一种用于选粉机的耐磨溜槽装置的制作方法

文档序号:14199472阅读:178来源:国知局
一种用于选粉机的耐磨溜槽装置的制作方法

本实用新型涉及一种用于选粉机的溜槽装置,适用于建材、化工、冶金、电厂、矿山等行业的粉磨系统的选粉机中。



背景技术:

选粉机是重要的粉磨系统设备之一,物料从溜槽进入选粉机,由溜槽将物料导入粉磨单元,物料被磨细后随内部气流方向进入选粉机,在选粉机的导向叶片和旋转笼轮的双重作用下发生分离。细粉继续上升从选粉机出风口流出,经由选粉收尘器、袋收尘器收集下来。粗粉在笼轮离心力和自身重力作用下沉降,经由选粉机灰斗进入粉磨单元再次粉磨。因各个生产厂家原料来源不同且生产工艺和目的有较大区别,从溜槽进入的物料属性差异很大。一般情况下,如果所喂物料硬度较高,其对所接触材料的磨损就越大,当磨损积累到一定程度就会造成溜槽的损坏而导致停机维修。以上问题在选粉机使用过程中经常反复发生,尤其当所喂原料为矿渣时,因矿渣的磨损性较大,造成经常性的停机检修,严重影响正常的生产。现在国内外也提出多种解决方法,主流的方法是加设耐磨衬板来提高溜槽的耐磨性,通过在溜槽本体上设置一系列的耐磨衬板,使得进入溜槽的物料与溜槽本体相隔离,物料对溜槽本体的磨损作用转移到耐磨衬板上,通过不定期更换耐磨衬板来实现对溜槽本体的磨损保护。但是这种设计有明显缺陷,它的缺陷是:因为这些耐磨衬板一般是复合衬板,材质要求高,设置、更换耐磨衬板将产生一定费用与人工工作量,更重要的是耐磨衬板更换不及时可能造成溜槽本体的磨损,溜槽本体的破坏将中断正常的生产过程。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于:针对现有技术的不足,提供一种能达到永久性耐磨要求的选粉机溜槽装置。

本实用新型的目的通过下述技术方案来实现:

一种用于选粉机的耐磨溜槽装置,包括溜槽本体,还包括一套扁钢组,所述扁钢组由相同尺寸、规格的一系列单个扁钢组成,从溜槽进料口开始,在溜槽本体上按相同间距布置,到溜槽出料口止。

作为优选方式,所述一种用于选粉机的耐磨溜槽装置包括了一套扁钢组。

上述方案中,扁钢组有助于对进入溜槽的物料进行拦截,形成稳定的耐磨层。

作为优选方式,所述扁钢组由相同尺寸、规格的一系列单个扁钢组成。

上述方案中,相同尺寸、规格的一系列单个扁钢组成扁钢组,有助于实现规则的耐磨层。

作为优选方式,所述扁钢组宽度与溜槽本体宽度相等,尺寸根据进入溜槽物料的休止角确定,采用焊接方式固定在溜槽本体上。

上述方案中,扁钢组宽度与溜槽本体相等,有助于形成的耐磨层对整个溜槽本体进行覆盖。尺寸根据进入溜槽物料的休止角确定,有助于形成有效的耐磨层。用焊接方式固定在溜槽上,能确保扁钢组的可靠固定。

本实用新型的有益效果:摒弃了传统的设置耐磨衬板来实现对溜槽本体耐磨保护的设计,采用了一套扁钢组,扁钢组由相同尺寸、规格的一系列单个扁钢组成,从溜槽进料口开始,在溜槽本体上按相同间距布置,到溜槽出料口止。扁钢组宽度与溜槽本体宽度相等,尺寸根据进入溜槽物料的休止角确定,采用焊接方式固定在溜槽本体上。进入溜槽的物料在通过溜槽的过程中,下部物料受到扁钢组的拦截作用,部分物料在扁钢组的拦截作用下,滞留在扁钢组之间,在整个溜槽断面上形成了一个薄薄的物料层,达到平衡后,这个物料层将是一个稳定的、规则的、可靠的、静止的物料层。这个物料层将溜槽本体与通过溜槽的物料相隔离,避免了溜槽本体与运动中的物料进行接触而产生磨损,达到了对溜槽本体的永久性保护。本构简洁紧凑,制造安装方便,解决了困扰多年的技术问题,减少了停车检修带来的多种损失,提高了设备有效运作效率。

附图说明

图1是本发明的结构示意图;

图2是本发明的工作示意图;

图中的标号分别是:1扁钢组、2溜槽本体、3扁钢拦截物料形成的耐磨层。

具体实施方式

下面结合具体实施例和附图对本使用新型作进一步的说明。

如图1至2所示,一种用于选粉机的耐磨溜槽装置,包括溜槽本体2、扁钢组1,扁钢组1由相同尺寸、规格的一系列单个扁钢组成,从溜槽进料口开始,在溜槽本体2上按相同间距布置,到溜槽出料口止。扁钢组1宽度与溜槽本体2宽度相等,尺寸根据进入溜槽物料的休止角确定,用焊接方式固定在溜槽本体2上。

本发明的工作流程:宽度与溜槽本体2宽度相等,尺寸根据进入溜槽物料的休止角确定的扁钢组1按相同间距布置在溜槽本体2上,在溜槽本体2的整个截面上形成一个拦截构件。在溜槽进料口进料时,物料将从溜槽通过,由于扁钢组1的拦截作用,部分物料不可避免的滞留在扁钢组1之间,在整个溜槽断面上形成了一个薄薄的物料层,达到平衡后,这个物料层将是一个稳定的、规则的、可靠的、静止的物料层,这个物料层即耐磨层。后面进入溜槽的物料只能直接摩擦到该耐磨层,不能再直接摩擦到溜槽本体2,实现了对溜槽本体2永久性的耐磨保护。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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