本实用新型涉及密封装置领域，特别是一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置。
背景技术：
机械密封又叫端面密封，在国家有关标准中是这样定义的：“由至少一对垂直于旋转轴线的端面在流体压力和补偿机构弹力(或磁力)的作用以及辅助密封的配合下保持贴合并相对滑动而构成的防止流体泄漏的装置。具有泄漏量少和寿命长等优点，所以当今世界上机械密封是在这些设备最主要的轴密封方式。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置。
实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置，包括轴套、动环和静环，所述轴套安装在传动轴上，所述轴套一端通过密封锁紧机构连接密封挡环，所述轴套和密封挡环之间设有第一O型密封圈，所述轴套内孔侧壁设有集液沟槽，所述集液沟槽连接多个位于轴套侧面的排液孔，所述排液孔向下倾斜，所述轴套和传动轴之间设有多个第一密封圈，所述轴套外安装动环，所述动环两端通过轴套和密封挡环定位，所述动环与轴套之间设有第一密封垫圈、第一防尘密封圈、第二O型密封圈和第一传动销，所述动环与密封挡环之间设有第二密封垫圈、第二防尘密封圈、第三O型密封圈和第二传动销，所述动环外安装静环，所述静环安装在安装孔内。
所述密封锁紧机构由螺栓、弹性挡圈和第二密封圈构成。
所述第一传动销均由传动销、弹性垫圈和密封O型圈构成。
所述轴套和密封挡环设有卡槽，所述轴套和密封挡环通过卡槽定位连接动环。
所述动环和静环之间设有阶梯结构。
利用本实用新型的技术方案制作的一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置，当反应釜内的液体进入密封装置和传动轴之间时，会被阻挡在密封装置之外，并排回到反应釜腔内。
附图说明
图1是一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置的结构示意图；
图2是一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置的第一传动销结构示意图；
图中，1、轴套；2、动环；3、静环；4、传动轴；5、密封挡环；6、第一O型密封圈；7、集液沟槽；8、排液孔；9、第一密封圈；10、第一密封垫圈；11、第一防尘密封圈；12、第二O型密封圈；13、第一传动销；14、第二密封垫圈；15、第二防尘密封圈；16、第三O型密封圈； 17、第二传动销；18、安装孔；19、螺栓；20、弹性挡圈；21、第二密封圈；22、传动销；23、弹性垫圈；24、密封O型圈；25、卡槽。
具体实施方式
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“一”、“二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
下面结合附图对本实用新型进行具体描述，如图1-2所示，一种反应釜的具有集液排液效果的密封装置，包括轴套、动环和静环，所述轴套安装在传动轴上，所述轴套一端通过密封锁紧机构连接密封挡环，所述轴套和密封挡环之间设有第一O型密封圈，所述轴套内孔侧壁设有集液沟槽，所述集液沟槽连接多个位于轴套侧面的排液孔，所述排液孔向下倾斜，所述轴套和传动轴之间设有多个密封圈，所述轴套外安装动环，所述动环两端通过轴套和密封挡环定位，所述动环与轴套之间设有第一密封垫圈、第一防尘密封圈、第二O型密封圈和第一传动销，所述动环与密封挡环之间设有第二密封垫圈、第二防尘密封圈、第三O型密封圈和第二传动销，所述动环外安装静环，所述静环安装在安装孔内；所述密封锁紧机构由螺栓、弹性挡圈和第二密封圈构成；所述第一传动销均由传动销、弹性垫圈和密封O型圈构成；所述轴套和密封挡环设有卡槽，所述轴套和密封挡环通过卡槽定位连接动环；所述动环和静环之间设有阶梯结构。
具体使用时，轴套、动环和静环，轴套安装在传动轴上，轴套一端通过密封锁紧机构连接密封挡环，轴套和密封挡环之间设有第一O型密封圈，轴套内孔侧壁设有集液沟槽，集液沟槽连接多个位于轴套侧面的排液孔，排液孔向下倾斜，轴套和传动轴之间设有多个第一密封圈，轴套外安装动环，动环两端通过轴套和密封挡环定位，动环与轴套之间设有第一密封垫圈、第一防尘密封圈、第二O型密封圈和第一传动销，动环与密封挡环之间设有第二密封垫圈、第二防尘密封圈、第三O型密封圈和第二传动销，动环外安装静环，静环安装在安装孔内，反应釜内的液体会飞溅到轴套与传动轴之间的缝隙处，液体被多个密封圈阻挡，聚集到集液沟槽内，然后沿着排液孔流出排回反应釜腔内。
上述技术方案仅体现了本实用新型技术方案的优选技术方案，本技术领域的技术人员对其中某些部分所可能做出的一些变动均体现了本实用新型的原理，属于本实用新型的保护范围之内。