本申请涉及显示领域，具体涉及电子器件的封装领域，尤其涉及一种胶体涂布方法及胶体涂布装置。
背景技术：
在传统的胶体涂布工艺中，胶水被滴注在需要保护的区域后，即进行固化，固化后的胶体能够起到隔水汽、防腐蚀的作用。结合图1和图2所示，滴注在预定区域的胶水11为穹顶状结构，中间部分的厚度较大，两侧部分的厚度较小，并且，为了防止溢胶导致的胶体剥落(peeling)或折伤，胶水11不会被涂布到基板(例如显示面板)12的边缘位置，例如图中所示的左右两侧的边缘位置。由此，固化后的胶体也为穹顶状结构，厚度较大且不均匀。而柔性显示装置作为当前显示领域的一个主流趋势，其在弯折区域也会涂布胶体，并且胶体覆盖待涂布基板的边缘位置，而为了防止弯折操作破坏内部走线，胶体必须轻薄且厚度均匀。显然，传统的胶体涂布工艺无法满足该要求。
技术实现要素：
鉴于此，本申请提供一种胶体涂布方法及胶体涂布装置，能够形成厚度均匀的胶体，有利于满足柔性显示装置对胶体的涂布要求。
本申请一实施例的胶体涂布方法，包括：
设置与基板垂直的挡板，所述挡板高于所述基板的上表面，且在所述基板上限定待涂布区域；
在所述待涂布区域注入胶水；
对注入所述胶水的基板进行震动；
对所述胶水进行固化；
撤去所述挡板。
本申请一实施例的胶体涂布装置，包括挡板、震动机构及固化机构，所述挡板用于与待涂布胶体的基板垂直设置且挡板高于基板的上表面，以在基板上限定待涂布区域，所述震动机构用于对基板进行震动以对注入待涂布区域内的胶水进行震动，所述固化机构用于对震动后的胶水进行固化。
有益效果：本申请利用挡板将胶水限定在基板上的待涂布区域内，对注入胶水的基板进行震动，利用胶水的流动性，使得胶水在待涂布区域内均匀分布，固化后撤去挡板，即可形成厚度均匀的胶体，从而有利于满足柔性显示装置对胶体的涂布要求。
附图说明
图1是现有技术中在基板上涂布胶水的结构俯视图；
图2是现有技术中在基板上涂布胶水的结构侧视图；
图3是本申请一实施例的胶体涂布方法的流程示意图；
图4是基于图3所示方法在基板上涂布胶体的场景示意图；
图5是本申请在基板上涂布胶水的结构俯视图；
图6是本申请另一实施例的胶体涂布方法的流程示意图；
图7是本申请一实施例的挡板的结构剖视图。
具体实施方式
本申请的主要目的是：利用挡板将胶水限定在基板上的待涂布区域内，对注入胶水的基板进行震动，利用胶水的流动性，使得胶水在待涂布区域内均匀分布，固化后撤去挡板，即可形成厚度均匀的胶体，以此有利于满足柔性显示装置对胶体的涂布要求。
下面结合本申请实施例中的附图，对本申请所提供的各个示例性的实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。在不冲突的情况下，下述各个实施例以及实施例中的特征可以相互组合。并且，本申请全文所采用的方向性术语，例如“上”、“下”等，均是为了更好的描述各个实施例的技术方案，并非用于限制本申请的保护范围。
图3是本申请一实施例的胶体涂布方法的流程示意图，图4是基于图3所示方法在基板上涂布胶体的场景示意图。请参阅图3和图4，所述胶体涂布方法可以包括步骤s31～s35。
s31：设置与基板垂直的挡板，挡板高于基板的上表面，且在基板上限定待涂布区域。
在不同类型的电子器件中，所述基板41的具体含义不同，本申请对此并不予以限制。例如，在lcd(liquidcrystaldisplay,液晶显示器)中，所述基板41可以是pcb(printedcircuitboard,印刷电路板)、阵列基板(thinfilmtransistorsubstrate，tft基板或array基板)、或者彩膜基板(colorfiltersubstrate，cf基板或彩色滤光片基板)。又例如，在oled(organiclight-emittingdiode,有机发光二极管)显示器中，所述基板41可以是用于封装oled器件的透光基板。
基板41的上表面预留有需要进行胶体封装的区域，例如图5虚线所示的待涂布区域411。待涂布区域411可覆盖基板41的边缘。
挡板42的侧面与基板41的侧面抵接，并且挡板42与基板41的上表面相垂直，挡板42高于基板41的上表面，于此，所述挡板42和基板41相配合并形成一个顶部开口的凹槽43，该凹槽43的底面为基板41的上表面，该凹槽43的侧面为挡板42的内侧面。
在其他实施例中，如果待涂布区域411的某些侧面已经设有高于基板41上表面的阻挡件，则挡板42仅设置于未设置这些阻挡件的一侧，如图5所示，挡板42仅设置在基板41的左侧和右侧。
s32：在所述待涂布区域注入胶水。
本实施例可以通过喷嘴或滴嘴向凹槽43中注入胶水44。胶水44在凹槽43内为穹顶状结构，中间部分的厚度较大，两侧部分的厚度较小，该胶水44的边缘与挡板42的内侧面接触。
s33：对注入所述胶水的基板进行震动。
在注入胶水44后，本申请及时对基板41施加震动脉冲，以使基板41、挡板42和胶水44同步震动，此时，利用胶水44的流动性，中间部分的胶水44朝向边缘部分流动，胶水44在中间部分的厚度变小，而在边缘区域的厚度增大，最终使得胶水44在待涂布区域411内均匀分布，胶水44由穹顶状结构变为厚度均匀的层状结构。
s34：对所述胶水进行固化。
本实施例可以采用光辐射固化所述胶水44，例如采用uv光(紫外光)对胶水44进行照射，以使胶水44固化为胶体45。在固化后，胶体45与胶水44的形状相同，仍为厚度均匀的层状结构。
s35：撤去所述挡板。
为便于挡板42与胶体45分离，在一种实施方式中，所述挡板42可以采用粘性低的材料制得，例如聚乙烯、聚氯乙烯等有机高分子材料，于此，挡板42与胶体45之间不易粘接。当然，所述挡板42的内侧面也可以预先设有膜，该膜与胶体45之间的粘性较低。
撤去所述挡板42，即可得到形成于基板41上的胶体45。
相比较于图1和图2所示的胶体，所述胶体45厚度均匀，其边缘可以覆盖基板41的边缘，并且胶体45的厚度大幅降低(在实际应用场景中胶体45的厚度可以降低20％～50％)，胶体45变薄，在弯折时不易被折伤，从而有利于满足柔性显示装置对胶体的涂布要求。当然，所述胶体45同样可以对弯折区域起到隔水汽、防腐蚀的作用。
图6是本申请另一实施例的胶体涂布方法的流程示意图。如图6所示，所述胶体涂布方法可以包括步骤s61～s67。
s61：设置与基板垂直的挡板，挡板高于基板的上表面，且在基板上限定待涂布区域。
s62：对挡板进行加热以使挡板保持预定温度。
s63：在所述待涂布区域注入胶水。
s64：对注入所述胶水的基板进行震动。
s65：对所述胶水进行固化。
s66：对所述挡板吹送冷风以降温。
s67：撤去所述挡板。
为便于描述，对于相同结构元件，本申请采用相同的标号。在前述实施例的描述基础上，但与其不同的是，在注入胶水44之前，本实施例对挡板42进行加热以使挡板42保持预定温度，并且胶水44注入、震动及固化的过程中，挡板42始终保持预定温度。其中，所述预定温度等于或大于挡板42热膨胀所需的温度，例如对于采用有机高分子材料制得的挡板42，所述预定温度可以为40℃，也就是说，挡板44处于热膨胀状态，其厚度变大。当对所述挡板42进行降温处理时，例如对挡板42吹送冷风以实现降温，挡板42冷缩并发生形变，其厚度变小，于此，挡板42可以与胶体45自然分离。
其中，请参阅图7，所述挡板42的内部可以设置有加热元件421，例如呈螺旋状的加热丝。所述加热元件421加热以使挡板42保持预定温度。
前述实施例的胶体涂布方法可基于本申请提供的一种胶体涂布装置予以实现。具体地，所述胶体涂布装置可以包括挡板、震动机构及固化机构，所述挡板用于与待涂布胶体的基板垂直设置且挡板高于基板的上表面，以在基板上限定待涂布区域，所述震动机构用于对基板进行震动以对注入待涂布区域内的胶水进行震动，所述固化机构用于对震动后的胶水进行固化。在本实施例中，挡板的内部可以设置有加热元件，例如呈螺旋状的加热丝，所述加热元件加热以使挡板保持预定温度；震动机构可以为马达或者震动脉冲发生装置；固化机构可以为光辐射固化机构，用于发出uv光对胶水进行固化。
当然，所述胶体涂布装置还可以包括其他结构元件，例如与震动机构及固化机构连接的中央控制器，该中央控制器控制这些结构元件执行各自的操作。
另外，所述胶体涂布装置的各个结构元件可参阅前述实施例的描述，并产生与前述实施例相同的有益效果。
再次说明，以上所述仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，例如各实施例之间技术特征的相互结合，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。