一种各向同性石墨块快速浸渍装置的制作方法

1.本实用新型涉及石墨浸渍设备领域，尤其涉及到一种各向同性石墨块快速浸渍装置。


背景技术：

2.各向同性石墨应用于3d热弯玻璃模具，石墨的浸渍能提高其高温抗氧化性能，降低石墨模具高温下“掉粉”现象，延长使用寿命是的一项工艺过程。石墨浸渍后需要进行烘干，以此保障石墨模具高效使用、提高热弯玻璃良率。
3.现有石墨浸渍设备如专利号cn202120445649所公开的一种石墨浸渍装置，公开了石墨浸渍罐体1，即将石墨块装入石墨浸渍罐体1，然后通过树脂液或其他浸渍液体进入石墨浸渍罐体1中，使石墨浸没于浸渍液中，完成浸渍后，取出并待浸渍液固化后，得到浸渍石墨。上述石墨浸渍的方式，其浸渍速度慢，且难以达到石墨充分浸渍。
4.因此，我们有必要对这样一种结构进行改善，以克服上述缺陷。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的是提供一种各向同性石墨块快速浸渍装置，实现石墨块快速完成浸渍，提升浸渍液进入石墨块孔隙的效率。
6.本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案实现的：一种各向同性石墨块快速浸渍装置，包括浸渍罐体、储液罐，所述浸渍罐体连接有用于对浸渍罐体抽真空的真空系统、用于对浸渍罐体增压的增压系统，所述浸渍罐体内置有供石墨块放置并能与浸渍液充分接触基础的放置架结构，所述放置架结构设置有用于促进浸渍液进入石墨块孔隙的超声波发生器。
7.本实用新型的进一步设置为：所述放置架结构包括固定于浸渍罐体内腔的架体、设置于所述架体上端且呈纵横交错的支撑板，所述支撑板呈竖直设置，所述支撑板上端面设置有若干呈尖角状的支撑部。
8.本实用新型的进一步设置为：所述真空系统包括连接于所述浸渍罐体的真空管道、设置于所述真空管道并用于对浸渍罐体抽气的真空泵、设置于所述真空管道并用于控制真空管道开闭的第一电磁阀。
9.本实用新型的进一步设置为：所述增压系统包括连接于所述浸渍罐体的增压管道、连接于所述增压管道的压缩机、设置于所述增压管道的第二电磁阀。
10.本实用新型的进一步设置为：所述浸渍罐体设置有用于排出浸渍液的排液系统，所述排液系统包括连接于所述浸渍罐体下端面的排液管、连接于所述排液管另一端并用于回收浸渍液的回收箱、设置于所述排液管位于回收箱一端并用于过滤杂物的滤袋。
11.本实用新型的进一步设置为：所述浸渍罐体设置有用于检测浸渍罐体内压强的压力检测计。
12.综上所述，本实用新型具有以下有益效果：
13.在对各向同性石墨块进行浸渍时，将石墨块放置于放置架结构，通过放置架能够减少与石墨块下端面的接触面，进而达到石墨块与浸渍液充分接触，另外在浸渍液进入浸渍罐体前，先通过真空系统将浸渍罐抽真空，有效减少或除去石墨块内的气体，然后在将储液罐内的浸渍液排入至浸渍罐体内实现石墨块浸没于浸渍液，由于浸渍罐体呈真空状态，且石墨块内无气体，浸渍液能够快速进入石墨块内，同时通过超声波发生器，促进浸渍液的波动，进而提升浸渍液进入石墨块孔空隙的速度，之后通过增压系统进行增压，能够进一步将浸渍液压入石墨块微型孔隙内，实现石墨块充分浸渍。
14.石墨块抵接于支撑部，即实现石墨块与支撑部呈点接触，有效减小接触面积，提升石墨块与浸渍液接触的接触面积。
15.通过真空泵能够实现对浸渍罐体抽真空，通过压缩机能够实现提升浸渍罐体内压强，进而达到控制浸渍罐体内的压强，并通过气压控制，促进石墨块浸渍效率。
16.通过排液管实现供完成浸渍后剩余的浸渍液排出，并通过回收箱实现回收利用，另外通过滤袋过滤浸渍液中残留的石墨颗粒或其他杂质。
附图说明
17.图1是本实用新型的结构示意图；
18.图2是本实用新型的剖视图。
19.图中数字所表示的相应部件名称：1、浸渍罐体；2、储液罐；3、超声波发生器；4、架体；5、支撑板；6、支撑部；7、真空管道；8、真空泵；9、第一电磁阀；10、增压管道；11、压缩机；12、第二电磁阀；13、压力检测计；14、排液管；15、回收箱；16、滤袋。
具体实施方式
20.为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合图示与具体实施例，进一步阐述本实用新型。
21.如图1和图2所示，本实用新型提出的一种各向同性石墨块快速浸渍装置，包括浸渍罐体1、储液罐2，储液罐2通过管道连接于浸渍罐体1。所述浸渍罐体1连接有用于对浸渍罐体1抽真空的真空系统、用于对浸渍罐体1增压的增压系统，所述浸渍罐体1内置有供石墨块放置并能与浸渍液充分接触的放置架结构，所述放置架结构设置有用于促进浸渍液进入石墨块孔隙的超声波发生器3。在对各向同性石墨块进行浸渍时，将石墨块放置于放置架结构，通过放置架能够减少与石墨块下端面的接触面，进而达到石墨块与浸渍液充分接触，另外在浸渍液进入浸渍罐体1前，先通过真空系统将浸渍管抽真空，有效减少或除去石墨块内的气体，然后再将储液罐2内的浸渍液排入至浸渍罐体1内实现石墨块浸没于浸渍液，由于浸渍罐体1呈真空状态，且石墨块内无气体，浸渍液能够快速进入石墨块内，同时通过超声波发生器3，促进浸渍液的波动，进而提升浸渍液进入石墨块孔隙的效率，之后通过增压系统进行增压，能够进一步将浸渍液压入石墨块微型孔隙内，实现石墨块充分浸渍。
22.放置架结构包括固定于浸渍罐体1内腔的架体4、设置于所述架体4上端且呈纵横交错的支撑板5，所述支撑板5呈竖直设置，所述支撑板5上端面设置有若干呈尖角状的支撑部6；另外超声波发生器3固定于架体4。石墨块抵接于支撑部6，即实现石墨块与支撑部6呈点接触，有效减小接触面积，提升石墨块与浸渍液接触的接触面积。
23.本实施例中，真空系统包括连接于所述浸渍罐体1的真空管道7、设置于所述真空管道7并用于对浸渍罐体1抽气的真空泵8、设置于所述真空管道7并用于控制真空管道7开闭的第一电磁阀9。增压系统包括连接于所述浸渍罐体1的增压管道10、连接于所述增压管道10的压缩机11、设置于所述增压管道10的第二电磁阀12。并且浸渍罐体1设置有用于检测浸渍罐体1内压强的压力检测计13，压力检测计13为现有技术，在此不赘述。通过真空泵8能够实现对浸渍罐体1抽真空，通过压缩机11能够实现提升浸渍罐体1内压强，进而达到控制浸渍罐体1内的压强，并通过气压控制，促进石墨块浸渍效率。
24.另外浸渍罐体1设置有用于排出浸渍液的排液系统，所述排液系统包括连接于所述浸渍罐体1下端面的排液管14、连接于所述排液管14另一端并用于回收浸渍液的回收箱15、设置于所述排液管14位于回收箱15一端并用于过滤杂物的滤袋16。通过排液管14实现供完成浸渍后剩余的浸渍液排出，并通过回收箱15实现回收利用，另外通过滤袋16过滤浸渍液中残留的石墨颗粒或其他杂质。
25.在本文中，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“竖直”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了表达技术方案的清楚及描述方便，因此不能理解为对本实用新型的限制。
26.在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，除了包含所列的那些要素，而且还可包含没有明确列出的其他要素。
27.以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。