一种基于PN制冷的实验台的制作方法

本实用新型涉及实验台技术领域，具体为一种基于PN制冷的实验台。

背景技术：

实验台，是医院、学校、化工厂和科研院所等企事业单位进行实验检测及存放仪器所使用的台子，有时在试验过程中需要对试验样本进行制冷，传统的方法是把试验样本放到冰箱里面制冷，这种方法麻烦，且温度不容易控制，而PN制冷已经广泛应用于生活的各个方面，PN制冷也叫半导体制冷，也叫热电制冷片，是一种热泵。它的优点是没有滑动部件，应用在一些空间受到限制，可靠性要求高，无制冷剂污染的场合。利用半导体材料的Peltier效应，当直流电通过两种不同半导体材料串联成的电偶时，在电偶的两端即可分别吸收热量和放出热量，可以实现制冷的目的。它是一种产生负热阻的制冷技术，其特点是无运动部件，可靠性也比较高。半导体致冷器的工作原理是:当一块N型半导体材料和一块P型半导体材料联结成电偶对时，在这个电路中接通直流电流后，就能产生能量的转移，电流由N型元件流向P型元件的接头吸收热量，成为冷端由P型元件流向N型元件的接头释放热量，成为热端。吸热和放热的大小是通过电流的大小以及半导体材料N、P的元件对数来决定。

技术实现要素：

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种基于PN制冷的实验台，解决了上述背景技术中提出的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种基于PN制冷的实验台，包括支撑机构、罩体和制冷机构，所述支撑机构的顶部固定连接有罩体，罩体的材质为透明的PVC板，罩体顶部的一角处固定连接有制冷机构，制冷机构包括外罩、N型半导体、P型半导体、第一排气孔、第一排气扇、第二排气孔、第二排气扇和导管，外罩的底部与罩体的顶部固定连接，外罩的内部并排设置有N型半导体和P型半导体，外罩靠近N型半导体的一侧开设有第一排气孔，外罩靠近第一排气孔的一侧固定连接有第一排气扇，外罩远离第一排气孔的一侧开设有第二排气孔，外罩靠近第二排气孔的一侧固定连接有第二排气扇，第二排气孔的内部固定连接有导管，导管远离外罩的一端贯穿至罩体的内部。

可选的，所述罩体的顶部设置有活动门，罩体的侧面开设有通气窗，罩体的正面开设有两个操作孔。

可选的，所述罩体的内壁固定连接有若干支撑架，支撑架与导管搭接，罩体靠近通气窗的一侧固定连接有水管。

可选的，所述罩体的内部固定连接有操作台，罩体的底部开设有若干排水孔。

可选的，所述罩体的底部固定连接有集水槽，集水槽的底部固定连接有排水管，排水管上设置有密封阀门。

可选的，所述支撑机构包括支撑框、支撑腿和防滑垫，支撑框的顶部与罩体的底部固定连接，支撑框底部的四角处固定连接有四个支撑腿，四个支撑腿的底部均固定连接有防滑垫。

(三)有益效果

本实用新型提供了一种基于PN制冷的实验台，具备以下有益效果：

1、该基于PN制冷的实验台，通过设置制冷机构，利用半导体制冷原理进行降温，进而实现对实验样品进行降温的目的，在两个半导体通电后，P型半导体降温，N型半导体升温，第一排气扇把热量排出去，实现散热的目的，第二排气扇把P型半导体产生的冷气通过导管传递到罩体的内部，进而实现制冷的目的，导管在不用时放到支撑架的上面，实现了便于固定的目的，而导管可以任意移动，进而可以把冷气传递到罩体内部的任何地方，实现了使用方便的目的。

2、该基于PN制冷的实验台，通过设置活动门，可以把试验用的样本和器械放到罩体的内部，当放置完成后，关上活动门，可以减少实验危险对操作人员造成的危害，通过设置通气窗，可以对部分试验产生的烟气进行排出，通气窗可以通过连接管排到废气处理装置，设置操作孔，可以把两个手从操作孔进入到罩体的内部进行实验操作，设置水管，可以满足部分需要水的实验，设置排水孔和集水槽，可以对实验过程中产生的废液进行回收。

3、该基于PN制冷的实验台，通过设置支撑机构，可以对罩体进行支撑，同时使罩体得以抬高，便于集水槽的安装，而防滑垫的设置，使实验台更加稳定。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型制冷机构的剖面结构示意图。

图中：1-支撑机构、101-支撑框、102-支撑腿、103-防滑垫、2-罩体、3-制冷机构、301-外罩、302-N型半导体、303-P型半导体、304-第一排气孔、305-第一排气扇、306-第二排气孔、307-第二排气扇、308-导管、4-活动门、5-通气窗、6-操作孔、7-支撑架、8-水管、9-操作台、10-排水孔、11-集水槽、12-排水管、13-密封阀门。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

请参阅图1至图2，本实用新型提供一种技术方案：一种基于PN制冷的实验台，包括支撑机构1、罩体2和制冷机构3，支撑机构1的顶部固定连接有罩体2，罩体2的材质为透明的PVC板，罩体2顶部的一角处固定连接有制冷机构3，制冷机构3包括外罩301、N型半导体302、P型半导体303、第一排气孔304、第一排气扇305、第二排气孔306、第二排气扇307和导管308，外罩301的底部与罩体2的顶部固定连接，外罩301的内部并排设置有N型半导体302和P型半导体303，外罩301靠近N型半导体302的一侧开设有第一排气孔304，外罩301靠近第一排气孔304的一侧固定连接有第一排气扇305，外罩301远离第一排气孔304的一侧开设有第二排气孔306，外罩301靠近第二排气孔306的一侧固定连接有第二排气扇307，第二排气孔306的内部固定连接有导管308，导管308可以任意移动，进而可以把冷气传递到罩体2内部的任何地方，实现了使用方便的目的，导管308远离外罩301的一端贯穿至罩体2的内部，设置制冷机构3，利用半导体制冷原理进行降温，进而实现对实验样品进行降温的目的，在两个半导体通电后，P型半导体303降温，N型半导体302升温，第一排气扇305把热量排出去，实现散热的目的，第二排气扇307把P型半导体303产生的冷气通过导管308传递到罩体2的内部，进而实现制冷的目的，罩体2的顶部设置有活动门4，活动门4，可以把试验用的样本和器械放到罩体2的内部，当放置完成后，关上活动门4，可以减少实验危险对操作人员造成的危害，罩体2的侧面开设有通气窗5，通过设置通气窗5，可以对部分试验产生的烟气进行排出，通气窗5可以通过连接管排到废气处理装置，罩体2的正面开设有两个操作孔6，设置操作孔6，可以把两个手从操作孔6进入到罩体2的内部进行实验操作，罩体2的内壁固定连接有若干支撑架7，支撑架7与导管308搭接，导管308在不用时放到支撑架7的上面，实现了便于固定的目的，罩体2靠近通气窗5的一侧固定连接有水管8，设置水管8，可以满足部分需要水的实验，罩体2的内部固定连接有操作台9，罩体2的底部开设有若干排水孔10，罩体2的底部固定连接有集水槽11，设置排水孔10和集水槽11，可以对实验过程中产生的废液进行回收，集水槽11的底部固定连接有排水管12，排水管12上设置有密封阀门13，收集到的废液可以通过排水管12排出，密封阀门13可以对排水管12进行控制，支撑机构1包括支撑框101、支撑腿102和防滑垫103，支撑框101的顶部与罩体2的底部固定连接，支撑框101底部的四角处固定连接有四个支撑腿102，四个支撑腿102的底部均固定连接有防滑垫103，通过设置支撑机构1，可以对罩体2进行支撑，同时使罩体2得以抬高，便于集水槽11的安装，而防滑垫103的设置，使实验台更加稳定。

综上所述，该基于PN制冷的实验台，使用时，通过设置制冷机构3，利用半导体制冷原理进行降温，进而实现对实验样品进行降温的目的，在两个半导体通电后，P型半导体303降温，N型半导体302升温，第一排气扇305把热量排出去，实现散热的目的，第二排气扇307把P型半导体303产生的冷气通过导管308传递到罩体2的内部，进而实现制冷的目的，而导管308可以任意移动，进而可以把冷气传递到罩体2内部的任何地方，实现了使用方便的目的；通过设置活动门4，可以把试验用的样本和器械放到罩体2的内部，当放置完成后，关上活动门4，可以减少实验危险对操作人员造成的危害，通过设置通气窗5，可以对部分试验产生的烟气进行排出，通气窗5可以通过连接管排到废气处理装置，设置操作孔6，可以把两个手从操作孔6进入到罩体2的内部进行实验操作，设置水管8，可以满足部分需要水的实验，设置排水孔10和集水槽11，可以对实验过程中产生的废液进行回收；通过设置支撑机构1，可以对罩体2进行支撑，同时使罩体2得以抬高，便于集水槽11的安装，而防滑垫103的设置，使实验台更加稳定。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

需要说明的是，在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。