设置成,壳体构造在出口的区域中或与输入管路相对的端部区域中,该端部区域作为用于布置在其上的喷嘴头的支承面。尤其壳体在出口的区域中具有朝向外的曲拐,曲拐形成第一支承面且喷嘴头具有对应构造的第二支承面。在喷嘴头布置在壳体上时两个支承面如此相互放置,使得在两个支承面之间的摩擦阻力尽可能小。尤其喷嘴头经由第二支承面放置在壳体的第一支承面上地、可转动地布置在壳体上。

喷嘴头尤其由两个半壳构成。两个半壳由此布置在壳体的出口处或端部区域上且彼此连接,使得形成第二支承面并且布置在期望的位置上。喷嘴头优选具有固定孔,固定孔的内直径稍微大于端部区域在曲拐之上的外直径,但是小于曲拐的外直径。尤其两个半壳共同地形成固定孔。可替代地,喷嘴头由上部的半壳和下部的半壳构成,其中,上部的半壳具有固定孔。

根据本发明的一种实施方式,喷嘴头与集成的容纳部作为组合部件制成。这例如通过3d打印或其他合适的制造方法实现。

喷嘴头的第二支承面优选可具有径向裂缝,由此必要时能够使固定住的杂质再次松动。喷嘴头的旋转使得形成离心力,离心力作用到杂质上且使得杂质从喷嘴头离开地运动。

此外可设置成,第一支承面和与之对应的第二支承面构造成锥形,从而使得可转动的喷嘴头在壳体上对中。

从壳体中转移到喷嘴头中的清洁流体具有自转或涡流,且引起喷嘴头围绕第一转动轴线的旋转。优选地,第一转动轴线与壳体的纵轴线或中轴线同轴。特别优选地,壳体的出口、喷嘴头的贯通孔和转动轴线同轴定向地布置。

为了使喷嘴头进行旋转运动,喷嘴头包括可旋转运动的带动元件。该带动元件尤其布置在壳体的出口的区域中或与输入管路相对的端部区域中。可替代于此的实施方式包括可旋转运动的带动元件,带动元件至少局部地布置在壳体的出口的区域中或与输入管路相对的端部区域中且至少局部地布置在喷嘴头之内。因此尤其根据可替代的实施方式带动元件贯穿壳体的出口。

通过引导元件产生的清洁流体的涡流或涡旋碰撞到带动元件上且引起带动元件旋转。优选地,带动元件和喷嘴头彼此固定连接,使得带动元件和喷嘴头以同一速度旋转。

带动元件具有至少一个翼部。带动元件的至少一个翼部构造且布置成,使得在翼部围绕转动轴线全回转的情况下翼部完全遮盖或绕着或擦着壳体的内圆周,该转动轴线优选与壳体的上述纵轴线或喷嘴头的第一转动轴线同轴地布置。通过引导元件而进行旋转的清洁流体使得带动元件进行运动。本领域技术人员明白,带动元件的至少一个翼部通过围绕带动元件的转动轴线的一次完整转动完全擦着壳体的内圆周。但是在翼部和壳体的内壁面之间设置至少一个最小间隙,即,带动元件无接触地或带有间隙地布置在壳体中,使得带动元件可在壳体上没有摩擦的情况下转动。带动元件的转动轴线尤其与壳体的纵轴线或中轴线同轴,且优选与壳体的出口和喷嘴头的贯通孔对齐地构造。

根据本发明的一种实施方式,带动元件具有四个翼部。较大数量的翼部具有的优点是,由此实现均匀的运动。

此外可设置成,在引导元件和带动元件之间构造限定的间距。在竖向平面中在引导元件和带动元件之间的间距尤其决定,如何有利地使带动元件运动。如果在引导元件和带动元件之间的间距过小,则产生脉冲式运动。根据应用情况,这也可为期望的且有利地加以利用。即,本发明也包括这样的实施方式,在该实施方式中在带动元件和引导元件之间的间距有意地构造成如此小,使得产生清洁流体的脉冲式运动。

根据本发明的另一实施方式,带动元件的面对进入部的一侧的外棱边构造成弯曲成角度。这使得可能在清洁流体中存在的杂质在外棱边上被粉碎。

由此能够循环多次地使用清洁流体,例如用于清洁罐或在巧克力和/或糖果物质的生产设备中的类似物,其中,尤其砂糖或其他的粗粒的内含物质会污染清洁流体。

例如带动元件构造成十字板材,其中,彼此以90度角度错开的四个翼部布置在共同的转动轴线上。十字板材在朝向壳体的端侧上具有尽可能小的端面。因此,用于清洁流体的通过面尽可能地大。由此最大程度地防止杂质夹在带动元件和壳体的内壁面之间。

此外可设置成,带动元件的朝壳体的内壁面的棱边切削成倾斜的。由此可在壳体的内壁面上产生刮除效应。因此可有效地防止杂质固定在带动元件和壳体之间,否则这会导致带动元件被夹在壳体中。

带动元件例如可制成为精密的铣削件,该铣削件呈希腊十字形状且具有四个等长的交叉臂。尤其带动元件构造成,带动元件以很小的间隙相对于壳体的内壁布置。优选地,具有这种十字形横截面的带动元件通过清洁流体的涡流本身对中在为此设置的位置中。

根据另一实施方式,带动元件由两个彼此插入的激光板构成,激光板优选以插在一起的形式同样形成具有四个等长的交叉臂的希腊十字的形状。

此外,带动元件也使得可转动的喷嘴头在壳体上对中。虽然喷嘴头也可经由支承面在壳体上对中,但是在狭窄的间隙中又可能夹住粗粒的杂质,所以有利地经由带动元件产生喷嘴头的对中。

此外,喷嘴头可包括至少一个保持元件,分配装置以叶片元件或摆动元件可转动地支承在保持元件上。通过喷嘴头围绕第一转动轴线、尤其与壳体的纵轴线或中轴线同轴地转动,分配装置转动的第二转动轴线在与第一转动轴线成角度布置的转动平面中是可变的。优选地,该转动平面构造成尽可能垂直于第一转动轴线。在喷嘴头相对于清洁装置的壳体扭转时,至少一个保持元件的位置以及第二转动轴线在转动平面之内的取向发生改变。

清洁流体从可转动的喷嘴头排出且碰撞到分配装置上,尤其分配装置的叶片元件或摆动元件上。分配元件进行旋转且清洁流体通过叶片元件或摆动元件从清洁装置被抛离。根据碰撞到分配装置上的清洁流体的速度产生分配装置的高的旋转速度。

通过结合喷嘴头围绕第一转动轴线的转动和布置在喷嘴头上的且与该喷嘴头一起转动的分配装置围绕喷嘴头的第一转动轴线且围绕额外的第二转动轴线的转动,尤其避免形成喷射阴影,因为清洁流体可以大于180°的半径被抛出。

根据本发明的一种实施方式,可转动的喷嘴头具有中轴线,中轴线基本构造成与壳体的纵轴线或中轴线同轴。分配装置可固定在喷嘴头的保持元件上,使得分配装置尤其定位在喷嘴头的中轴线上。

根据可替代的实施方式,分配装置可固定在喷嘴头的保持元件上,使得分配装置尤其相对于喷嘴头的中轴线垂直错开地定位。由于错开,通过从喷嘴头流入的清洁流体特别有利地引起分配装置的旋转,且因此实现使清洁流体通过分配装置优化地分配到待清洁的面上。

在分配装置上的叶片元件的构造或几何结构、数量和/或布置对清洁流体的分配有不同影响。叶片元件的一些形状必须以相对于喷嘴头的中轴线以错位的方式运行,而其他形状也可在没有错位的情况下提供期望的结构。叶片元件的数量和构造可根据清洁装置的要求来选择且最佳地协调。

可替代地,分配装置也可具有至少一个摆动元件,摆动元件适合使清洁流体从清洁装置偏转,使得清洁流体朝待清洁的面的方向喷射或抛甩。在摆件歪倾的最终位置中必须卸载,由此摆件可再次摆回初始位置中或第二最终位置中。这可通过中断作用到摆动元件上的流体流或通过分开流体流来实现。

此外可有利的是,分配装置尤其在喷嘴头的至少一个保持元件上带有间隙地安装,由此可能粘附的杂质不会导致夹住,而会再次脱开。

分配装置可尤其构造成分配双轮。两个轮可优选分别构造成整个盘片,在盘片之间布置分配装置的至少一个叶片元件或摆动元件。整个盘片尤其形成侧边,侧边使得清洁流体有针对性地朝至少一个叶片元件或摆动元件偏转。在具有侧边的分配装置的实施方式中,尤其确保清洁流体的集中射出。

根据本发明的一种实施方式,壳体构造成圆柱形且具有纵轴线。根据本发明的另一实施方式,壳体至少局部地构造成圆柱形且具有纵轴线。至少壳体的内直径朝出口或与输入管路相对的端部区域的方向逐渐变细。例如,壳体具有包括外直径的圆柱形,其中,壳体由于其构造在壳体的内部可被分成三个分区段。安装在输入管路上的第一分区构造成空心圆柱体且具有第一内横截面。在中间的第二分区中,内横截面朝壳体的出口的方向或朝壳体的与输入管路相对的端部区域的方向逐渐变细,尤其锥形走向。在与假想的第三分区的分界上,壳体具有第二内横截面,该内横截面小于第一内横截面。延伸直至出口的第三分区同样构造成空心圆柱体,其中,第三内横截面相应于第二内横截面,且其中,出口的横截面同样相应于第三内横截面。

可替代地可设置成,壳体至少局部地构造成圆柱形且具有纵轴线,且壳体朝端部区域的方向至少局部地锥形地逐渐变细。例如壳体可被分成从外部可见的三个分区。安装在输入管路上的第一分区构造成空心圆柱体且具有第一外周长和第一内周长。在中间的第二分区构造成锥形且朝壳体的出口的方向或朝壳体的与输入管路相对的端部区域的方向逐渐变细。第二部分在与第一部分的分界上具有外周长和内周长,外周长和内周长相应于第一外周长和第一内周长。第三分区同样构造成空心圆柱体且具有第三外周长和第三内周长。第二部分在与第三部分的分界上具有外周长和内周长,外周长和内周长相应于第三外周长和第三内周长。

通过在壳体中的内横截面逐渐变小可尤其以简单的方式提高引导通过的清洁流体的速度。

根据本发明的一种实施方式可设置成,引导元件与壳体的变细部对应地构造且尤其布置在壳体的第二分区中。例如将相应构造的引导元件松动地置入漏斗形的第二分区中且通过清洁流体的背压挤入预设置的位置中。额外的可旋转运动的带动元件尤其布置在壳体的第三分区中。

此外,本发明涉及具有至少一个产品罐的产品加工设备,在产品罐中集成至少一个清洁装置,以便能够快速而简单地清洁该产品罐。至少一个清洁装置布置在用于清洁流体的至少一个输入管路上。尤其至少一个清洁装置位于产品罐的上部区域中且优选布置在中间,以便能够良好地以清洁流体覆盖产品罐的所有面。根据可替代的实施方式,至少一个清洁装置也可布置在产品罐的侧面的中间,甚至在底部区域中,使得清洁流体向上射出。清洁条件,例如用于引入清洁流体的压力等必须选择成,使得清洁流体整面地覆盖待清洁的面。尤其在产品罐较大的情况下和/或在产品罐具有内置结构的情况下,将多个清洁装置布置在产品罐的上部区域中和/或不同的区域中,以便避免喷射阴影以及由此确保全面清洁。

清洁装置包括布置在输入管路上的壳体,壳体具有与输入管路相对布置的出口。在出口上布置可围绕第一转动轴线转动的喷嘴头。在可转动的喷嘴头上布置可围绕与第一转动轴线不同的第二转动轴线旋转的分配装置,分配装置具有至少一个叶片元件或至少一个摆动元件。

优选地,产品加工设备的至少一个清洁装置具有上述特征。

清洁装置、尤其清洁头的主要优点是,该清洁头构造成基本没有狭窄部位。由此清洁流体的粗粒杂质、例如糖晶体等可通过清洁装置,而没有堵塞清洁装置。这实现了清洁流体的再次使用,尤其可多次循环引导清洁流体,以便使同一清洁流体用于多个冲洗过程且因此能够节省清洁流体。

清洁装置优选用于cip清洁,即,用于生产设备之内的清洁(定位清洗cleaninginplace),其中,优选也可多次利用受污染的清洁流体。

清洁装置可以不同的构造角度安装,而没有损害功能。在清洁装置之内,清洁流体的背压确保引导元件和带动元件关于其作用到清洁流体的运动上方面的功能。

可转动的喷嘴头在清洁装置的壳体的自由端部上的定位或转动一方面通过清洁流体借助引导元件的涡流形成和/或通过带动元件的转动运动引起。此外,可转动的喷嘴头的定位或转动也通过清洁流体在布置在喷嘴头上的分配装置上的压力引起。

为了产生可转动的喷嘴头和/或带动元件和/或分配装置的旋转运动,无需电驱动的驱动元件。通过清洁流体的背压和受到引导的运动产生旋转。

在结束清洁之后不再输送更多的清洁流体,即,清洁流体的背压消失。根据清洁装置的安装角度,清洁流体基本没有残留从清洁装置中流出。在安装角度不利的情况下,可通过用压缩空气给清洁装置吹气简单地将清洁流体从清洁装置中移除。

带动元件的横向于清洁流体穿过壳体的流动方向的棱边用作额外的粉碎件并且尤其引起对粗粒杂质的粉碎。

可在循环运行中以足够量的清洁流体进行清洁。载有杂质颗粒、例如砂糖等的清洁流体可流过清洁装置,但是这没有对喷嘴头的功能有不利影响。对装载清洁流体、例如用于糖果的液体清洁油脂的多次使用导致明显降低清洁所需的清洁流体总量。

清洁周期例如持续大约20分钟,其中,喷嘴头转动20至60次。即,喷嘴头每分钟转动一至三次。而分配装置转动得明显更快,尤其每分钟50至5000转。围绕第一转动轴线缓慢转动的喷嘴头与围绕不同的第二转动轴线快速转动的分配装置的结合产生特别好的清洁效果,因为以已知的方式相比于快速转动的清洁头,在清洁头缓慢转动的情况下提高了喷幅和清洗效果。

附图说明

下面应根据附图详细阐述本发明的实施例及其优点。各个元件彼此在附图中的尺寸比例不是始终与真实尺寸比例一致,因为相比于其他元件,一些形状被简化地示出并且为了更好地加以说明另一些形状被放大地示出。

图1示出了根据本发明的清洁装置的示意性外视图;

图2示出了根据本发明的清洁装置的沿着根据图1的剖切线c-c的横截面;

图3示出了通过根据本发明的清洁装置的沿着根据图1的剖切线c-c的横截面流过的清洁流体;

图4示出了带动元件的横截面;

图5a至5h示出了分配装置的不同实施方式;

图6a至6c示出了分配装置的另外的实施方式;

图7a和7b示出了分配装置的另一实施方式;

图8a和8b示出了分配装置的另一实施方式;

图9a至9d示出了引导元件的另一实施方式。

对本发明的相同元件或作用相同的元件使用相同的附图标记。此外为了清楚起见,在各个附图中仅示出用于说明相应附图所必需的附图标记。所示出的实施方式仅是例如能够实现根据本发明的装置的示例并且这些示例不是封闭性的限制。

具体实施方式

图1示出了根据本发明的清洁装置1的示意性外视图,图2示出了沿着根据图1的剖切线c-c的横截面。图3示出了流过清洁装置1的清洁流体。此外,图1也示出了清洁流体rf分配的方向。

清洁装置1包括壳体2。壳体2可松开地或不可松开地固定在用于清洁流体rf的输入管路100上,例如借助凸缘安装或以其他方式连接。因为输入管路100不是清洁装置1的组成部分,仅借助虚线示出输入管路。清洁流体rf流过壳体2。清洁流体经由出口3从壳体中排出。

在壳体2的与输入管路100相对的端部区域上、即尤其在出口3的区域中,喷嘴头4可转动地布置在壳体2上。喷嘴头4尤其形成用于经由出口3从壳体2中进入喷嘴头4的清洁流体rf的贯通孔5。

尤其在出口3的区域中第一支承面6构造在壳体2上,第一支承面尤其呈曲拐7的形式。喷嘴头4尤其由两个半壳元件构成,半壳元件共同地形成第二支承面8。尤其第二支承面8与壳体2的第一支承面6对应地构造。喷嘴头4如此布置在壳体2上,使得在第一支承面6和第二支承面8之间形成摩擦尽可能小的接触部位,使得喷嘴头4能够围绕壳体2的纵轴线l2或喷嘴头4的同轴的纵轴线l4沿旋转方向r4(参见图1)旋转。喷嘴头4的转动轴线在下面也称为第一转动轴线d1。

此外,在喷嘴头4上布置可围绕与第一转动轴线d1不同的第二转动轴线d2旋转的分配装置9,分配装置具有至少一个叶片元件10。

壳体2为了固定在输入管路100上具有构造成圆柱体的第一分区21。在第一分区上连接锥形变细的第二分区22,第二分区尤其转变到同样构造成圆柱体的第三分区23,其中,在第三分区23中的直径小于在第一分区21中的直径。

在第一分区21中布置呈螺旋元件30形式的引导元件11。引导元件具有至少一个完整的螺纹且完全地接触壳体2的内壁面,使得在俯视图中壳体2的整个横截面在第一分区21中通过螺旋元件30充满。

根据未示出的另一实施方式,壳体完全构造成空心圆柱体。必要时可设置成,壳体的内部区域具有结构,该结构将壳体分成确定的功能区域。例如可设置成,上面所述的变细部形成在圆柱体的内部空间中。

如在图1和图3中所示,引导元件11使得清洁流体rf在壳体2之内、尤其在清洁装置1的第一分区21之内有针对性地被引导。清洁流体rf尤其被强制完全地且尤其没有通过任何捷径地流过构造成螺旋元件30的引导元件11。由此使清洁流体rf进行旋转运动r-rf,其中,清洁流体rf优选形成涡流。

此外,在第三分区23中,必要时至少部分地伸入第二分区22中布置可旋转运动的带动元件12。带动元件12具有纵轴线l12,纵轴线与壳体2的纵轴线l2同轴或与喷嘴头4的纵轴线l4同轴。在带动元件12的纵轴线l12上布置可围绕纵轴线l12旋转的四个翼部13,使得翼部13在带动元件12围绕其纵轴线l12旋转r12时虽然没有接触壳体2在第三分区23中的内壁面,但是形成仅很小的间隙。

根据该实施方式,带动元件至少局部地伸入喷嘴头4中且与该喷嘴头机械连接。

通过清洁流体rf的旋转使得沿清洁流体rf的运动方向后置的带动元件12相对于壳体2进行旋转r12(尤其参见图1)。带动元件12机械联接在喷嘴头4上,使得带动元件的旋转r12直接引起喷嘴头4的旋转r4。因此,引导元件11用作第一驱动元件,第一驱动元件引起清洁流体的旋转r-rf且因此通过由此产生的带动元件12的旋转r12引起喷嘴头4的旋转r4。

从可转动的喷嘴头4中排出的清洁流体rf碰撞到分配装置9的至少一个叶片元件10上。由此,分配装置9开始围绕第二转动轴线d2旋转r9,该旋转尤其使得,清洁流体rf从清洁装置1开始朝所有方向抛出。

在该实施例中,引导元件11布置在壳体2的第一分区21中。但是也可布置在锥形走向的第二分区22中。尤其可设置成,将相应尺寸的引导元件(未示出)松动地置入第二分区22的锥形走向的漏斗区段中,然后,该引导元件通过进入的清洁流体rf的背压被挤入正确的位置中。

对此重要的是,在引导元件11和带动元件12之间构造限定的间距a,由此,带动元件12通过清洁流体rf开始运动、尤其旋转r12。

分配装置9尤其经由保持元件14直接地固定在喷嘴头4上,使得分配装置9不仅围绕喷嘴头4的第一转动轴线d1而且围绕第二转动轴线d2旋转,其中,第二转动轴线d2由于喷嘴头4的旋转r4在转动平面中可变。喷嘴头4的旋转r4相对缓慢地进行,而通过清洁流体rf撞击在分配装置9的叶片元件10上引起的旋转r9明显更快。这实现了清洁流体rf在所有方向上的特别良好的分配,其中,尤其可避免所谓的喷射阴影,即,清洁流体rf未到达的区域。

根据所示的实施方式,分配装置9相对于喷嘴头4的纵轴线l4具有水平错位v(参见图1),由此从喷嘴头4对清洁流体rf的注入特别有利地引起分配装置9的旋转r9。

图4示出了带动元件12的横截面和尤其带动元件12在壳体2的分区23中的布置方式。

带动元件12尤其具有希腊十字的形状,希腊十字具有四个等长的交叉臂15,交叉臂形成带动元件12的翼部13。可明显看出,带动元件12的翼部13分别延伸近似直至壳体2的内壁面,但是其中,翼部没有接触内壁面。因此,带动元件12可自由地围绕其纵轴线l12旋转。

带动元件12在横截面中具有仅可能小的端面,使得用于清洁流体rf(参见图3)的通过面df尽可能得大。由此尽可能地避免使清洁流体rf的杂质夹在带动元件12和壳体3的内壁面之间。

优选地,带动元件12的面对进入部100(参见图1和图2)的端侧的外棱边构造成弯曲成角度的,且用作用于必要时处于清洁流体中的粗粒杂质的粉碎件。

带动元件12的翼部13的朝向壳体2的内壁面的棱边具有倾斜部16。在带动元件12旋转r12时实现刮除效应,该刮除效应防止杂质固定在带动元件12和清洁装置1的壳体2之间。

图5a至5h以及图6a至6c示出了分配装置9a至9l的不同的实施方式。在分配装置9上的叶片元件10的构造或几何结构、数量和/或布置对清洁流体的分配有不同影响。叶片元件10的一些形状优选必须以相对于喷嘴头4的纵轴线l4有错位的方式(参见图1和图2)运行,而其他形状也可在没有错位的情况下提供期望的结果。叶片元件10的数量和构造可根据清洁装置1的要求来选择且最佳地协调。

在图5中所示的分配装置9a至9h分别构造成分配双轮,其中,叶片元件10分别布置在两个盘片17之间。两个盘片17优选可分别构造成整个圆盘。盘片17尤其形成使得清洁流体有针对性地朝叶片元件10偏转的侧边。

根据图5a和5b的叶片元件10a、10b构造成弯曲的翼部,而根据图5c至5e的叶片元件10c至10e构造成平面的或扁平的翼部。图5f至5h示出了具有相对于转动轴线d2凹形构造的叶片元件10f至10h的其他分配装置9f至9h。根据图6a至6c的分配装置9i至9l类似地构造,其中,在该实施方式中没有设置盘片17(参见图5)。

图7a和7b以及图8a和8b分别示出了分配装置9m、9o的另一实施方式。图7a和8a在具有隐藏线的示意图中示出了分配装置9m、9o的相应实施方式,以及图7b和8b在没有隐藏线的示意图中示出了分配装置9m、9o的相应实施方式。

在根据图7的分配装置9m中,叶片元件10m构造成弯曲的翼部,其中,翼部的厚度不均匀。代替地,翼部宽度逐渐变细,使得翼部在盘片17之间的大约中间具有最小的宽度,尤其翼部在该区域中具有尖锐的弯折部18或构造成棱边19,这引起清洁流体的抛甩性能发生改变,该抛甩性能在一定条件下可为有利的。

在根据图8的分配装置9o中,叶片元件10o构造成扁平的翼部13,其中,翼部13分别仅在两个盘片17之间的约一半上延伸。尤其设置成,在两个盘片17之间的区域被分成两个分区t1和t2。在第一分区t1中布置垂直于转动轴线d2延伸的三个翼部13-1,三个翼部彼此分别以120度的角度错开。在第二分区t2中同样布置垂直于转动轴线d2延伸的三个翼部13-2,它们彼此同样分别以120度的角度错开。此外设置成,在第一分区t1中的翼部13-1相对于在第二分区t2中的翼部13-2以60度的角度错开。翼部13的分开构造同样引起清洁流体的抛甩性能发生改变,该抛甩性能在一定应用条件下可为有利的。

图9a至9d示出了引导元件11的另一实施方式,尤其图9a示出了引导元件11的侧视图,图9b示出了根据图9a的引导元件11的从上方看的俯视图,以及图9c示出了根据图9a的引导元件11的从下方看的视图。图9d示出了相反布置的引导元件11。

引导元件11具有纵轴线l11,纵轴线尤其与分配装置9的第一转动轴线(参见图1至图3)同轴或平行。

引导元件11具有围绕引导元件11的纵轴线l11布置的五个浆40。引导元件11具有用于清洁流体rf的进入侧rf(ein)和排出侧rf(aus)。清洁流体rf经由进入侧rf(ein)进入引导元件11,通过进入侧在至少部分地改变运动方向和/或运动速度的情况下,经由排出侧rf(aus)从引导元件11中排出,然后撞击到带动元件12上。

浆40与引导元件11的纵轴线l11成角度地设置。浆40相对于引导元件11的纵轴线l11的倾斜度影响清洁流体rf的圆周速度。浆40的倾斜度构造得越小,清洁流体rf在排出侧rf(aus)上的圆周速度越高。尤其浆40的倾斜度也影响清洁流体rf的形成的涡流的强度。

引导元件11的浆40在侧面邻接壳体2的内壁面,使得由于浆40相对于引导元件11的纵轴线l11成角度的设置在从进入侧rf(ein)看过来的视图中形成部分闭合的面或获得部分闭合的横截面。

根据所示的实施方式,浆40的宽度在垂直于引导元件11的纵轴线l11的横截面中从进入侧rf(ein)朝排出侧rf(aus)的方向逐渐增大。基于第一宽度b1尤其得出在进入侧rf(ein)处的第一横截面q1,第一横截面q1小于通过增大的宽度b2获得的在排出侧rf(aus)处的第二横截面q2。通过不同的宽度b1和b2得出可具有不同应用的引导元件11。通过更换或翻转在清洁装置1的壳体2中的引导元件11(参见图2和图3),在进入侧rf(ein)和排出侧rf(aus)之间实现引导件或浆40的倾斜度的改变。

图9d示出了在壳体2(未示出)中翻转的引导元件11的布置。在该布置中,浆40的宽度在垂直于引导元件11的纵轴线l11的横截面中从进入侧rf(ein)朝排出侧rf(aus)的方向逐渐减小。基于第一宽度b1此时得出在排出侧rf(aus)处的横截面q2*,该横截面小于通过增大的宽度b2获得的在进入侧rf(ein)处的横截面q1*。

因此,根据引导元件11在清洁装置1的壳体2之内的布置(参见图2和图3)可产生不同强度的涡流。

本领域技术人员已知的能够使清洁流体进行涡旋运动的其他实施方式应同样包括在本发明中。

本发明在参考优选的实施方式的情况下进行描述。但是本领域技术人员可想到能够对本发明进行变换或变化,而对此不会离开下述权利要求的保护范围。

附图标记列表

1清洁装置

2壳体

3出口

4喷嘴头

5贯通孔

6第一支承面

7曲拐

8第二支承面

9分配装置

10叶片元件

11引导元件

12带动元件

13翼部

14保持元件

15交叉臂

16倾斜部

17盘片

18弯折部

19棱边

21第一分区

22第二分区

23第三分区

30螺旋元件

40浆

100输入管路

a间距

b宽度

c-c剖切线

d1/d2第一/第二转动轴线

df通过面

l纵轴线

q横截面

r旋转/旋转方向

rf清洁流体

rf(aus)排出侧

rf(ein)进入侧

t分区

v错位

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