一种半导体用显影液生产装置的制作方法

1.本技术涉及显影液生产技术领域，尤其是涉及一种半导体用显影液生产装置。


背景技术：

2.在制造半导体、液晶、印刷电路板等电子元部件时，显影液在制造过程中作为清洗剂、触刻剂被广泛使用。
3.相关授权公告号为cn207614839u的中国专利，公开了一种显影液生产线，包括原料输送管路、原料泵、带有搅拌器的主反应釜、过滤机、产品储罐；原料输送管路的进料端与原料罐相连，原料输送管路的另一端与主反应釜进料端相连，原料泵与原料输送管路相连，过滤机的进料口通过管路与主反应釜相连，过滤机的出料口通过管路与产品储罐的进料口相连；在生产过程中，首先将原料输送管路进料端连接的软管插入原料罐，然后启动原料罐路上的原料泵向主反应釜内送料，接着启动搅拌器对反应釜内的原料进行搅拌，以加速反应，反应指定时间之后，开启主反应釜的出料口并开启过滤机，通过过滤机过滤产品中的杂质并将产品输送至产品储罐内，最终完成生产。
4.针对上述中的相关技术，发明人发现上述搅拌器只是带有搅拌桨的搅拌轴，由于搅拌桨相对搅拌轴的安装位置固定，因此搅拌器仅能对原料罐内位于搅拌桨周围的原料进行搅拌，从而易出现对整个原料罐内的原料搅拌不均匀，进而影响生产出的显影液质量的情况。


技术实现要素：

5.为了改善相关技术中对显影液原料搅拌不均进而导致生产出的显影液质量不佳的技术问题，本技术提供一种半导体用显影液生产装置。
6.本技术提供的一种半导体用显影液生产装置，采用如下的技术方案：一种半导体用显影液生产装置，包括反应釜和设置于反应釜内的搅拌组件，还包括驱动组件以及设置于反应釜下方的支撑台，所述反应釜与支撑台之间预留有空隙，所述反应釜下端设置有连接球，所述连接球远离反应釜处的一侧插设于支撑台上，所述反应釜与支撑台之间还设置有插杆，所述插杆直径大于所述空隙的高度，所述驱动组件用于驱动插杆以连接球为中心做圆周运动，以使得所述反应釜以连接球为中心做圆周摆动。
7.通过采用上述技术方案，由于插杆的直径大于空隙高度，因此当插杆插入反应釜与支撑台之间时，反应釜将朝远离插杆的方向倾斜，而当驱动组件带动插杆以连接球为中心做圆周运动时，反应釜将以连接球为中心做圆周摆动，此时预先投入反应釜内的原料将在摆动中的反应釜的作用下在反应釜内移动，再通过搅拌组件实现对原料的进一步搅拌，优化搅拌效果。
8.作为优选，所述驱动组件包括带有齿槽的第一环板、与第一环板相啮合的主动齿轮、插设于主动齿轮中心处的主杆以及用于驱动主杆转动的电机；所述连接球位于第一环板的中心位置，所述第一环板上的齿槽啮合连接于主动齿轮周壁，所述第一环板背离齿槽
处的一侧连接于插杆端部；所述搅拌组件包括搅拌轴以及设置于搅拌轴侧壁的搅拌桨；所述支撑台上还设置有联动件，所述联动件用于在主杆转动时带动搅拌轴自转。
9.通过采用上述技术方案，当启动电机时，主杆自转，此时插杆将在第一环板和主动齿轮的带动下以连接球为中心做周向转动，与此同时，搅拌轴将在联动件的带动下转动，此时原料将在双重作用力的冲击下被均匀搅拌和反应。
10.作为优选，所述反应釜顶壁设置有盖板，所述盖板中部开设有安装孔，所述搅拌轴贯穿安装孔并插设于反应釜内，所述安装孔内壁设置有伸缩罩，所述伸缩罩其中一端连接于安装孔内壁，另一端套接于搅拌轴周壁。
11.通过采用上述技术方案，伸缩罩的设置在不阻碍搅拌轴自转的前提下，使得反应釜上端封口，避免反应釜在转动过程中，反应釜内的原料溅出反应釜的情况。
12.作为优选，所述插杆转动连接于第一环板侧壁，所述插杆周壁套接有从动齿轮，所述支撑台上设置有与从动齿轮相啮合的齿块，所述齿块沿第一环板周向分布，且所述齿块用于与从动齿轮相啮合配合以使得插杆自转。
13.通过采用上述技术方案，插杆在以连接球为中心做圆周运动时，还会在从动齿轮和齿块的带动下实现自转，自转的设置可以实现插杆与反应釜底壁之间、插杆与支撑台之间从滑动摩擦变为滚动摩擦，减小插杆周壁与反应釜底壁之间、插杆周壁与支撑台之间的磨损。
14.作为优选，所述插杆靠近反应釜处的周壁设置有若干个凸起，全部所述凸起沿插杆周向均匀排布，所述凸起用于在插杆自转时与反应釜底壁相接触并顶推反应釜底壁，所述反应釜靠近边沿处的底壁沿反应釜周向设置有弹性件，所述弹性件用于与支撑台相接触。
15.通过采用上述技术方案，在反应釜倾斜并以连接球为中心进行圆周运动时，距离插杆最远处的弹性件将与支撑台相接触，以起到支撑反应釜的作用，而在插杆自转时，当凸起转至与反应釜底壁相接触时，反应釜将在凸起的抵推下增大倾斜角度，弹性件受到压缩，待凸起转至脱离反应釜底壁时，反应釜将在自重作用以及弹性件弹力作用下重新恢复初始的倾斜角度，而随着凸起的循环往复的移动，反应釜将在凸起和弹性件的带动下震动，进一步晃匀反应釜内的原料，优化搅拌效果。
16.作为优选，所述弹性件包括限位环板、复位弹簧以及对接环板，所述反应釜底壁沿其周向开设有环槽，所述限位环板插设于环槽内，且所述限位环板沿环槽槽深方向滑移，所述复位弹簧位于环槽内，且所述复位弹簧其中一端连接于环槽槽底，另一端连接于限位环板端壁，所述限位环板远离复位弹簧除的一端与对接环板相连，所述对接环板位于环槽外部，且所述对接环板侧壁沿其周向设置有便于与支撑台相抵接的第一弧面。
17.通过采用上述技术方案，对接环板上的第一弧面实现了对接环板与支撑台的平滑接触，限位环板的设置限制了对接环板的移动方向，使得对接环板可以沿环槽深度方向稳定地往复滑移。
18.作为优选，所述插杆靠近反应釜处的一端设置有第二弧面，所述第二弧面设置有柔性垫，所述柔性垫与反应釜底壁相抵。
19.通过采用上述技术方案，第二弧面和柔性垫的设置进一步实现了插杆与反应釜底壁相互接触位置的磨损，实现插杆与反应釜的稳定接触。
20.作为优选，所述反应釜底壁沿其周向贯穿开设有环孔，所述环孔内壁设置有弹力带，所述插杆靠近弹力带处的一端转动连接有顶推板，所述顶推板位于反应釜与支撑台之间，且所述顶推板与弹力带外表面相抵，且所述弹力带与顶推板相抵的部位朝靠近反应釜内部处的位置凸出设置。
21.通过采用上述技术方案，当插杆以连接球为中心做圆周运动时，顶推板随顶杆一并移动，且顶推板在移动过程中始终与弹力带相抵，因此顶推板在移动过程中将顶推弹力带，以使得弹力带朝反应釜内部凹陷，此时原本位于弹力带上的原料将在抵推下脱离弹力带，从而减少反应釜底壁上的原料的沉积沉淀，进一步实现原料的搅拌均匀性。
22.作为优选，所述支撑台上设置有限位架，所述限位架上预留有供反应釜插设并摆动的让位孔，所述反应釜外侧壁贴合于让位孔内壁；所述让位孔内壁还转动连接有限位伸缩杆，所述限位伸缩杆另一端转动于反应釜侧壁。
23.通过采用上述技术方案，限位架和让位孔的设置实现了反应釜以连接球为中心的做圆周运动时的稳定性，限位伸缩杆的设置能够减小反应釜自转幅度，这样设置的好处是以便插杆可以与反应釜底部周向进行接触，从而使得顶推板可以在转动过程中抵推整个弹力带。
24.作为优选，所述让位孔内壁沿让位孔周向转动连接有助滑球，所述反应釜外侧壁与助滑球相抵。
25.通过采用上述技术方案，助滑球的设置减小了反应釜与让位孔内壁之间的摩擦，减小了让位孔内壁在反应釜运动时对反应釜造成的阻力，使得反应釜可以以连接球为中心做稳定且顺畅的运动。
26.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：1.由于插杆的直径大于空隙高度，因此当插杆插入反应釜与支撑台之间时，反应釜将朝远离插杆的方向倾斜，而当驱动组件带动插杆以连接球为中心做圆周运动时，反应釜将以连接球为中心做圆周摆动，此时预先投入反应釜内的原料将在摆动中的反应釜的作用下在反应釜内移动，再通过搅拌组件实现对原料的进一步搅拌，优化搅拌效果；2.当启动电机时，主杆自转，此时插杆将在第一环板和主动齿轮的带动下以连接球为中心做周向转动，与此同时，搅拌轴将在联动件的带动下转动，此时原料将在双重作用力的冲击下被均匀搅拌和反应。
附图说明
27.图1是实施例中用于体现半导体用显影液生产装置的结构示意图。
28.图2是实施例中用于体现半导体用显影液生产装置的剖视图。
29.图3是图2中用于体现a部分结构的放大示意图。
30.附图标记说明：1、支撑台；11、连接球；12、对接环孔；13、齿块；14、限位架；141、让位孔；1411、助滑球；142、限位伸缩杆；2、反应釜；21、环槽；22、弹性件；221、限位环板；222、复位弹簧；223、对接环板；224、第一弧面；23、环孔；231、弹力带；24、盖板；241、安装孔；242、伸缩罩；3、插杆；31、从动齿轮；32、凸起；34、顶推板；35、第二弧面；36、柔性垫；4、驱动组件；41、第一环板；42、主动齿轮；43、主杆；44、电机；5、搅拌组件；51、搅拌轴；52、搅拌桨；6、联动件；61、第一齿轮；62、第二齿轮；63、第三齿轮；64、第四齿轮。
具体实施方式
31.以下结合附图1-3对本技术作进一步详细说明。
32.本技术实施例公开一种半导体用显影液生产装置。参照图1和图2，半导体用显影液生产装置包括支撑台1、设置于支撑台1上的反应釜2以及设置于反应釜2内的搅拌组件5；支撑台1上表面插设有连接球11，连接球11转动连接于支撑台1上，连接球11远离支撑台1处的侧壁焊接于反应釜2底壁；反应釜2与支撑台1之间预留有空隙，空隙内插设有插杆3，插杆3直径大于连接球11露出于支撑台1外部的高度，因此反应釜2高度方向相对支撑台1平面倾斜；支撑台1上还设置有驱动组件4，驱动组件4用于驱动插杆3以连接球11为中心做圆周运动，以使得反应釜2在插杆3的顶推下以连接球11为中心做圆周摆动。
33.参照图1和图2，支撑台1上表面焊接有限位架14，限位架14上预留有让位孔141，让位孔141内壁转动连接有若干个助滑球1411，助滑球1411沿让位孔141周向均匀排布，反应釜2插设于让位孔141内，且反应釜2侧壁贴合于助滑球1411侧壁；限位架14侧壁还通过万向球转动连接有限位伸缩杆142，限位伸缩杆142另一端通过万向球转动连接于反应釜2内壁，以起到对倾斜的反应釜2的支撑和限位作用。
34.参照图1和图2，驱动组件4包括带有齿槽的第一环板41、与第一环板41相啮合的主动齿轮42、固定插设于主动齿轮42中部的主杆43，以及用于驱动主杆43转动的电机44；电机44嵌置于支撑台1上表面，电机44驱动端焊接于主杆43下端，第一环板41位于支撑台1上表面，且第一环板41与连接球11同圆心设置，第一环板41上的齿槽与主动齿轮42周壁相啮合，第一环板41背离主动齿轮42处的一侧通过转轴转动连接于插杆3端部；当电机44启动时，第一环板41将在主杆43和主动齿轮42的带动下周向转动，进而带动插杆3以连接球11为中心做周向运动。
35.参照图1和图2，插杆3周壁固定套接有从动齿轮31，支撑台1上表面插设有与从动齿轮31相啮合的齿块13，齿块13呈环状分布于支撑台1上，且齿块13的环状分布轨迹与第一环板41同圆心设置；以使得插杆3在一连接球11为中心做周向运动时，可以实现自转。
36.参照图2和图3，插杆3与反应釜2相接触处的周壁上设置有第二弧面35，第二弧面35沿插杆3周向设置，第二弧面35上固定粘接有橡胶材质的柔性垫36，柔性垫36与反应釜2底壁相抵；插杆3靠近反应釜2处的周壁上还沿插杆3周向固定粘接有橡胶材质的凸起32，支撑台1上表面开设有供凸起32插设的对接环孔2312，对接环孔2312与第一环板41同心设置；反应釜2边沿处的底壁沿反应釜2周向开设有环槽21，环槽21内设有弹性件22。
37.参照图2和图3，弹性件22包括限位环板221、复位弹簧222和对接环板223，限位环板221和复位弹簧222均插设于环槽21内，复位弹簧222其中一端焊接于环槽21底壁，另一端焊接于限位环板221侧壁，限位环板221另一端与对接环板223焊接，对接环板223另一端位于环槽21外部，且设有第一弧面224；复位弹簧222未形变时，反应釜2处于处于初始倾斜状态，此时凸起32并未与反应釜2底壁相接触，且位于反应釜2底壁相对支撑台1的最低点处的对接环板223贴合于支撑板上表面；当凸起32转至与反应釜2底壁接触的位置时，凸起32抵推反应釜2底壁，使得反应釜2相对支撑台1的倾斜角度进一步增大，此时对接环板223部分缩入环槽21内，当凸起32转离反应釜2时，反应釜2将在弹性件22的弹力作用下恢复初始倾斜状态，实现反应釜2的震动。
38.参照图2和图3，插杆3靠近反应釜2处的端壁还转动连接有顶推板34，顶推板34横
截面可以为圆形，反应釜2底壁贯穿开设有环孔23，环孔23沿反应釜2周向开设，环孔23内壁固定粘接有弹力带231，弹力带231可以为具有弹性的且防水的材料制成，如橡胶；顶推板34与弹力带231相抵，且弹力带231与顶推板34相抵的部位朝靠近反应釜2内部处的位置凸出设置，在顶推板34随插杆3以连接球11为中心做圆周运动的过程中，顶推板34顶推弹力带231，与顶推板23相接触的弹力带231被拱起，此时反应釜2内与弹力带231相接触的原料将被顶起，优化反应釜2内的原料的混合效果。
39.参照图2，搅拌组件5包括搅拌轴51以及一体成型于搅拌轴51侧壁的搅拌桨52，搅拌桨52位于反应釜2内部，搅拌轴51上端位于反应釜2外部，支撑台1上设置有联动件6，联动件6包括固定套接于主杆43上的第一齿轮61、啮合连接于第一齿轮61的第二齿轮62、啮合连接于第二齿轮62的第三齿轮63，以及与第三齿轮63相啮合的第四齿轮64，搅拌轴51固定插设于第四齿轮64中部，第一齿轮61、第二齿轮62、第三齿轮63以及第四齿轮64均转动连接于支撑台1上。
40.参照图2，反应釜2顶部敞口处焊接有盖板24，盖板24侧壁贯穿插设有带有阀门的进料管、反应釜2侧壁贯穿插设有带有阀门的出料管；盖板24中部贯穿开设有安装孔241，搅拌轴51贯穿插设于安装孔241内，搅拌轴51与安装孔241内壁之间共同固定粘接有伸缩罩242，伸缩罩242由柔性的弹性材料制成，伸缩罩242通过轴承套接于搅拌轴51上，轴承固定连接于支撑台1上，以起到对伸缩罩242的支撑作用。
41.本技术实施例一种半导体用显影液生产装置的实施原理为：通过进料管将显影液生产用原料投入反应釜2内，再闭合进料管上的阀门，然后启动电机44，电机44和联动件6带动搅拌轴51转动，实现对反应釜2内部原料的搅拌，与此同时，插杆3将在电机44、主动齿轮42、第一环板41的带动下以连接球11为中心做圆周运动，并实现自转，此时反应釜2将在插杆3的抵推下以连接球11为中心做圆周运动，实现对反应釜2内原料的晃动，在此过程中，凸起32与弹性件22的设置切换使得反应釜2的倾斜角度，使得反应釜2震动，进一步优化对原料的混匀效果，另外，顶推板34顶推弹力带231，使得弹力带231上的原料被顶离弹力带231，提高反应釜2内原料的活跃度，从而最终加强对反应釜2内原料的搅拌效果。
42.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。