本发明涉及能源材料领域,特别是涉及应用于光催化还原水的cufeo2纳米片上外延生长zno纳米棒阵列的三维纳米异质结构的制备方法。
背景技术:
p型半导体cufeo2与n型半导体zno可构筑成p-n异质结,并具有光电化学分解水制氢的应用潜力。文献[chemsuschem,2015,1359-1367;j.mater.chem.a,2017,165-171]报道了基于cufeo2的光电极材料的制备,但到目前为止,尚未有制备cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料的报道。
技术实现要素:
本发明的目的是提供一种cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料的制备方法。
为实现上述目的,本发明的技术方案是:
首先配制不同浓度的zn(no3)2与乌洛托品(hmt)的混合前驱液,再通过超声将cufeo2纳米片加入到该前驱液中,形成均匀的悬浊液后,将该悬浊液通过水热或常压加热的方法,反应一段时间后得到三维纳米异质结构,将产物分别三次水洗和醇洗后转入50℃烘箱中干燥10h,这种方法简便成本低,所得到的三维纳米异质结构稳定。
进一步的,所述的zn(no3)2与乌洛托品(hmt)的物质的量之比为1:2~1:10,该比例下形成的cufeo2/zno三维纳米异质结构。
进一步的,所述的cufeo2纳米片与zn(no3)2的质量比例为2:1~1:10,在此比例下可以形成均一稳定的悬浊母液。
进一步的,所述的悬浊液的反应温度为60℃~200℃,反应时间为0.5h~36h,其目的在于控制zno纳米棒在cufeo2表面的阵列生长。
所述的产物的干燥温度为50℃,干燥时间10h。保证材料充分干燥。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:所述方法工艺过程简便、原料廉价,制得的cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料具有较高的光电化学性能。
附图说明
图1是本发明所用cufeo2纳米片的扫描电镜图。
图2是本发明实施例1所制备材料的扫描电镜图。
图3是本发明实施例1所制备材料的光电流—时间曲线图。
图4是本发明实施例2所制备材料的扫描电镜图。
图5是本发明实施例2所制备材料的光电流—时间曲线图。
图6是本发明实施例3所制备材料的扫描电镜图。
图7是本发明实施例3所制备材料的光电流—时间曲线图。
具体实施方式
实施例1
一种cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料的制备方法,方法步骤如下:
称取12mgzn(no3)2,再量取5ml浓度为20mmol/l乌洛托品(hmt)混合加入40ml去离子水形成zn(no3)2与乌洛托品(hmt)的混合前驱液,接着称取3mgcufeo2纳米片(其形貌如图1所示),通过超声将cufeo2纳米片加入到该前驱液中,形成均匀的悬浊液后将该母液移入50ml反应釜内,在100℃的烘箱中反应3h,将产物分别三次水洗和醇洗后转入50℃烘箱中干燥10h,得到cufeo2/zno的三维纳米异质结构。
图2是本发明实施例1所制备材料的扫描电镜图,从图中可以看出zno纳米棒已经很好的阵列生长在cufeo2纳米片表面。
图3是本发明实施例1所制备材料的光电流—时间曲线图,从曲线中可知实施例1所制备材料的光响应电流约为3μa/cm-2。
实施例2
一种cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料的制备方法,方法步骤如下:
称取120mgzn(no3)2,再量取10ml浓度为20mmol/l乌洛托品(hmt)混合加入40ml去离子水形成zn(no3)2与乌洛托品(hmt)的混合前驱液,接着称取25mgcufeo2纳米片,通过超声将cufeo2纳米片加入到该前驱液中,形成均匀的悬浊液后将该母液移入50ml反应釜内,在160℃的烘箱中反应12h,将产物分别三次水洗和醇洗后转入50℃烘箱中干燥10h,得到cufeo2/zno的三维纳米异质结构。
图4是本发明实施例2所制备材料的扫描电镜图,从图中可以看出zno纳米棒已经很好的阵列生长在cufeo2纳米片表面。
图5是本发明实施例2所制备材料的光电流—时间曲线图,从曲线中可知实施例1所制备材料的光响应电流约为2μa/cm-2。
实施例3
一种cufeo2/zno三维纳米p-n异质结材料的制备方法,方法步骤如下:
称取10mgzn(no3)2,再量取10ml浓度为20mmol/l乌洛托品(hmt)混合加入40ml去离子水形成zn(no3)2与乌洛托品(hmt)的混合前驱液,接着称取2.5mgcufeo2纳米片,通过超声将cufeo2纳米片加入到该前驱液中,形成均匀的悬浊液后将该母液移入100ml圆底烧瓶内,在80℃的条件下水浴加热2h,将产物分别三次水洗和醇洗后转入50℃烘箱中干燥10h,得到cufeo2/zno的三维纳米异质结构。
图6是本发明实施例3所制备材料的扫描电镜图,从图中可以看出zno纳米棒已经很好的阵列生长在cufeo2纳米片表面。
图7是本发明实施例3所制备材料的光电流—时间曲线图,从曲线中可知实施例1所制备材料的光响应电流约为7μa/cm-2。