专利名称：真空箱氦检漏装置的制作方法
技术领域：
本实用新型与用氦质谱检漏仪检测器件漏孔的装置有关。
技术背景现有的氦气检漏装置结构复杂，生产效率低，检漏成本高，操作使用不便。
实用新型的内容本实用新型的目的是提供一种结构简单，功耗低，检测效率高，最低可检漏率低，使用方便的真空箱氦检漏装置。
本实用新型是这样实现的本实用新型真空箱氦检漏装置。真空室5内有被检件16，氦质谱检漏仪8与抽空装置9连接，真空室5与抽空装置10连接，电控装置11与抽空装置10、氦质谱检漏仪8的输出、真空室5的行程开关、电磁阀3、4、6、真空室的真空计7连接，氦质谱检漏仪8通过电磁阀6与真空室5连接，电磁阀3位于连接真空室5与抽空装置10的管道上，电磁阀4位于连接真空室5与充氮装置的管道上。
本实用新型真空室抽空装置10有抽空泵2通过管道12与真空箱5连接，管道12上连接有电磁阀3和真空计7，管道12与管道013连接，管道13上有电磁阀4，检漏仪抽空装置9有检漏仪抽空泵1通过管道14与氦质谱检漏仪8连接，氦质谱检漏仪8通过管道15与真空室5和电磁阀4连接，电磁阀4与充氦装置连接，管道15上有电磁阀6。
本实用新型电控装置11为可编程控制器S200型，其输出端与电磁阀，控制灯，打印机连接，其输入端与真空箱5的行程开关和真空计7的模拟信号输入端连接。
本实用新型电控装置11通过双向通讯接口与触摸显示屏连接。
本实用新型当真空箱盖板合上时，位于真空室上的行程开关被闭合，输出开关信号到电控装置11，电控装置11输出控制信号到电磁阀3，使其打开并使真空泵2工作。
真空计7输出模拟信号到电控装置11，当达到设定置时，电控装置11输出控制信号使电磁阀6开启。
本实用新型当漏率超过设定置时，氦质谱检漏仪8输出开关信号到电控装置11，电控装置11输出控制灯信号。
本实用新型当检漏过程结束时，电控装置11输出控制信号到电磁阀4使其打开，氮气充入真空室5，电控装置11输出打印数据到打印机。
本实用新型结构简单，功能多样，使用方便。检漏效率高，检漏效果好。
图1为本实用新型的框图。
图2为本实用新型的结构图。
图3为本实用新型的电控原理图。
具体实施方式
一、本实用新型的工作原理本实用新型是为可移动式检漏装置，适用于电子元器件、半导体器件、光电器件、继电器、传感器、开关、连接器、阀门、真空零部件、医疗食品器件等检漏。其作用过程为首先将电子器件进行渗氦处理。如果电子元件密封部分存在漏孔，则氦气将渗入漏孔。然后将电子元器件放入真空室，抽真空，此时电子元器件漏孔中的氦气将扩散至真空室。并被与真空室连接的检漏仪检测到，设备根据其漏率的大小，给出合格与不合格提示。
二、本实用新型的主要构成主要由真空室5、氦质谱检漏仪8、真空室抽空泵2、检漏仪抽空泵1、电磁阀3、电磁阀6、电磁阀4、真空计7、PLC控制系统、触摸屏、指示灯、微型打印机组成。该装置为可移动台式操作氦检漏装置，正面为操作面板和不锈钢操作平台，在操作平台上有真空室5，手动翻转式真空室盖，手动翻转式真空室盖到位开关；操作面板右下手动翻转式真空室盖，手动翻转式真空室盖到位开关；操作面板右下角有装置启动电源开关按钮，电源开关按钮正上方是微型打印机，中部为触摸式显示屏，在触摸式显示屏左边是漏率显示，左上角为本装置名称，左下角为装置检测指示灯，绿色为合格指示灯，红色为不合格指示灯，黄色为运行指示灯，机柜内两台真空泵分别为真空室抽空泵2、检测仪抽空泵1，机柜内有氦质谱检漏仪8，真空计7，电磁阀3，电磁阀6，电磁阀4，电控系统11。
真空室抽空泵2为D16C型。检漏仪抽空泵1为D8C型。电磁阀3、真空电磁阀4、真空电磁阀6为Partial flow valve block型。氦质谱检漏仪8为LDS1000型。微型打印机为WH-A16-6型。真空计为TTR90-S型。触摸屏为TP070型。PLC可编程控制器为S200型。
三、本实用新型的工作过程1、打开电源，检漏仪抽空泵1对氦质谱检测漏仪8抽空，设备进入工作准备状态。
2、人工将被检工件放入真空室5后，合上真空室盖板，此时位于真空室上的行程开关被闭合，输出开关信号到PLC控制系统，PLC控制系统输出控制信号，使电磁阀3打开，真空室抽空泵2开始对真空室5抽空。
3、真空计7将真空室5内压力通过模拟信号输入到PLC控制系统，当真空室5达到设定的真空度(可通过触摸屏调整)后，PLC控制系统输出控制信号，使电磁阀6开启，被检工作泄漏出的氦气进入氦质谱检测8，进行检漏。
4、当漏率超过报警设定值后，氦质谱检漏仪8输出开关信号到PLC控制系统，PLC控制系统输出控制灯信号，通过指示灯组报警。
5、检漏过程结束后，PLC控制系统输出控制信号，打开电磁阀4向真空室5内充入N2气体。同时，控制微型打印机打印检测漏率、时间、日期、合格或不合格标示。
6、人工打开真空室盖板，取出已检测器件。
四、主要技术参数1、真空箱容积 250ml2、检测范围10-1110-2Pa·m3/s3、工作周期≤6秒4、最低可检漏率≤4×10-11Pa·m3/s5、功耗2000W
权利要求1.一种真空箱氦检漏装置。真空室(5)内有被检件(16)，氦质谱检漏仪(8)与抽空装置(9)连接，真空室(5)与抽空装置(10)连接，电控装置(11)与抽空装置(10)、氦质谱检漏仪(8)的输出、真空室(5)的行程开关、电磁阀(3)、(4)、(6)、真空室的真空计(7)连接，氦质谱检漏仪(8)通过电磁阀(6)与真空室(5)连接，电磁阀(3)位于连接真空室(5)与抽空装置(10)的管道上，电磁阀(4)位于连接真空室(5)与充氦装置的管道上。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于真空室抽空装置(10)有抽空泵(2)通过管道(12)与真空箱(5)连接，管道(12)上连接有电磁阀(3)和真空计(7)，管道(12)与管道(13)连接，管道(13)上有电磁阀(4)，检漏仪抽空装置(9)有检漏仪抽空泵(1)通过管道(14)与氦质谱检漏仪(8)连接，氦质谱检漏仪(8)通过管道(15)与真空室(5)和电磁阀(4)连接，电磁阀(4)与充氮装置连接，管道(15)上有电磁阀(6)。
3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于电控装置(11)为可编程控制器S200型，其输出端与电磁阀，控制灯，打印机连接，其输入端与真空箱(5)的行程开关和真空计(7)的模拟信号输入端连接。
4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于电控装置(11)通过双向通讯接口与触摸显示屏连接。
5.根据权利要求1或2或3所述的装置，其特征在于当真空箱盖板合上时，位于真空室上的行程开关被闭合，输出开关信号到电控装置(11)，电控装置(11)输出控制信号到电磁阀(3)，使其打开并使真空泵(2)工作。
6.根据权利要求1或2或3所述的装置，其特征在于真空计(7)输出模拟信号到电控装置(11)，当达到设定置时，电控装置(11)输出控制信号使电磁阀(6)开启。
7.根据权昨要求1或2或3所述的装置，其特征在于当漏率超过设定置时，氦质谱检漏仪(8)输出开关信号到电控装置(11)，电控装置(11)输出控制灯信号。
8.根据权利要求1或2或3所述的装置，其特征在于当检漏过程结束时，电控装置(11)输出控制信号到电磁阀(4)使其打开，氮气充入真空室(5)，电控装置(11)输出打印数据到打印机。
专利摘要本实用新型为真空箱氦检漏装置。真空室(5)内有被检件(16)，氦质谱检漏仪(8)与抽空装置(9)连接，真空室(5)与抽空装置(10)连接，电控装置(11)与抽空装置(10)、氦质谱检漏仪(8)的输出、真空室(5)的行程开关、电磁阀(3)、(4)、(6)、真空室的真空计(7)连接，氦质谱检漏仪(8)通过电磁阀(6)与真空室(5)连接，电磁阀(3)位于连接真空室(5)与抽空装置(10)的管道上，电磁阀(4)位于连接真空室(5)与充氦装置的管道上。结构简单，使用方便，检漏效率高。
文档编号G01N23/22GK2526839SQ0125672
公开日2002年12月18日 申请日期2001年11月28日 优先权日2001年11月28日
发明者张果, 王洪军, 李健, 张福 申请人:成都东方仪器厂