专利名称：平衡质量体的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种减振结构，且特别涉及一种用于减振装置中的平衡质量体。
背景技术：
传统的光刻机工作台大多采用多层的导轨技术，平台的底部直接与减震系统连接。但是随着硅片直径从200mm增加到300mm，产率要求的提高以及线宽和套刻精度的要求越来越高，直接带来的影响是工件台运动行程的增加，运动速度的提高，和更高精度的要求，这样，对减震系统的要求也越来越高。然而，要提高减震系统的减震能力成本较高，同时难度也较大。因此，用于抵消运动反力的平衡质量体技术随之发展起来。平衡质量体技术是利用动量守恒原理将电机的定子安装在质量较大的平衡质量体上，动子与平衡质量体分别用气浮轴承支撑；在动子与定子的相互间的力的作用下，分别向相反的方向运动。现有技术中的一种平衡减震台，包括基础框架、辅助平衡质量体、主平衡质量体、 平面平衡机构、工作台以及两连杆矫正机构；辅助平衡质量体一端面连接在基础框架上，另一端面与主平衡质量体连接；两连杆矫正机构通过固定基座固定在辅助平衡质量体上，另一端连杆与主平衡质量体连接；平面平衡机构设置在主平衡质量体上，并连接工作台。上层主平衡质量体用于平衡工件台运动产生的作用力X，Y和Rz。下层辅助平衡质量体只是作为一个辅助。平衡质量体都是实心的金属块，为了增大平衡质量体的质量，需要不断地增大平衡质量体的体积，这样就必然要占据大量的空间，使得整个装置的内部活动空间变小，且金属质量块的阻尼小，减振效果差。因此其平衡质量体的结构决定了它不可能完全隔离振动。
发明内容
本发明提出一种平衡质量体，壳体具有空心结构，充满液体，在相同质量的情况下，体积小，节约空间，可以更好的隔离振动。为了达到上述目的，本发明提出一种平衡质量体，包括壳体；以及液体，充满壳体中，其中液体的密度大于等于13. 6g/cm3。进一步说，平衡质量体还包括衬套，紧密贴合壳体并包覆液体，隔离壳体与液体接触。进一步说，其中衬套为弹性衬套，具有多个气孔。进一步说，其中衬套为有机聚合物材料。进一步说，平衡质量体用于减震台中，其中减震台包括基础框架和工件台，工件台可移动地连接于基础框架，平衡质量体设置在基础框架和工件台之间。进一步说，液体为液态汞。
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本发明提出的平衡质量体，在相同质量的情况下，体积小，节约空间，节约壳体材料，节约生产升本。且高密度的液体阻尼大，可以更好的隔离振动，甚至完全隔离振动，以保证基础框架的稳定性。本发明所提供的平衡质量体还能够减少温度变化对于其自身体积的影响，降低系统误差。
图1所示为应用本发明的平衡质量体的减震台的俯视图。图2所示为本发明较佳实施例中平衡质量体的剖面结构示意图。图3所示为本发明第二实施例中的平衡质量体的局部剖面图。
具体实施例方式为了更了解本发明的技术内容，特举具体实施例并配合所附图式说明如下。请参看图1，图1所示为应用本发明的平衡质量体的减震台的俯视图。减震台包括基础框架5、工件台6和平衡质量体4。工件台6可移动地连接于基础框件5，平衡质量体4设置在基础框架5和工件台6之间，当工件台6运动时，平衡质量体4 进行相应动作，消除工件台6运动对基础框架5产生的反作用力。请参看图2，图2所示为本发明较佳实施例中平衡质量体的剖面结构示意图。本发明提出一种平衡质量体4，包括壳体1和液体3，壳体1内充满液体3。液体3 注入壳体1的方式例如是壳体1具有注液孔(图未示)，液体3通过注液孔注入在壳体1 内，并封闭注入孔。壳体1可以为任何一种形状，例如球形、正方体形、长方体形、三棱锥形，只要是能够用于传递振动的具体的几何形状，均在本发明所讨论的范围之内。液体3的密度较大，数值为大于等于13. 6g/cm3，这样，液体3的阻尼较大，能够更好地隔离振动，甚至完全隔离振动。较佳的，液体3可以为液体汞。平衡质量体4还可以包括衬套2，紧贴在壳体1的内壁上，用于隔离液体3与外壳 1的接触。其中衬套2与壳体1之间还可以设有锁紧单元，将衬套2与壳体1紧密贴合。图3所示为本发明第二实施例中的平衡质量体的局部剖面图。第二实施例中的平衡质量体与第一实施例中的不同之处在于衬套8为弹性衬套且具有多个气孔10。例如其为一种有机聚合物材料，利用发泡剂形成许多微小气孔。衬套 8紧密贴合在壳体7上，用于隔离液体9与壳体直接接触。这样的设计是为了解决当温度发生变化时，会导致液体体积不同，而造成的系统误差的技术问题。为了补偿这种热变形所引起的误差，衬套10中的气孔补偿液体的体积变化，使得整个平衡质量体的体积不会发生较大变化或者消除这种变化。本发明提出的平衡质量体，在相同质量的情况下，体积小，节约空间，节约壳体材料，节约生产升本。且高密度的液体阻尼大，可以更好的隔离振动，甚至完全隔离振动，以保证基础框架的稳定性。本发明所提供的平衡质量体还能够减少温度变化对于其自身体积的影响，降低系统误差。虽然本发明已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明。本发明所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作各种的更动与润饰。因此，本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求
1.一种平衡质量体，其特征是，包括 壳体；以及液体，充满所述壳体中， 其中所述液体的密度大于等于13. 6g/cm3。
2.根据权利要求1所述的平衡质量体，其特征是，还包括衬套，紧密贴合所述壳体并包覆所述液体，隔离所述壳体与所述液体接触。
3.根据权利要求2所述的平衡质量体，其特征是，其中所述衬套为弹性衬套，具有多个气孔。
4.据权利要求3所述的平衡质量体，其特征是，其中所述衬套为有机聚合物材料。
5.根据权利要求1所述的平衡质量体，其特征是，所述平衡质量体用于减震台中，其中减震台包括基础框架和工件台，所述工件台可移动地连接于所述基础框架，所述平衡质量体设置在所述基础框架和所述工件台之间。
6.根据权利要求1所述的平衡质量体，其特征是，其中所述液体为液态汞。
全文摘要
本发明提出一种平衡质量体，用于减震台中，放置在工件台与基础框架之间用于消除工件台运动对基础框架产生的反作用力。平衡质量体包括壳体和液体，液体充满壳体中。其中所述液体的密度大于等于13.6g/cm3。本发明提出的平衡质量体，在相同质量的情况下，体积小，节约空间，节约壳体材料，节约生产成本。且高密度的液体阻尼大，可以更好的隔离振动，甚至完全隔离振动，以保证基础框架的稳定性。本发明所提供的平衡质量体还能够减少温度变化对于其自身体积的影响，降低系统误差。
文档编号F16F15/28GK102537207SQ201010592538
公开日2012年7月4日 申请日期2010年12月16日 优先权日2010年12月16日
发明者吴小传, 王天明 申请人:上海微电子装备有限公司