微衍射的制作方法与工艺

技术特征：
1.一种用于测量具有样品表面的样品的X射线衍射方法，所述方法包括：沿着照射带(16)照射X射线束(4)，所述照射带在y方向上沿着所述样品(10)的表面(14)延伸；使被所述样品沿着所述照射带衍射的X射线通过所述样品(10)和二维X射线检测器(22)之间的掩模(20)，所述掩模(20)具有基本上垂直于所述y方向延伸的狭缝(24)，使得从沿着所述照射带(16)的不同位置衍射的X射线在二维X射线检测器(22)上沿着所述y方向的不同位置处被接收，其中所述掩模(20)被设置在与所述照射带(16)相距所述照射带(16)和所述二维X射线检测器(22)之间的距离的20％和80％之间的距离的位置处；在所述二维X射线检测器上检测被所述样品(10)衍射的X射线，从而在所述二维X射线检测器上沿着所述y方向的不同位置对应于沿着所述照射带(16)的不同位置，在所述二维X射线检测器上垂直于线方向的方向z’上的不同位置对应于不同的衍射角2θ。2.根据权利要求1所述的方法，其中照射X射线束的步骤包括利用X射线源产生X射线并使产生的X射线通过源狭缝(6)来照射所述样品(10)。3.根据权利要求2所述的方法，进一步包括移动所述源狭缝(6)从而移动所述样品的表面(14)上的所述照射带(16)的位置。4.根据权利要求2或3所述的方法，进一步包括使X射线束(4)通过另外的调节的光学器件。5.根据权利要求1所述的方法，其中所述样品是具有不均匀表面的样品。6.根据权利要求1所述的方法，进一步包括调节所述掩模(20)的位置来改变由所述二维X射线检测器成像的照射带(16)的长度。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述照射带(16)的宽度是0.05mm至2mm。8.一种用于测量具有样品表面的样品的X射线衍射装置，该装置包括：用于产生X射线束(4)的X射线源(2)；用于支撑所述样品(10)的样品台(12)；在所述X射线源(2)和所述样品台(12)之间的X射线光学器件，被设置用来限制X射线束，从而照射在y方向上沿着所述样品(10)的表面(14)延伸的照射带(16)；用于检测被所述样品衍射的X射线的二维X射线检测器(22)；和在所述样品(10)和二维X射线检测器(22)之间的掩模(20)，所述掩模(20)具有基本上垂直于所述y方向延伸的狭缝(24)，使得从沿着所述照射带(16)的不同位置衍射的X射线在所述二维X射线检测器(22)上沿着所述y方向的不同位置处被接收；其中所述掩模(20)被设置在与所述照射带(16)相距所述照射带(16)和所述二维X射线检测器(22)之间的距离的20％和80％之间的距离的位置处。9.根据权利要求8所述的X射线衍射装置，其中所述X射线光学器件包括源狭缝(6)。10.一种操作X射线衍射装置的方法：沿着照射带从X射线源照射X射线束通过X射线光学器件，所述照射带在y方向上沿着样品的表面延伸；使被所述样品沿着所述照射带衍射的X射线通过掩模中的狭缝，使得从沿着所述照射带的不同位置衍射的X射线在二维X射线检测器上沿着y方向的不同位置处被接收，其中所述掩模被设置在与所述照射带相距所述照射带和所述二维X射线检测器之间的距离的20％和80％之间的距离的位置处；在所述二维X射线检测器上检测被所述样品衍射的X射线，从而在所述二维X射线检测器上沿着y方向的不同位置对应于沿着所述照射带的不同位置，并且在所述二维X射线检测器上垂直于线方向的方向z’上的不同位置对应于不同的衍射角2θ。