一种石膏生产用粉浆料搅拌设备的制作方法

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本发明涉及石膏粉浆料的搅拌技术领域，更具体的是涉及一种石膏生产用粉浆料搅拌设备。


背景技术：

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石膏是单斜晶系矿物，是主要化学成分为硫酸钙的水合物，石膏是一种用途广泛的工业材料和建筑材料，可用于水泥缓凝剂、石膏建筑制品、模型制作、医用食品添加剂、硫酸生产、纸张填料、油漆填料等，石膏生产的生产过程中需要调成粉浆料，粉浆料需要进行搅拌。
[0003]
现有技术中石膏粉浆料的搅拌设备包括罐体，罐体内转动安装有搅拌轴，搅拌轴的顶端延伸至罐体外，搅拌轴上固定安装有搅拌桨，搅拌桨位于罐体内，罐体的顶部固定安装有电机，电机的输出轴上固定安装有第一齿轮，搅拌轴上固定安装有第二齿轮，第二齿轮与第一齿轮相啮合，搅拌轴的顶端固定安装有第一锥型齿轮，罐体的顶部固定安装有两个支撑柱，两个支撑柱分别位于电机两侧，两个支撑柱上转动安装有同一个第一转动杆，第一转动杆贯穿两个支撑柱，第一转动杆的两端分别固定安装有第二锥型齿轮和第三锥型齿轮，两个第二锥型齿轮均与第一锥型齿轮啮合，罐体的两侧分别固定安装有延伸板，延伸板上转动安装有第二转动杆，第二转动杆贯穿延伸板，第二转动杆的顶端固定安装有第四锥型齿轮，第四锥型齿轮与对应的第三锥型齿轮相啮合，第二转动杆上固定安装有凸轮，延伸板的底部滑动安装有u型推块，u型推块的顶部固定安装有滑动块，延伸板的底部开设有滑槽，滑动块滑动安装在滑槽内，两个u型推块均与罐体相适配。该设备能有效地对粘着罐体内壁上的石膏板原料进行清除，保证罐体内壁清洁的同时避免原料的浪费。
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但是，上述设备仅仅通过搅拌桨对石膏粉浆料搅拌，这样不能将石膏粉浆料搅拌均匀，从而影响到最终石膏成品的质量。因此，我们迫切的需要一种可以将石膏粉浆料搅拌得更加均匀，从而可以使最终的石膏成品质量更好的石膏粉浆料搅拌设备。


技术实现要素：

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基于以上问题，本发明的目的在于：提供一种石膏生产用粉浆料搅拌设备，用于解决现有技术中的搅拌设备不能将石膏粉浆料搅拌均匀，从而影响到最终石膏成品质量的问题。本发明通过初次搅拌机构对石膏粉浆料进行初次搅拌，然后通过二次搅拌机构对石膏粉浆再次搅拌，这样石膏粉浆料可以被搅拌得更加均匀，最终制出的石膏成品的质量也更好。
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本发明为了实现上述目的具体采用以下技术方案：
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一种石膏生产用粉浆料搅拌设备，包括搅拌箱，所述搅拌箱的顶面设有进料管和进水管，所述搅拌箱的顶面安装有旋转电机，所述旋转电机上连接有延伸至搅拌箱内的转轴，所述转轴上从上到下依次安装有初次搅拌机构和二次搅拌机构，所述初次搅拌机构包括安装在转轴上的多个搅拌板，所述搅拌板的底面沿其长度方向安装有多个竖直杆，所述
竖直杆的下端安装有竖直搅拌组件，所述搅拌箱的内壁上可拆卸的安装有位于搅拌组件下方的导向盘，所述导向盘上开有多个漏料孔。
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二次搅拌机构的优选结构为：所述二次搅拌机构包括安装在转轴下部的连接套，所述连接套上沿其长度方向安装有多个水平搅拌组件，所述水平搅拌组件包括安装在连接套上且位于同一水平面上的多个横杆，所述横杆上沿其长度方向安装有多个搅拌杆，所述搅拌杆上沿其长度方向一体成型有多个水平齿。
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所述横杆的端部还安装有刮浆块，所述刮浆块上一体成型有多个刮浆齿。
[0010]
所述搅拌箱的内壁上还安装有导向锥，所述导向锥的下端安装有与其内部连通的出料接头。
[0011]
所述导向锥的内径从上到下依次递减，且所述导向锥的内壁上沿其高度方向开有多个导流槽。
[0012]
所述搅拌组件包括安装在搅拌杆下端的圆形环，所述圆形环的底面一体成型有多个竖直齿。
[0013]
所述导向盘包括相互成型为一体的盘体和多个连接齿，多个所述连接齿均匀的安装在盘体的侧面上，所述搅拌箱的内壁上开有多个卡槽，所述连接齿卡设在卡槽内。
[0014]
所述搅拌箱内位于进水管下方安装有倾斜设置的导水板，所述导水板上开有多个漏水孔。
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本发明的有益效果如下：
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(1)本发明通过初次搅拌机构对石膏粉浆料进行初次搅拌，然后通过二次搅拌机构对石膏粉浆再次搅拌，这样石膏粉浆料可以被搅拌得更加均匀，最终制出的石膏成品的质量也更好。
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(2)本发明中旋转电机带动转轴旋转时，转轴依次带动连接套、横杆、搅拌杆和水平齿旋转，从而对经过初次搅拌机构搅拌后的粉浆料再次进行搅拌，从而可以将粉浆料搅拌得更加均匀。
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(3)本发明中导向盘可以从卡槽上拆卸下来，经过初次搅拌机构搅拌后的粉浆料会掉在导向盘上，流到导向盘上的粉浆料具有流动性，并从漏料孔处漏下，当粉浆料在导向盘上流动的时候有助于粉浆料的混合。
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(4)本发明中经过二次搅拌机构搅拌后的粉浆料会掉在导向锥的内壁上，掉到导向锥内壁上的粉浆料会从导流槽流到出料接头处，由于导向锥的内径从上到下依次递减，因此有助于粉浆料汇聚到导向锥的下部，并从出料接头流出去。
附图说明
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图1为本发明的正面剖视结构简图；
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图2为本发明初次搅拌机构的正面剖视结构简图；
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图3为本发明二次搅拌机构的正面剖视结构简图；
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图4为本发明导向盘的俯视结构简图；
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图5为本发明图1中a-a处的剖视结构简图；
[0025]
图6为本发明图1中b-b处的剖视结构简图；
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附图标记：1出料接头，2导向锥，21导流槽，3二次搅拌机构，31刮浆齿，32刮浆块，
33横杆，34搅拌杆，35水平齿，36连接套，4导向盘，41连接齿，42盘体，421漏料孔，5初次搅拌机构，51竖直齿，52圆形环，53竖直杆，54搅拌板，6进料管，7转轴，8旋转电机，9进水管，10导水板，101漏水孔，11搅拌箱。
具体实施方式
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为了本技术领域的人员更好的理解本发明，下面结合附图和以下实施例对本发明作进一步详细描述。
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实施例：
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如图1-6所示，一种石膏生产用粉浆料搅拌设备，包括搅拌箱11，搅拌箱11的顶面设有进料管6和进水管9，搅拌箱11的顶面安装有旋转电机8，旋转电机8上连接有延伸至搅拌箱11内的转轴7，转轴7上从上到下依次安装有初次搅拌机构5和二次搅拌机构3，初次搅拌机构5包括安装在转轴7上的多个搅拌板54，搅拌板54的底面沿其长度方向安装有多个竖直杆53，竖直杆53的下端安装有竖直搅拌组件，搅拌箱11的内壁上可拆卸的安装有位于搅拌组件下方的导向盘4，导向盘4上开有多个漏料孔421。
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二次搅拌机构3的优选结构为：二次搅拌机构3包括安装在转轴7下部的连接套36，连接套36上沿其长度方向安装有多个水平搅拌组件，水平搅拌组件包括安装在连接套36上且位于同一水平面上的多个横杆33，横杆33上沿其长度方向安装有多个搅拌杆34，搅拌杆34上沿其长度方向一体成型有多个水平齿35。
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横杆33的端部还安装有刮浆块32，刮浆块32上一体成型有多个刮浆齿31。
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优选的，搅拌箱11的内壁上还安装有导向锥2，导向锥2的下端安装有与其内部连通的出料接头1；导向锥2的内径从上到下依次递减，且导向锥2的内壁上沿其高度方向开有多个导流槽21。经过二次搅拌机构3搅拌后的粉浆料会掉在导向锥2的内壁上，掉到导向锥2内壁上的粉浆料会从导流槽21流到出料接头1处，由于导向锥2的内径从上到下依次递减，因此有助于粉浆料汇聚到导向锥2的下部，并从出料接头1流出去。
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搅拌组件包括安装在搅拌杆34下端的圆形环52，圆形环52的底面一体成型有多个竖直齿51。
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导向盘4包括相互成型为一体的盘体42和多个连接齿41，多个连接齿41均匀的安装在盘体42的侧面上，搅拌箱11的内壁上开有多个卡槽，连接齿41卡设在卡槽内。导向盘4可以从卡槽上拆卸下来，经过初次搅拌机构5搅拌后的粉浆料会掉在导向盘4上，流到导向盘4上的粉浆料具有流动性，并从漏料孔421处漏下，当粉浆料在导向盘4上流动的时候有助于粉浆料的混合。
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搅拌箱11内位于进水管9下方安装有倾斜设置的导水板10，导水板10上开有多个漏水孔101。从进水管9中进来的水先达到导水板10上，导水板10可以对水起到导向和分离的作用，即可以将水导向到搅拌箱11内的其他位置，以及水可以从开在导水板10上的不同漏水孔101上掉下去，从而可以对水起到分离的作用，总是最终可以使更加均匀的洒在搅拌箱11内。
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工作原理：可以从进料管6向搅拌箱11内注入石膏粉原料或者未搅拌均匀的石膏粉浆料，从进水管9中可以向搅拌箱11内注入一定量的水以调节石膏粉浆内的含水量，进入搅拌箱11内的石膏粉浆料先到达储存搅拌机构处；与此同时，为旋转电机8通电，这里的旋
转电机8是常规的电机，以及电机的电路连接方式也是常规的，旋转电机8通电后带动转轴7旋转，转轴7旋转带动搅拌板54旋转，搅拌板54再带动竖直杆53旋转，竖直杆53再带动圆形环52和竖直齿51旋转，当竖直杆53和竖直齿51旋转的时候，可以对到达初次搅拌机构5处的石膏粉浆料进行搅拌，被搅拌后的石膏粉浆料掉在导向盘4，导向盘4可以对石膏粉浆料起到缓冲的作用，由于石膏粉浆料的流动性，所以石膏粉浆料在导向盘4上会再次流动混合，并从漏料孔421漏下到达二次搅拌机构3处。
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旋转电机8带动转轴7旋转的同时，会带动连接套36旋转，连接套36再带动横杆33旋转，横杆33再依次带动搅拌杆34和水平齿35旋转，到横杆33、搅拌杆34和水平齿35旋转的时候会对到达搅拌箱11内的石膏粉浆料进行多个角度的搅拌，再次被搅拌均匀后的部分石膏粉浆料会直接掉到出料接头1处，部分会掉到导向锥2的内壁上，掉到导向锥2内壁上的石膏粉浆料由于自身重力的作用会汇集到导流槽21内，并从导料槽内流到出料接头1处，在出料接头1可以事先放置接收石膏粉浆料的桶，这样被搅拌均匀后的石膏粉浆料就可以直接掉到桶内了，这样经过初次搅拌机构5搅拌后的粉浆料再次进行搅拌，从而可以将粉浆料搅拌得更加均匀，最终制造出来的石膏成品的质量也会更好。
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如上即为本发明的实施例。上述实施例以及实施例中的具体参数仅是为了清楚表述发明验证过程，并非用以限制本发明的专利保护范围，本发明的专利保护范围仍然以其权利要求书为准，凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明的保护范围内。