真空浸渍罐及真空浸渍机的制作方法

本实用新型涉及真空浸技术领域，特别是涉及一种真空浸渍罐及真空浸渍机。

背景技术：

现有技术中电机线圈、铁芯、变压器等元器件生产过程中需进行真空浸渍和烘干等工艺步骤。

将固态物质浸泡于液态溶液中，吸收溶质或溶剂经相互反应使固态物质获得改性效果从而提高其品质的工艺操作成为浸渍。浸渍在生产中的应用十分普遍，许多浸渍工艺工艺要求在限定的温度内进行，以保存参与反应和热敏性成分和浸渍介质的固有特性和特色。采用真空浸渍技术合理调整操作工艺能使浸渍工艺获得明显改善。

现有技术中真空浸渍设备包括真空浸渍罐(浸渍缸)，如专利号为ZL99228572.0的专利中，浸渍槽由升降装置驱动升降，吊篮上侧设有一真空盖板，升降装置驱动浸渍槽上升后浸渍槽的上端与真空盖板密封配合。然而，待浸渍的工件放置于吊篮中，吊篮悬挂于真空盖板下方，工件及吊篮的晃动会影响真空盖板的密封性，从而影响浸渍效果。

因此，针对上述技术问题，有必要提供一种真空浸渍罐及真空浸渍机。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种真空浸渍罐及真空浸渍机。

为了实现上述目的，本实用新型一实施例提供的技术方案如下：

一种真空浸渍罐，所述真空浸渍罐包括相对设置的底板和顶盖、位于底板和顶盖之间的罐筒，所述罐筒的上部设有安装法兰，所述顶盖固定安装于安装法兰上，所述罐筒内壁设有向内凸出的凸起部，所述凸起部上承载有载板，所述载板包括载板本体及凸起于载板本体上方的若干微结构，载板用于承载待浸渍工件。

作为本实用新型的进一步改进，所述微结构平行分布于载板本体上方，所述微结构的截面呈半圆形、梯形、三角形、方形中的一种或多种。

作为本实用新型的进一步改进，所述微结构等间距分布于载板本体上。

作为本实用新型的进一步改进，所述微结构阵列分布于载板本体上方，所述微结构呈半球形、圆台形、圆柱形中的一种或多种的组合。

作为本实用新型的进一步改进，所述微结构均匀分布于载板本体上。

作为本实用新型的进一步改进，所述安装法兰上设有环形的收容槽，所述收容槽中固定安装有密封圈。

作为本实用新型的进一步改进，所述凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/10～3/10。

本实用新型一实施例提供的技术方案如下：

一种真空浸渍机，所述真空浸渍机包括壳体及位于壳体内的真空浸渍罐，所述真空浸渍罐为上述的真空浸渍罐。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型中通过在罐筒内设置载板，载板直接用于承载待浸渍工件，由于载板上设有凸起的微结构，待浸渍工件的底面仅部分与载板接触，不会影响工件的浸渍效果；

通过将待浸渍工件直接放置于载板上的技术方案，避免了吊篮引起的密封不良问题，提高了浸渍效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型第一实施例中真空浸渍罐的剖视结构示意图；

图2为图1的局部结构示意图；

图3为本实用新型第一实施例中载板的俯视结构示意图；

图4为本实用新型第二实施例中载板的俯视结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型中的技术方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的各个图示中，为了便于图示，结构或部分的某些尺寸会相对于其它结构或部分扩大，因此，仅用于图示本实用新型的主题的基本结构。

本文使用的例如“左”、“右”、“左侧”、“右侧”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如，如果将图中的设备翻转，则被描述为位于其他单元或特征“右侧”的单元将位于其他单元或特征“左侧”。因此，示例性术语“右侧”可以囊括左侧和右侧这两种方位。设备可以以其他方式被定向(旋转90度或其他朝向)，并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。

参图1-图3所示，本实用新型第一实施例中的真空浸渍罐10包括相对设置的底板11和顶盖12、位于底板11和顶盖12之间的罐筒13，罐筒13的上部设有安装法兰14，顶盖12固定安装于安装法兰14上。

另外，罐筒13内壁设有向内凸出的凸起部15，凸起部15上承载有载板16，载板16包括载板本体161及凸起于载板本体上方的若干微结构162，载板16用于承载待浸渍工件。

为了保证真空浸渍罐的密封性能，在安装法兰14上设有环形的收容槽(未标号)，收容槽中固定安装有密封圈141，通过密封圈的设置能够保证真空浸渍罐的密封性。

本实施例中，微结构162平行分布于载板本体上方，且微结构162等间距设置，微结构的截面为半圆形。

当然，在其他实施例中，微结构之间的距离可以根据需要进行设计，如中间密、两边疏的设置，另外，微结构的截面也可以设置为其他形状，如梯形、三角形、方形等，此处不再一一举例说明。

本实施例中的凸起部15上表面呈平面，下表面与罐筒内壁之间的夹角为锐角，凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/10～3/10。优选地，本实施例中凸起部距离底板的距离为罐筒高度的1/5。

参图1并结合图4所示，本实用新型第二实施例中的真空浸渍罐10包括相对设置的底板11和顶盖12、位于底板11和顶盖12之间的罐筒13，罐筒13的上部设有安装法兰14，顶盖12固定安装于安装法兰14上。

另外，罐筒13内壁设有向内凸出的凸起部15，凸起部15上承载有载板16，载板16包括载板本体161及凸起于载板本体上方的若干微结构162，载板16用于承载待浸渍工件。

本实施例中真空浸渍罐10的结构与第一实施例基本相同，不同之处在于微结构162的设置不同。

如图4所示，本实施例中的微结构162阵列分布于载板本体161上方，微结构呈半球形设置。

当然，在其他实施例中，微结构的分布可以根据需要进行设计，如中间密、四周疏的设置，另外，微结构也可以设置为其他形状，如圆台形、圆柱形等，此处不再一一举例说明。

另外，本实用新型还公开了一种真空浸渍机，该真空浸渍机包括壳体及位于壳体内的真空浸渍罐，真空浸渍罐为上述的真空浸渍罐。

由以上技术方案可以看出，本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型中通过在罐筒内设置载板，载板直接用于承载待浸渍工件，由于载板上设有凸起的微结构，待浸渍工件的底面仅部分与载板接触，不会影响工件的浸渍效果；

通过将待浸渍工件直接放置于载板上的技术方案，避免了吊篮引起的密封不良问题，提高了浸渍效果。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。