技术特征：
1.一种具有跨尺寸电极点的神经电极阵列的设计方法，其特征在于，其利用多通道的连接器设计多个相同的电极阵列，每个电极阵列包含有多个不同尺寸的电极，不同尺寸电极点用于记录单个或多个神经元信号以及刺激单个或多个神经元；具体步骤如下：第一步，确定通道数量，选择连接器，并理清对应通道的关系；根据研究目的确定刻蚀层的电极点尺寸大小并估算每个电极能够接触的神经元的个数；确定电极点的分布位置以及导线连线的线宽；第二步，利用设计工具根据第一步中确定好的需求设计掩膜版的导线层以及刻蚀层的版图设计图，制作出根据电极点的不同尺寸划分的刻蚀层的掩膜版；第三步，制作设计好的电极，再针对不同尺寸范围的电极点，分别采用不同刻蚀工艺刻蚀，暴露电极点，制备电极阵列。2.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，第一步中，连接器的通道数范围为16~64个，其中至少一个通道作为接地点。3.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，第一步中，电极点的大小范围在5微米~1000微米，相邻电极点尺寸大小呈递增趋势，并依次排列在一起形成一个电极阵列，导线的线宽为5微米~100微米。4.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，第二步中，导线层的电极点的尺寸大小大于刻蚀层的电极点：当刻蚀层的电极点直径在20微米以下，导线层电极点的直径在 20微米~30微米之间；刻蚀层的电极点直径大于20微米小于100微米，导线层电极点的直径要比刻蚀层的电极点大20%以上；刻蚀层的电极点直径大于100微米，导线层电极点的直径要比刻蚀层的电极点大10%以上。5.根据权利要求1所述的设计方法，其特征在于，第二步中，跨尺寸电极点的圆心间隔距离依据相邻的电极点的半径大小之和以及衬底材料的大小确定。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，第二步中，导线层的电极点与导线的连接处的导线宽度要比其它位置处的导线宽度大一点，。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，第三步中，在刻蚀时，将跨尺寸的电极划分为四个尺寸范围，直径范围分别为小于等于20微米，大于20微米小于等于50微米，大于50微米小于等于100微米、大于100微米。8.一种根据权利要求1-7之一所述的设计方法获得的具有跨尺寸电极点的神经电极阵列。
技术总结
本发明公开了一种具有跨尺寸电极点的神经电极阵列及其设计方法，本发明设计方法利用多通道的连接器设计多个相同的电极阵列，每个电极阵列包含有多个不同尺寸的电极。所述制备方法采用了微纳加工中的光刻，刻蚀工艺；本发明在刻蚀工艺步骤时，将跨尺寸的范围作了划分，分别采用不同工艺参数进行刻蚀。本发明保证了电极点的刻蚀精度，防止过度刻蚀或没有完全刻蚀。全刻蚀。全刻蚀。
技术研发人员：康晓洋 张静 王爱萍 刘鲁生 王君孔帅
受保护的技术使用者：复旦大学
技术研发日：2022.02.28
技术公布日：2022/6/16