技术特征：
技术总结
一种坩埚涂层及其喷涂方法，该坩埚涂层包括：涂覆于所述坩埚内壁上的第一涂层和涂覆于所述第二涂层上的第二涂层，其中，所述第一涂层的原料包括氮化硅、水、硅溶胶和分散剂，其质量配比为3～8:3～8:1～3:0.05～0.15；所述第二涂层的原料包括氮化硅、水和分散剂，其质量配比为3～8:3～8:0.05～0.15。本发明实施例中的坩埚可降低涂层被侵蚀概率，降低粘锅，同时也相应减少由涂层扩散至硅锭中的氧杂质含量，提高硅锭的成产质量。
技术研发人员：丁云飞;杨俊;严军辉;肖贵云;张涛;邓清香;金浩
受保护的技术使用者：晶科能源有限公司;浙江晶科能源有限公司
技术研发日：2018.07.26
技术公布日：2018.12.25