一种带集中润滑装置的自清洁离心机的制作方法

本发明涉及离心机技术领域，尤其涉及一种带集中润滑装置的自清洁离心机。

背景技术：

离心机就是利用离心力使得需要分离的不同物料得到加速分离的机器。离心机大量应用于化工、石油、食品、制药、选矿、煤炭、水处理和船舶等部门。现有的离心机为了防止转鼓刮伤，刮刀与转鼓壁之间都预留有安全间距，这使得刮刀在每次刮料完成时，都有一定厚度的滤饼总会残留在转鼓壁上，影响其离心效果。而且现有的离心机中用于带动转鼓转动的主轴件上的轴承润滑不同步，加油操作十分繁琐。亟待改进。

技术实现要素：

基于上述背景技术存在的技术问题，本发明提出一种带集中润滑装置的自清洁离心机。

本发明提出了一种带集中润滑装置的自清洁离心机，包括：离心机本体和集中润滑装置，其中：

离心机本体包括机座、安装在机座上的机壳、安装在机壳内部转鼓、位于转鼓下端的升降罩、位于转鼓内部且其上端与转鼓固定其下端与升降罩固定的滤袋、竖直布置在升降罩的下方用于带动转鼓转动的主轴以及与主轴轴向固定径向滑动配合的升降轴，所述主轴的上、下端分别安装有上端轴承、下端轴承；所述升降轴的上端与升降罩固定，其下端连接有旋转接头，旋转接头与升降轴轴承配合；

润滑装置包括固定安装在机座上的滤油器、分油器和加油泵；所述加油泵具有进油口和出油口，加油泵的进油口通过第一管线与滤油器连通，其出油口通过第五管线与分油器连通；所述分油器连接有第二管线、第三管线和第四管线，第二管线、第三管线、第四管线远离分油器的一端的端口分别处于上端轴承、下端轴承、旋转接头所在位置处。

优选地，滤袋的外壁与转鼓的内壁贴靠。

优选地，滤袋外表面设有多条竖直布置的加强条，各加强条在滤袋的外表面环形均布。

优选地，主轴内部设有两端贯通的中心孔，升降轴的一端穿过中心孔延伸至主轴的一侧，升降轴外环面设有轴向布置的键槽，升降轴上套装有带轮轴套和压轴套，所述带轮轴套位于主轴远离升降罩的一端并与主轴固定，带轮轴套的内环面设有卡入键槽并与该键槽轴向固定进行滑动配合的平键，带轮轴套内环面与升降轴的外环面之间且位于平键远离主轴的一侧设有与平键抵靠的第一油封，该第一油封远离平键的一侧设有与其抵靠的第一挡圈，第一油封、第一挡圈均分别与带轮轴套固定；压轴套位于主轴靠近升降罩的一侧并与主轴固定，压轴套内环面与升降轴的外环面之间设有第二油封，该第二油封靠近升降罩的一侧设有与其抵靠的第二挡圈，第二油封、第二挡圈均分别与压轴套固定。

优选地，中心孔包括主孔腔以及位于主孔腔两端并主孔腔同轴布置的第一端头孔、第二端头孔，所述第一端头孔、第二端头孔的内径均大于主孔腔。

优选地，带轮轴套包括基体部和位于基体部一侧并基体部向外延伸而成的延伸部，且当带轮轴套与主轴固定时，延伸部伸入至第一端头孔内并与该第一端头孔密封配合，基体部靠近延伸部的一侧与主轴的端面抵靠。

优选地，压轴套的外周套装有压板，且当压轴套与主轴固定时，压轴套的一端伸入至第二端头孔内并与该第二端头孔密封配合，压板靠近主轴的一侧与主轴的端面抵靠。

优选地，旋转接头包括主体部和位于主体部一侧的连接部，所述主体部内部设有竖直布置的腔室，腔室内安装有轴承。

优选地，腔室为锥形腔，安装在腔室内的轴承为圆锥滚子轴承。

优选地，离心机本体还包括用于驱动主轴转动的第一驱动机构，第一驱动机构位于主轴的一侧，第一驱动机构通过带轮机构与主轴连接。

优选地，离心机本体还包括用于驱动升降轴上下运动的第二驱动机构，第二驱动机构位于主轴远离第一驱动机构的一侧，第二驱动机构通过联动杆与旋转接头连接。

优选地，加油泵为手动加油泵。

本发明中，通过对离心机本体的结构进行设置，使其包括机座、安装在机座上的机壳、安装在机壳内部转鼓、位于转鼓下端的升降罩、位于转鼓内部且其上端与转鼓固定其下端与升降罩固定的滤袋、竖直布置在升降罩的下方用于带动转鼓转动的主轴以及与主轴轴向固定径向滑动配合的升降轴，以使滤袋在与转鼓同步转动的过程中，在升降轴的作用下被往复拉伸，从而使残留在转鼓壁和滤袋上的物料掉落，以达到自清洁、提高其离心效果的目的。同时，通过在该离心机构本体上设置集中润滑装置，并使该集中润滑装置包括滤油器、分油器和加油泵；并使滤油器的出油口通过第一管线和加油泵与分油器连接，使分油器连接有第二管线、第三管线和第四管线，第二管线、第三管线、第四管线远离分油器的一端的端口分别处于上端轴承、下端轴承、旋转接头所在位置处，以使第二管线、第三管线、第四管线远离分油器的一端的端口有油料输出时，其端口处的油可以同时流入至上端轴承、下端轴承、旋转接头内，以达到简化操作并对上端轴承、下端轴承和旋转接头同步集中润滑的目的。

附图说明

图1为本发明提出的一种带集中润滑装置的自清洁离心机的结构示意图；

图2为本发明提出的一种带集中润滑装置的自清洁离心机中所述集中润滑装置的结构示意图；

图3为图2中a处的放大图。

具体实施方式

下面，通过具体实施例对本发明的技术方案进行详细说明。

如图1-3所示，图1为本发明提出的一种带集中润滑装置的自清洁离心机的结构示意图；图2为本发明提出的一种带集中润滑装置的自清洁离心机中所述集中润滑装置的结构示意图；图3为图2中a处的放大图。

参照图1-3，本发明实施例提出的一种带集中润滑装置的自清洁离心机，包括：离心机本体和集中润滑装置，其中：

离心机本体包括机座1、安装在机座1上的机壳2、安装在机壳2内部转鼓3、位于转鼓3下端的升降罩4、位于转鼓3内部且其上端与转鼓3固定其下端与升降罩4固定的滤袋5、竖直布置在升降罩4的下方用于带动转鼓3转动的主轴6、与主轴6轴向固定径向滑动配合的升降轴7、用于驱动主轴6转动的第一驱动机构19以及用于驱动升降轴7上下运动的第二驱动机构14，以使滤袋5在与转鼓3同步转动的过程中，在升降轴7的作用下被往复拉伸，从而使残留在转鼓3壁和滤袋5上的物料掉落，以达到自清洁、提高其离心效果的目的。

主轴6的上、下端分别安装有上端轴承8、下端轴承9，以使主轴6运行平稳；所述升降轴7的上端与升降罩4固定，其下端连接有旋转接头10，旋转接头10包括主体部和位于主体部一侧的连接部，所述主体部内部设有竖直布置的锥形腔，锥形腔内安装有圆锥滚子轴承，旋转接头10与升降轴7轴承配合，以使升降轴7可以很好地承受轴向与径向载荷；第一驱动机构19位于主轴6的一侧，第一驱动机构19通过带轮机构与主轴6连接；离心机本体还包括，第二驱动机构14位于主轴6远离第一驱动机构19的一侧，第二驱动机构14通过联动杆与旋转接头10连接。以使整机结构更为紧凑。

润滑装置包括固定安装在机座1上的滤油器11、分油器12和加油泵13；所述加油泵13具有进油口和出油口，加油泵13的进油口通过第一管线15与滤油器11连通，其出油口通过第五管线20与分油器12连通；所述分油器12连接有第二管线16、第三管线17和第四管线18，第二管线16、第三管线17、第四管线18远离分油器12的一端的端口分别处于上端轴承8、下端轴承9、旋转接头10所在位置处，以使第二管线16、第三管线17、第四管线18远离分油器12的一端的端口有油料输出时，其端口处的油料可以分别流入至上端轴承8、下端轴承9、旋转接头10内，以达到同步集中润滑的目的。

本实施例中，滤袋5的外壁与转鼓3的内壁贴靠，滤袋5外表面设有多条竖直布置的加强条，各加强条在滤袋5的外表面环形均布，以提高滤袋5的拉伸强度，并使滤袋5复位后可以与紧贴转鼓3内壁，以避免刮刀刮伤滤袋5。

本实施例中，加油泵13为手动加油泵，加油时，油脂从滤油器11进油口开始，通过第一管线15加入加油泵13，通过手动往复推动加油泵13，使油脂进入分油器12，分油器12同步分配润滑油脂，使油脂通过第二管线16、第三管线17、第四管线18同步润滑主轴6上、下端轴承以及旋转接头10内的轴承。

本实施例中，主轴6内部设有两端贯通的中心孔，升降轴7的一端穿过中心孔延伸至主轴6的一侧，升降轴7外环面设有轴向布置的键槽，升降轴7上套装有带轮轴套和压轴套，所述带轮轴套位于主轴6远离升降罩4的一端并与主轴6固定，带轮轴套的内环面设有卡入键槽并与该键槽轴向固定进行滑动配合的平键，带轮轴套内环面与升降轴7的外环面之间且位于平键远离主轴6的一侧设有与平键抵靠的第一油封，该第一油封远离平键的一侧设有与其抵靠的第一挡圈，第一油封、第一挡圈均分别与带轮轴套固定；压轴套位于主轴6靠近升降罩4的一侧并与主轴6固定，压轴套内环面与升降轴7的外环面之间设有第二油封，该第二油封靠近升降罩4的一侧设有与其抵靠的第二挡圈，第二油封、第二挡圈均分别与压轴套固定。上述结构的设置使得主轴6与升降轴7之间的具有良好的密封性，可以有效确保升降轴7上的油脂不会泄露，并使其传动噪音大大减小。

此外，本实施例中的中心孔包括主孔腔以及位于主孔腔两端并主孔腔同轴布置的第一端头孔、第二端头孔，所述第一端头孔、第二端头孔的内径均大于主孔腔。带轮轴套包括基体部和位于基体部一侧并基体部向外延伸而成的延伸部，且当带轮轴套与主轴6固定时，延伸部伸入至第一端头孔内并与该第一端头孔密封配合，基体部靠近延伸部的一侧与主轴6的端面抵靠。压轴套的外周套装有压板，且当压轴套与主轴6固定时，压轴套的一端伸入至第二端头孔内并与该第二端头孔密封配合，压板靠近主轴6的一侧与主轴6的端面抵靠。上述结构的设置使得带轮轴套、压轴套与主轴6之间的密封面与带轮轴套、压轴套与升降轴7之间的密封面分开，以进一步增强密封效果。

由上可知，本发明既可以达到自清洁、提高其离心效果的目的，又可以达到简化操作并对上端轴承8、下端轴承9和旋转接头10同步集中润滑的目的，且整机结构紧凑，运行的平稳性好。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。