的含有杂质的含杂质液的第一排出口 14。虽然省略了图示，但是在第一循环配管上还设置有能够将第一浓缩液直接向镀液槽送液的切换配管。
[0027]在第一浓缩液储槽20上连接有用于向第二反渗透膜R02送液的送液泵21，并设置有排出水的第二排出口 24。在第二反渗透膜R02上设置有用于向第二浓缩液储槽30投入分离生成的第二浓缩液的第二送配管22、以及用于使第二浓缩液向处理对象液储槽10或第一浓缩液储槽20再循环的第二循环配管23。此外，在该第二反渗透膜R02上还设置有排出和第一浓缩液一起分离生成的水的第二排出口 24。此外，虽然省略了图示，但是在第二循环配管上还设置有能够将第二浓缩液直接向镀液槽送液的切换配管。
[0028]在第二浓缩液储槽30上连接有用于向电透析装置40送液的送液泵31。在电透析装置40上设置有排出将第二浓缩液进一步浓缩而得到的第三浓缩液的第三排出口 41。此夕卜，在电透析装置40上还设置有用于使所送液的第二浓缩液循环的循环配管42。
[0029]接着，说明使用图1所示的杂质去除装置进行Au精炼处理的结果。处理对象液准备以氰化金钾为原料的氰类Au镀液的镀覆处理后的废液100L。处理对象液的组成为AulOOppm、Cu0.3ppm、Ni2.5ppm、Fe0.lppm、Pb0.1ppm0
[0030]作为杂质去除装置的第一反渗透膜，使用醋酸纤维素类的反渗透膜，作为第二反渗透膜，使用芳香族聚酰胺类的反渗透膜。此外，任何的浸透膜均采用螺旋膜构造。并且，用于向各反渗透膜送液的送液泵使用高压泵。电透析装置使用端板框型的装置。
[0031]第一反渗透膜的处理条件设为流量1.0L/min，第二反渗透膜设为压力2.5MPa。向该第一反渗透膜和第二反渗透膜送液时的处理对象液的液温设为15°C。电透析装置将5%硫酸钾溶液用作电解液，设为电压18V、液温25°C。
[0032]Au精炼处理中将处理对象液100L通过第一反渗透膜处理I小时，生成90L的第一浓缩液和1L的含杂质液。该第一浓缩液的Au浓度为11 lppm,其液组成形态为氰化金钾。此夕卜，在含杂质液中含有 Cu2.25ppm、Ni23.92ppm、Fe2.27ppm、Pb0.78ppm 的杂质和 Au3.0ppm0
[0033]接着，将第一浓缩液的90L通过第二反渗透膜处理40分钟。通过该第二反渗透膜的处理，生成45L的第二浓缩液和45L的以水为主成分的分离液。该第二浓缩液的Au浓度为219ppm，其液组成形态为氰化金钾。此外，在分离液中含有Au2.5ppm。
[0034]接着，将第二浓缩液的45L通过电透析装置处理6小时。通过该电透析装置，得到2L的第三浓缩液和43L的排出液。该第三浓缩液的Au浓度为4923ppm，其液组成形态为氰化金钾。此外，排出液为纯水。
[0035]通过上述Au精炼处理的结果，100L的处理对象液中所含的Au (约1g)最终成为2L的Au的浓缩液，其精炼的Au量为9.85g，因此Au的再生率非常高，为98.5%。此外，判明了通过第一反渗透膜生成的含杂质液中去除了处理对象液中所含的杂质Cu、N1、Fe、Pb的大半部分。另外，与处理对象液中的各杂质浓度相比，第一反渗透膜的含杂质液中所含的各杂质浓度小，认为这是由于分析误差或配管等中的残留液引起的。此外，还确认了第一浓缩液、第二浓缩液、第三浓缩液都能够直接用作氰类Au镀液的原料。
[0036]反复进行数十次上述Au精炼处理的结果，Au再生率达到97.8?99.6%的高Au再生率，能够稳定地进行处理。此外，确认了杂质也能够同样去除。
[0037]工业上的可利用性
[0038]根据本实用新型，作为含有Au和氰的浓缩液，能够高效精炼Au，还能够高效去除Cu及Pd等杂质金属，因此能够实现Au的有效再利用，能够抑制环境负担。
【主权项】
1.一种杂质去除装置，具有用于从含有Au及氰的处理对象液生成将含Au和氰的化合物浓缩的浓缩液的反渗透膜，其特征在于， 反渗透膜具有:第一反渗透膜，分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第一浓缩液以及含Au及氰以外的杂质的含杂质液；以及 第二反渗透膜，从该第一浓缩液分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第二浓缩液以及水。
2.根据权利要求1所述的杂质去除装置，其中， 第一反渗透膜使用芳香族聚酰胺类、聚乙烯醇类、醋酸纤维素类、聚砜类、聚脲类和聚酯类的原材料中的任一种。
3.根据权利要求1或2所述的杂质去除装置，其中， 第二反渗透膜使用芳香族聚酰胺类、聚乙烯醇类、醋酸纤维素类、聚砜类、聚脲类和聚酯类的原材料中的任一种。
4.根据权利要求1所述的杂质去除装置，其中， 具有电透析机构，用于从通过第二反渗透膜生成的第二浓缩液生成进一步将含Au及氰的化合物浓缩的第三浓缩液。
5.根据权利要求1或2所述的杂质去除装置，其中， 具备第一循环机构，用于使通过第一反渗透膜生成的第一浓缩液再次经过第一反渗透膜。
6.根据权利要求1或2所述的杂质去除装置，其中， 具备第二循环机构，用于使通过第二反渗透膜生成的第二浓缩液再次经过第一反渗透膜或第二反渗透膜。
7.根据权利要求1或2所述的杂质去除装置，其中， 将第一反渗透膜的处理条件设为流量0.6?2.0L/min，压力2.0?3.2MPa，将第二反渗透膜的处理条件设为流量0.6?1.4L/min，压力2.3?4.5MPa。
8.一种杂质去除装置，是具有用于从含有Au及氰的处理对象液生成将含Au和氰的化合物浓缩的浓缩液的反渗透膜的权利要求1所述的杂质去除装置，其特征在于， 反渗透膜具有:第一反渗透膜，分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第一浓缩液以及含Au及氰以外的杂质的含杂质液；以及 第二反渗透膜，从该第一浓缩液分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第二浓缩液以及水， 在第一反渗透膜设置有第一循环机构，用于使生成的第一浓缩液再次经过第一反渗透膜， 在第二反渗透膜设置有第二循环机构，用于使生成的第二浓缩液再次经过第一反渗透膜或第二反渗透膜。
9.根据权利要求8所述的杂质去除装置，其中， 第一反渗透膜和第二反渗透膜使用芳香族聚酰胺类、聚乙烯醇类、醋酸纤维素类、聚砜类、聚脲类和聚酯类的原材料中的任一种。
10.根据权利要求9所述的杂质去除装置，其中， 具备电透析机构，用于从通过第二反渗透膜生成的第二浓缩液生成进一步将含Au和 氰的化合物浓缩的第三浓缩液。
【专利摘要】一种杂质去除装置，能够从含Au及氰的处理对象液高效且高纯度地精炼含Au和氰的化合物。本实用新型的杂质去除装置具有用于从含有Au及氰的处理对象液生成将含Au和氰的化合物浓缩的浓缩液的反渗透膜，其特征在于，反渗透膜具有：第一反渗透膜，分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第一浓缩液以及含Au及氰以外的杂质的含杂质液；以及第二反渗透膜，从该第一浓缩液分离生成将含Au和氰的化合物浓缩的第二浓缩液以及水。
【IPC分类】C25D21-06, C25D21-16
【公开号】CN204281884
【申请号】CN201420681338
【发明人】内海裕二, 船木明秀, 高桥智, 德田明
【申请人】日本电镀工程股份有限公司
【公开日】2015年4月22日
【申请日】2014年11月12日