本实用新型涉及等离子气相反应制备氮化硅的设备技术领域，具体为一种等离子体气相反应制备氮化硅装置。
背景技术：
等离子体气相是指氯化硅和氨气同时反应，将氯化硅反应生成氮化硅，从而方便进行制备氮化硅薄膜，用于生产太阳能的电池板，将氨气通入到存放有氯化硅的箱体内，氨气向上运动，移动到设备的内部顶端，就没办法在进行下一步的反应了，这就浪费了大量的氨气，使制备氮化硅的陈本变高，所以，需要一种设备，能够将氨气进行循环利用。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种等离子体气相反应制备氮化硅装置，具备能够将氨气进行循环利用的优点，解决了现在设备在市北之后，氨气只能利用一次的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子体气相反应制备氮化硅装置，包括支撑柱、安装架、反应箱体、内循环装置、下料管隔板和过滤主体，所述安装架外侧安装有支撑柱，所述支撑柱下贱安装有防滑支脚，所述安装架内部插接有反应箱体，所述反应箱体内部中间位置处安装有过滤主体，所述过滤主体外侧设置有板框，所述板框内部安装有过滤网，所述板框一侧安装有把手，所述反应箱体内部顶端安装有内循环装置，所述内循环装置上端设置有气体压力泵，所述气体压力泵一侧安装有锥形吸气管，所述气体压力泵下端安装有氨气循环管。
优选的，所述防滑支脚和支撑柱均设有四个，且四个防滑支脚和支撑柱分设于安装架四个角的位置处。
优选的，所述反应箱体下端一侧安装有废水出口管。
优选的，所述过滤主体下端安装有限位块。
优选的，所述过滤主体上方安装有下料管隔板。
优选的，所述过滤主体和下料隔板一侧中间位置处安装有取放门。
优选的，所述反应箱体顶端安装有等距分布的气体溢流阀，且气体溢流阀共设有三个。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：
1、本实用新型通过设置下料管隔板和过滤主体，达到了将反应结束的溶液进行过滤的效果，通过将下料管的阀门打开，使上端反应过后的溶液能够流下来，通过过滤主体进行过滤，从而得到较为纯净的氮化硅，通过循环的反应，使氯化硅内部产生很多的氮化硅，再进行过滤，能够使制备的效率提升。
2、本实用新型通过设置内循环装置，达到了将氨气进行循环利用的效果，通过将取放门打开，将过滤主体进行安装，通过将过滤主体的板框放置到限位块上端，即可将板框进行固定，再将取放门关上，通过氨气进口管先将氯化硅溶液通入到反应箱体内部的上端，再通入氨气，进行反应，当氨气通过氯化硅溶液，上升到反应箱体内部顶端的时候，通过内循环装置将氨气进行循环利用，通过气体压力泵将按氨气吸入，再通过氨气循环管喷到氯化硅溶液底部，再一次进行反应，直到氯化硅完全反应之后，停止，通过设置内循环装置，能够有效的保证设备的正常运转，且能够将氨气的使用效果达到最佳。
附图说明
图1为本实用新型的主视结构示意图；
图2为本实用新型的内循环装置主视结构示意图；
图3为本实用新型的过滤主体主视结构示意图。
图中：-防滑支脚；2-支撑柱；3-安装架；4-限位块；5-氨气进口管；6-反应箱体；7-内循环装置；8-气体溢流阀；9-下料管隔板；10-取放门；11-过滤主体；12-废水出口管；13-锥形吸气管；14-气体压力泵；15-氨气循环管；16-板框；17-把手；18-过滤网。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1至3，本实用新型提供的一种实施例：一种等离子体气相反应制备氮化硅装置，包括支撑柱2、安装架3、反应箱体6、内循环装置7、下料管隔板9和过滤主体11，安装架3外侧安装有支撑柱2，支撑柱2下贱安装有防滑支脚1，防滑支脚1和支撑柱2均设有四个，且四个防滑支脚1和支撑柱2分设于安装架3四个角的位置处，安装架3内部插接有反应箱体6，反应箱体6下端一侧安装有废水出口管12，反应箱体6内部中间位置处安装有过滤主体11，过滤主体11下端安装有限位块4，过滤主体11上方安装有下料管隔板9，通过将下料管的阀门打开，使上端反应过后的溶液能够流下来，通过过滤主体11进行过滤，从而得到较为纯净的氮化硅，通过循环的反应，使氯化硅内部产生很多的氮化硅，再进行过滤，能够使制备的效率提升，过滤主体11和下料隔板9一侧中间位置处安装有取放门10，过滤主体11外侧设置有板框16，板框16内部安装有过滤网18，板框16一侧安装有把手17，反应箱体6内部顶端安装有内循环装置7，通过将取放门10打开，将过滤主体11进行安装，通过将过滤主体11的板框16放置到限位块4上端，即可将板框16进行固定，再将取放门10关上，通过氨气进口管5先将氯化硅溶液通入到反应箱体6内部的上端，再通入氨气，进行反应，当氨气通过氯化硅溶液，上升到反应箱体6内部顶端的时候，通过内循环装置7将氨气进行循环利用，通过气体压力泵14将按氨气吸入，再通过氨气循环管1喷到氯化硅溶液底部，再一次进行反应，直到氯化硅完全反应之后，停止，通过设置内循环装置7，能够有效的保证设备的正常运转，且能够将氨气的使用效果达到最佳，内循环装置7上端设置有气体压力泵14，气体压力泵14一侧安装有锥形吸气管13，气体压力泵14下端安装有氨气循环管15，反应箱体6顶端安装有等距分布的气体溢流阀8，且气体溢流阀8共设有三个。
工作原理：本实用新型工作中，使用者通过将取放门10打开，将过滤主体11进行安装，通过将过滤主体11的板框16放置到限位块4上端，即可将板框16进行固定，再将取放门10关上，通过氨气进口管5先将氯化硅溶液通入到反应箱体6内部的上端，再通入氨气，进行反应，当氨气通过氯化硅溶液，上升到反应箱体6内部顶端的时候，通过内循环装置7将氨气进行循环利用，通过气体压力泵14将按氨气吸入，再通过氨气循环管1喷到氯化硅溶液底部，再一次进行反应，直到氯化硅完全反应之后，停止，过将下料管的阀门打开，使上端反应过后的溶液能够流下来，通过过滤主体11进行过滤，从而得到较为纯净的氮化硅，至此，整个设备的工作流程完成。
对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。