涂料研磨机的制作方法

本实用新型涉及研磨装置，特别涉及涂料研磨机。

背景技术：

涂料是有机化工高分子材料，属于精细化工产品，是化学工业中的一个重要行业， 伴随着经济社会的发展，涂料工业逐步发展成为市场上必不可少的重要行业，涂料生产设备也随之逐步增多，涂料研磨设备就是其中之一，现如今市面上销售的的涂料研磨装置繁多，但还存在着或多或少的不足之处影响使用。

传统的研磨技术大多采用研磨辊设备进行研磨，研磨辊设备利用两个反向转动的辊细化涂料颗粒，研磨的速率不快，耗费时间比较长，不能对涂料进行充分的研磨，研磨的效率不高，需要进行二次研磨；现有技术的研磨盘结构研磨机采用高速转动的研磨盘，利用转动产生的剪切力，将涂料中颗粒破碎，但是这种研磨方式研磨较低，涂料无法在研磨盘上长时间研磨，需要二次研磨。

市场上急需改善涂料研磨装置的技术，使之可以更好的进行涂料研磨作业，提高研磨加工的效率，保障涂料出厂的质量。因此，亟需一种研磨效率高的涂料研磨机。

技术实现要素：

有鉴于此，为了解决现有技术中涂料研磨装置研磨效率低的技术问题，本实用新型提供一种研磨效率高的涂料研磨机。

本实用新型采用的技术方案为：

一种涂料研磨机，包括，支架：支架包括底板，支杆和固定杆；支杆下端与底板固定连接，支杆上端与固定杆一端固定连接，支杆位于底板正上方且支杆平行于底板；气动缸：气动缸包括缸体和活塞杆，缸体固定安装于底板上表面；活塞杆下端与缸体连接；支撑板：支撑板下表面与活塞杆上端固定连接；支撑板与底板相互平行； 电机：包括机体和转轴，转轴下端与机体固定连接，机体可驱动转轴转动；磨盘：包括圆盘状的上磨盘和下磨盘，下磨盘下表面中心与转轴固定连接，下磨盘上表面设有平面螺旋状的凹槽，凹槽的螺旋起点位于下磨盘上表面中心，凹槽的螺旋终点位于下磨盘侧面；上磨盘与下磨盘同轴设置，上磨盘中心设有通孔；凹槽螺旋方向与机体转动方向相同；漏斗：包括倒圆台状的斗身和斗咀，斗身下端与斗咀上端固定连接，斗咀下端固定连接于通孔内壁，斗咀侧面与固定杆另一端固定连接。

下磨盘上表面设置有平面螺旋状的凹槽，凹槽的螺旋起点为进料口，螺旋终点为出料口，涂料从漏斗经过上磨盘中心通孔注入下磨盘的进料口；电机的机体转动方向与凹槽的螺旋方向一致，涂料在上磨盘与凹槽之间研磨，电机转动的同时，带动涂料沿着螺旋方向运动，延长涂料研磨的时间，使涂料的研磨更加充分，从而提高研磨效率。

优选的，凹槽的槽深由进料口至出料口逐渐减小。

凹槽的槽深由进料口至出料口逐渐减小，上磨盘下表面与凹槽底部的距离逐渐缩小，涂料随着研磨盘的转动，产生滚动，逐步粉碎，避免直接施加较大的压力，从而造成硬性粉碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

优选的，凹槽内壁设有球形槽，球形槽内设有可自由转动的球体。

研磨时，涂料中固体颗粒在凹槽与上磨盘之间滚动破碎，设置球体，提高研磨效率，球体可转动，采用转动研磨，防止固定颗粒硬性破碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

优选的，球形槽的孔深小于球形槽的球直径且大于球形槽的球半径，球体的球直径大于球形槽的槽口直径。

球形槽的孔深小于球形槽的球直径且大于球形槽的球半径，球体的球直径大于球形槽的槽口直径，保证球体被限制于球形槽内，不会随着磨盘的转动脱离球形槽，避免阻塞凹槽，影响研磨效率。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型提供的涂料研磨机，下磨盘上表面设置有平面螺旋状的凹槽，凹槽的螺旋起点为进料口，螺旋终点为出料口，涂料从漏斗经过上磨盘中心通孔注入下磨盘的进料口；电机的机体转动方向与凹槽的螺旋方向一致，涂料在上磨盘与凹槽之间研磨，电机转动的同时，带动涂料沿着螺旋方向运动，延长涂料研磨的时间，使涂料的研磨更加充分，从而提高研磨效率。

2、本实用新型提供的涂料研磨机，凹槽的槽深由进料口至出料口逐渐减小，上磨盘下表面与凹槽底部的距离逐渐缩小，涂料随着研磨盘的转动，产生滚动，逐步粉碎，避免直接施加较大的压力，从而造成硬性粉碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

3、本实用新型提供的涂料研磨机，研磨时，涂料中固体颗粒在凹槽与上磨盘之间滚动破碎，设置球体，提高研磨效率，球体可转动，采用转动研磨，防止固定颗粒硬性破碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

4、本实用新型提供的涂料研磨机，球形槽的孔深小于球形槽的球直径且大于球形槽的球半径，球体的球直径大于球形槽的槽口直径，保证球体被限制于球形槽内，不会随着磨盘的转动脱离球形槽，避免阻塞凹槽，影响研磨效率。

附图说明

图1为具体实施方式中的涂料研磨机结构示意图；

图2为具体实施方式中下磨盘凹槽结构示意图一；

图3为具体实施方式中下磨盘凹槽结构示意图二；

其中：101-底板；102-支杆；103-固定杆；201-缸体；202-活塞杆；30-支撑板；401-机体；402-转轴；501-上磨盘；5011-通孔；502-下磨盘；5021-凹槽；50211-球形槽；601-斗身；602-斗咀；球体-70。

具体实施方式

如图1-2所示，本实施例提供的一种涂料研磨机，包括，支架：支架包括底板101，支杆102和固定杆103；支杆102下端与底板101固定连接，支杆102上端与固定杆103一端固定连接，支杆102位于底板101正上方且支杆102平行于底板101；气动缸：气动缸包括缸体201和活塞杆202，缸体201固定安装于底板101上表面；活塞杆202下端与缸体201连接；支撑板30：支撑板30下表面与活塞杆202上端固定连接；支撑板30与底板101相互平行； 电机：包括机体401和转轴402，转轴402下端与机体401固定连接，机体401可驱动转轴402转动；磨盘：包括圆盘状的上磨盘501和下磨盘502，下磨盘502下表面中心与转轴402固定连接，下磨盘502上表面设有平面螺旋状的凹槽5021，凹槽5021的螺旋起点位于下磨盘502上表面中心，凹槽5021的螺旋终点位于下磨盘502侧面；上磨盘501与下磨盘502同轴设置，上磨盘501中心设有通孔5011；凹槽5021螺旋方向与机体401转动方向相同；漏斗：包括倒圆台状的斗身601和斗咀602，斗身601下端与斗咀602上端固定连接，斗咀602下端固定连接于通孔5011内壁，斗咀602侧面与固定杆103另一端固定连接。

下磨盘502上表面设置有平面螺旋状的凹槽5021，凹槽5021的螺旋起点为进料口，螺旋终点为出料口，涂料从漏斗经过上磨盘501中心通孔5011注入下磨盘502的进料口；电机的机体401转动方向与凹槽5021的螺旋方向一致，涂料在上磨盘501与凹槽5021之间研磨，电机转动的同时，带动涂料沿着螺旋方向运动，延长涂料研磨的时间，使涂料的研磨更加充分，从而提高研磨效率。

凹槽5021的槽深由进料口至出料口逐渐减小。

凹槽5021的槽深由进料口至出料口逐渐减小，上磨盘501下表面与凹槽5021底部的距离逐渐缩小，涂料随着研磨盘的转动，产生滚动，逐步粉碎，避免直接施加较大的压力，从而造成硬性粉碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

如图3所示，凹槽5021内壁设有球形槽50211，球形槽50211内设有可自由转动的球体70。

研磨时，涂料中固体颗粒在凹槽5021与上磨盘501之间滚动破碎，设置球体70，提高研磨效率，球体70可转动，采用转动研磨，防止固定颗粒硬性破碎，破坏涂料中固定颗粒的晶型，影响涂料的性能。

球形槽50211的孔深小于球形槽50211的球直径且大于球形槽50211的球半径，球体70的球直径大于球形槽50211的槽口直径。

球形槽50211的孔深小于球形槽50211的球直径且大于球形槽50211的球半径，球体70的球直径大于球形槽50211的槽口直径，保证球体70被限制于球形槽50211内，不会随着磨盘的转动脱离球形槽50211，避免阻塞凹槽5021，影响研磨效率。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利保护范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。