技术特征：
技术总结
本发明提供一种MEMS器件及其制作方法，所述方法包括:提供MEMS晶圆；在所述MEMS晶圆的正面形成过滤层；在所述过滤层中形成若干滤孔；通过所述滤孔蚀刻所述MEMS晶圆，以在所述滤孔下方的所述MEMS晶圆中形成凹槽；背面减薄所述MEMS晶圆，以露出所述滤孔。根据本发明提供的MEMS器件的制作方法，首先在MEMS晶圆的正面形成过滤层，并在所述过滤层中形成若干滤孔，然后通过所述滤孔蚀刻所述MEMS晶圆以在所述MEMS晶圆中形成凹槽，之后背面减薄所述MEMS晶圆以露出所述过滤层的滤孔。所述方法能有效简化MEMS器件的制作工艺，降低生产成本。
技术研发人员：程晋广;陈福成
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
技术研发日：2017.03.02
技术公布日：2018.09.14