专利名称：双工件台测量初始化系统的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及两种初始化归零系统，尤其涉及两种双工件台测量初始化系统。
背景技术：
一般的双工件台均使用多轴激光干涉仪完成两个工件台的测量工作，每一个工位侧(曝光位侧、测量位侧)由一套独立的激光干涉仪控制，包括X、Y、Z向干涉仪进行6自由度测量，且每一个工位侧均有一个零位传感器作为归零系统，因此，工作台上的两个工位侧分别有一套独立的干涉仪初始化归零系统，这样的双工件台测量初始化系统由于在每个工位侧只设有一个零位传感器，使得两个工件台在对准、测量、上片下片和曝光位之间的移动过程中需来回移动，走多余的路程，导致光刻机的工作效率低下
实用新型内容
·本实用新型的目的是提供两种双工件台测量初始化系统，以降低工件台的运动行程和需求，提高光刻机的工作效率。为达到上述目的，本实用新型提供一种双工件台测量初始化系统，其包括两套激光干涉仪组件和四套测量组件，所述两套激光干涉仪组件分别设置于两个工件台的周侧，并分别对准对应的工件台，所述四套测量组件中两套设置于工作台上的测量位侧，另两套设置于所述工作台上的曝光位侧。进一步的，所述两套设置于测量位侧的测量组件分别设置于所述工作台的中心线的两侧，所述另两套设置于曝光位侧的测量组件也分别设置于所述工作台的中心线的两侧。进一步的，所述四套测量组件均包括三个零位传感器。进一步的，所述两套激光干涉仪组件均包括三个激光干涉仪，所述三个激光干涉仪均对准对应的工件台。本实用新型还提供另一种双工件台测量初始化系统，其包括两套激光干涉仪组件和三套测量组件，所述两套激光干涉仪组件分别设置于两个工件台的周侧，并分别对准所述两个工件台，所述三套测量组件中一套设置于工作台上的测量位侧，另两套设置于所述工作台上的曝光位侧。进一步的，所述另两套设置于曝光位侧的测量组件分别设置于所述工作台的中心线的两侧。进一步的，所述三套测量组件均包括三个零位传感器。进一步的，所述两套激光干涉仪组件均包括三个激光干涉仪，所述三个激光干涉仪均对准对应的工件台。与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果本实用新型提供的双工件台测量初始化系统在现有技术的基础上增加了零位传感器的数量，并分别设置于工作台上的两个工位侧，使得两个工件台无须经常回到同一个位置来进行初始化工作，从而使两个工件台只需移动很少的路程便可完成整个硅片的上片下片、初始化、测量及曝光步骤，提高了光刻机的工作效率，延长工件台的使用寿命。
以下结合附图
对本实用新型作进一步说明图I为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统工作时工件台的移动线路图；图2为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台在中心位)的结构示意图；图3为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台WSl在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图4为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台WS2在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图5为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统工作时工件台的移动线路图；图6为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台在中心位)的结构示意图；图7为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台WSl在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图8为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台WS2在测量位侧的零位对准位)的结构示意图。在图I至图8中，1、11、12 :激光干涉仪组件；2 :零位传感器;21、22、23、24 :测量组件；3 :线缆；WSU WS2 :工件台；4 :工作台；41 :测量位侧；42 :曝光位侧；51 WS1的上下片位；52 WS2的上下片位；61 =WSl的交换位；62 WS2的交换位；71 WS1在测量位侧的零位对准位；72 WS2在测量位侧的零位对准位；73 =WSl在曝光位侧的零位对准位；74 WS2在曝光位侧的零位对准位；75 =WSl与WS2在测量位共同的零位对准位；8 :测量对准位；9 :曝光位。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的双工件台测量初始化系统作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。本实用新型的核心思想在于，提供两种双工件台测量初始化系统，这两种双工件台测量初始化系统在现有技术的基础上增加了零位传感器的数量，并分别设置于工作台上的两个工位侧，使得两个工件台无须经常回到同一个位置来进行初始化工作，从而使两个工件台只需移动很少的路程便可完成整个硅片的上片下片、初始化、测量及曝光步骤，提高了光刻机的工作效率，延长工件台的使用寿命。请参考图I至图8，图I为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统工作时工件台的移动线路图；图2为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台在中心位)的结构示意图；图3为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台WSl在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图4为本实用新型实施例提供的第一种双工件台测量初始化系统(工件台WS2在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图5为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统工作时工件台的移动线路图；图6为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台在中心位)的结构示意图；图7为本实用 新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台WSl在测量位侧的零位对准位)的结构示意图；图8为本实用新型实施例提供的第二种双工件台测量初始化系统(工件台WS2在测量位侧的零位对准位)的结构示意图。请重点参考图I至图4，如图I至图4所示，本实用新型实施例提供一种双工件台测量初始化系统，其包括两套激光干涉仪组件11、12和四套测量组件21、22、23、24，所述两套激光干涉仪组件11、12分别设置于两个工件台WS1、WS2的周侧，并分别对准对应的工件台WSI、WS2，所述四套测量组件21、22、23、24中两套测量组件21、22设置于工作台4上的测量位侧41，另两套测量组件23、24设置于所述工作台4上的曝光位侧42。进一步的，所述两套设置于测量位侧41的测量组件21、22分别设置于所述工作台4的中心线的两侧，所述另两套设置于曝光位侧42的测量组件23、24也分别设置于所述工作台4的中心线的两侧。进一步的，所述四套测量组件21、22、23、24均包括三个零位传感器2。进一步的，所述两套激光干涉仪组件11、12均包括三个激光干涉仪1，所述三个激光干涉仪I均对准对应的工件台WS1、WS2。下面结合图I至图4详细阐述本实施例提供的一种双工件台测量初始化系统的具体工作流程。由于受线缆3的约束和工作流程的设置，工件台WSl基本在整个工作台4中心线的右侧运动，工件台WSl同零位对准的相关的工作位流程如下在测量位侧41时，零位对准位71的上一个工作位为上下片位51，下一个工作位是测量对准位8，其后工件台WSl运动到交换位61，工件台WSl接着在曝光位侧42的零位对准位73处进行初始化，随后运动到曝光位9进行曝光。在实际流程设计中也可布置两个曝光初始位置，分别进行S形曝光，区别仅是曝光场的顺序相反。由于受线缆3的约束和工作流程的设置，工件台WS2基本在整个工作台4的左侧运动，在测量位侧41时，零位对准位72的上一个工作位为上下片位52，下一个工作位为测量对准位8。其后工件台WS2运动到交换位62，工件台WS2接着在曝光位侧42的零位对准位74处进行初始化，随后运动到曝光位9进行曝光。在实际流程设计中也可布置两个曝光初始位置，分别进行S形曝光，区别仅是曝光场的顺序相反。为优化工件台WSl、WS2的运动效率，即缩短工件台WSl、WS2的运动路程，其零位对准位71、72、73、74可以在其上一个工作位和下一个工作位的连线上，也可以同上下片位51、52重合，或者布置在工作位连线附近。这也需要考虑在主基板下多个测量系统的布局空间的约束等因素。上述设计避免了原有技术中仅有两套零位装置，在曝光位和测量位工作的工件台需要运动到指定任意一处的零位对准位，所走的较长的路径。缩短了工件台WS1、WS2的运动路径，即缩短了工件台WS1、WS2的运动时间，以此提高产量，此外，该系统还缩短了线缆3的长度，减少了光刻机工作台4的制造成本。一套测量组件21、22、23、24中的三个零位传感器2分别对准工件台WS1、WS2上的角锥镜。请重点参考图5至图8,如图5至图8所示,本实用新型还提供另一种双工件台测量初始化系统，其包括两套激光干涉仪组件11、12和三套测量组件21、22、23，所述两套激光干涉仪组件11、12分别设置于两个工件台WS1、WS2的周侧，并分别对准所述两个工件台WSU WS2，所述三套测量组件21、22、23中一套测量组件21设置于工作台4上的测量位侧41，另两套测量组件22、23设置于所述工作台4上的曝光位侧42。进一步的，所述另两套设置于曝光位侧42的测量组件22、23分别设置于所述工作 台4的中心线的两侧。进一步的，所述三套测量组件21、22、23均包括三个零位传感器2。进一步的，所述两套激光干涉仪组件11、12均包括三个激光干涉仪1，所述三个激光干涉仪I均对准对应的工件台WS1、WS2。下面结合图5至图8详细阐述本实施例提供的另一种双工件台测量初始化系统的具体工作流程。由于受线缆3的约束和工作流程的设置，工件台WSl基本在整个工作台4中心线的右侧运动，工件台WSl同零位对准的相关的工作位流程如下在测量位侧41时，零位对准位75的上一个工作位为上下片位51，下一个工作位是测量对准位8，其后工件台WSl运动到交换位61，工件台WSl接着在曝光位侧42的零位对准位73处进行初始化，随后运动到曝光位9进行曝光。在实际流程设计中也可布置两个曝光初始位置，分别进行S形曝光，区别仅是曝光场的顺序相反。由于受线缆3的约束和工作流程的设置，工件台WS2基本在整个工作台4的左侧运动，在测量位侧41时，零位对准位75的上一个工作位为上下片位52，下一个工作位为测量对准位8，其后工件台WS2运动到交换位62，工件台WS2接着在曝光位侧42的零位对准位74处进行初始化，随后运动到曝光位9进行曝光。在实际流程设计中也可布置两个曝光初始位置，分别进行S形曝光，区别仅是曝光场的顺序相反。为优化工件台WSl、WS2的运动效率，即缩短工件台WSl、WS2的运动路程，其零位对准位71、72、73、74可以在其上一个工作位和下一个工作位的连线上，也可以同上下片位51、52重合，或者布置在工作位连线附近。这也需要考虑在主基板下多个测量系统的布局空间的约束等因素。上述设计避免了原有技术中仅有两套零位装置，在曝光位和测量位工作的工件台需要运动到指定任意一处的零位对准位，所走的较长的路径。缩短了工件台WS1、WS2的运动路径，即缩短了工件台WS1、WS2的运动时间，以此提高产量，并且该方案使得双工件台WS1、WS2在测量位侧41公用一个零位对准位75，省下了一套测量组件，节省了成本，提高了产率，此外，该系统还缩短了线缆3的长度，更加减少了光刻机工作台的制造成本。一套测量组件21、22、23、24中的三个零位传感器2分别对准工件台WS1、WS2上的角锥镜。[0048]本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则 本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
权利要求1.一种双工件台测量初始化系统，其特征在于，包括两套激光干涉仪组件和四套测量组件，所述两套激光干涉仪组件分别设置于两个工件台的周侧，并分别对准对应的工件台，所述四套测量组件中两套设置于工作台上的测量位侧，另两套设置于所述工作台上的曝光位侧。
2.根据权利要求I所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述两套设置于测量位侧的测量组件分别设置于所述工作台的中心线的两侧，所述另两套设置于曝光位侧的测量组件也分别设置于所述工作台的中心线的两侧。
3.根据权利要求I所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述四套测量组件均包括三个零位传感器。
4.根据权利要求I至3任一项所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述两套激光干涉仪组件均包括三个激光干涉仪，所述三个激光干涉仪均对准对应的工件台。
5.一种双工件台测量初始化系统，其特征在于，包括两套激光干涉仪组件和三套测量组件，所述两套激光干涉仪组件分别设置于两个工件台的周侧，并分别对准所述两个工件台，所述三套测量组件中一套设置于工作台上的测量位侧，另两套设置于所述工作台上的曝光位侧。
6.根据权利要求5所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述另两套设置于曝光位侧的测量组件分别设置于所述工作台的中心线的两侧。
7.根据权利要求5所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述三套测量组件均包括三个零位传感器。
8.根据权利要求5至7任一项所述双工件台测量初始化系统，其特征在于，所述两套激光干涉仪组件均包括三个激光干涉仪，所述三个激光干涉仪均对准对应的工件台。
专利摘要本实用新型提供了两种双工件台测量初始化系统，这两种双工件台测量初始化系统在现有技术的基础上增加了零位传感器的数量，并分别设置于工作台上的两个工位侧，使得两个工件台无须经常回到同一个位置来进行初始化工作，从而使两个工件台只需移动很少的路程便可完成整个硅片的上片下片、初始化、测量及曝光步骤，提高了光刻机的工作效率，延长工件台的使用寿命。
文档编号G01B11/00GK202771156SQ20122045945
公开日2013年3月6日 申请日期2012年9月10日 优先权日2012年9月10日
发明者吴飞, 郭琳, 袁志扬, 吴萍, 谢灵军 申请人:上海微电子装备有限公司