一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于环保技术领域，涉及一种污水处理药剂，特别涉及一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。
【背景技术】
[0002]印染废水污染大，水量大，现已使用反渗透膜处理的越来越多。但大多数反渗透膜阻垢剂主要针对钙镁垢、粘泥等污染，而印染废水是高有机废水，同时由于生产助剂和废水处理添加剂导致大量金属氧化性污染，因此现有常规阻垢剂不能满足印染废水膜处理系统维护的需要。目前还缺乏一种专门针对印染废水膜处理系统，适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好的阻垢剂。
【发明内容】
[0003]本发明的目的在于，克服现有技术的不足，提供一种专门针对印染废水膜处理系统，阻垢效果良好的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。
[0004]本发明的目的是通过如下技术方案实现的:
[0005]一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。
[0006]进一步的优化方案:上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂包括:羟基乙叉二膦酸20 %、十二烷基二甲基苄基氯化铵30 %、硼氢化钾20 %、纯水30 %。
[0007]上述印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂的制备方法:按上述配比将上述各组分混合均匀即得。
[0008]本发明的有益效果:
[0009]本发明与现有技术相比，具有如下优点:
[0010]本发明的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，应用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
[0011]本发明的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾(KBH4))具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用。本发明将羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵、硼氢化钾这三种物质组合在一起，充分发挥他们相互之间的协同配合作用，使其同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，专门针对印染废水中的大量金属氧化性污染和有机污染，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
【具体实施方式】
[0012]以下结合实施例对本发明作进一步的说明。
[0013]实施例1
[0014]本发明一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸10%、十二烷基二甲基苄基氯化铵40%、硼氢化钾10%、纯水40%。
[0015]实施例2
[0016]本发明一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸20%、十二烷基二甲基苄基氯化铵30%、硼氢化钾20%、纯水30%。
[0017]实施例3
[0018]本发明一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，它包括:羟基乙叉二膦酸30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20%、硼氢化钾30%、纯水20%。
[0019]应用效果试验例
[0020]将本发明实施例1-3的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，应用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，进行试验。
[0021]应用试验结果表明:加一般阻垢剂，反渗透膜的污堵周期为20-30天；加本发明的配方的阻垢剂，反渗透膜的污堵周期为30-40天。
[0022]由此可见，本发明的阻垢剂，针对印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
【主权项】
1.一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸10-30%、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40%、硼氢化钾10-30%、纯水20-40%。2.如权利要求1所述的印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂，其特征在于，其中各组分及质量百分含量如下:羟基乙叉二膦酸20 %、十二烷基二甲基苄基氯化铵30 %、硼氢化钾20 %、纯水30%。
【专利摘要】本发明公开了一种印染废水抗菌反渗透膜阻垢剂。该阻垢剂中包含羟基乙叉二膦酸30-40％、十二烷基二甲基苄基氯化铵20-40％、硼氢化钾10-30％、纯水20-40％。本发明的配方是一种针对印染废水膜处理系统的专用配方，针对性很强，其中，羟基乙叉二膦酸、十二烷基二甲基苄基氯化铵具有阻无机垢和有机垢的作用，硼氢化钾具有抑制细菌、还原金属氧化物的作用，本发明将上述三种物质组合在一起，同时具备阻无机垢和还原金属氧化物的作用，特别适用于印染废水抗菌反渗透膜的阻垢处理，阻垢效果良好。
【IPC分类】C02F1/44, B01D61/02, B01D65/08
【公开号】CN104923078
【申请号】CN201510316239
【发明人】夏志先
【申请人】上海丰信环保科技有限公司
【公开日】2015年9月23日
【申请日】2015年6月10日