1.一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，该方法是将含有有机结构导向剂的沸石膜以缓慢的升温速率加热到200-400℃进行活化处理，再把温度缓慢降至室温。
2.根据权利要求1所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，所述活化处理的气氛为氢气、氧气、臭氧中的一种或多种组合。
3.根据权利要求2所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，当活化处理的气氛为氢气时，该方法是将沸石膜置于惰性气氛保护下先升温加热到200-400℃，然后切换至活化气氛进行处理，最后在惰性气氛保护下降至室温。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，所述沸石膜所用的多孔载体材质为氧化铝、二氧化硅、氧化锆和二氧化钛中的一种或多种组合；所述沸石膜所用的多孔载体形状为片状、管状或中空纤维状；所述沸石膜中所含的有机结构导向剂为四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、二乙胺、三乙胺、环己胺、二正丙胺、1-金刚烷胺和n,n,n-三甲基金刚烷基氢氧化铵中的一种或多种组合。
5.根据权利要求1-3任一项所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，所述沸石膜的类型为mfi、cha、lta、ddr或beta。
6.根据权利要求1-3任一项所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，所述活化处理的时间为4-240h。
7.根据权利要求1-3任一项所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，所述活化的加热和降温速率为0.1-1.0℃/min；所述活化气氛流速为10-1000ml/min。
8.根据权利要求1-3任一项所述的一种原位调控沸石膜孔道和分离性能的方法，其特征在于，该方法在不同条件下对沸石膜处理1-3次。
9.由权利要求1-8任一项所述的方法制得的沸石膜。
10.权利要求9所述的沸石膜在气体分离中的应用。