1.一种基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，包括：
在压电试块的上下表面分别制备上金属膜和下金属膜，得到膜层压电试块；
测试所述膜层压电试块的第一拉曼光谱，获得第一E2(high)峰的水平位置；其中，用于测试所述膜层压电试块的激发光源为紫外激光；
以所述上金属膜和下金属膜为电极，向所述膜层压电试块施加电压，并测试所述膜层压电试块的第二拉曼光谱，获得第二E2(high)峰的水平位置；其中，用于测试所述膜层压电试块的激发光源为紫外激光；
根据所述第一E2(high)峰的水平位置和所述第二E2(high)峰的水平位置之间的水平间距，计算所述压电试块的应力大小；
所述压电试块的材料具有六方硫化锌型结构，所述压电试块的材料的化学式为XmY1-mZ，其中，m的取值范围为0～1，且X原子和Y原子的相对原子质量均大于Z原子的相对原子质量；所述第一E2(high)峰是指所述膜层压电试块中两个相邻的Z原子之间的相对振动峰，所述第二E2(high)峰是指向所述膜层压电试块施加电压时，所述膜层压电试块中两个相邻的Z原子之间的相对振动峰。
2.根据权利要求1所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，所述压电试块的材料为GaN、六方ZnO、六方SiC、六方CdSe、AlN、AlnGa1-nN中的任意一种，其中，0＜n＜1。
3.根据权利要求1所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，所述上金属膜和所述下金属膜的材料均选自Ti、Ni、Ag、Al、Pb、Sn、Cr、Mo、W、Fe、Zn中的任意一种。
4.根据权利要求3所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，所述上金属膜的厚度为5nm～20nm。
5.根据权利要求1至4任一所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，所述上金属膜在所述下金属膜上的垂直投影与所述下金属膜全部或部分重叠。
6.根据权利要求5所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，所述上金属膜的面积不超过所述压电试块的上表面的面积，所述下金属膜的面积不超过所述压电试块的下表面的面积。
7.根据权利要求1所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特 征在于，所述上金属膜和下金属膜的制备方法选自电子束蒸发、磁控溅射中的任意一种。
8.根据权利要求1所述的基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法，其特征在于，在测试所述膜层压电试块的所述第二拉曼光谱之后，所述基于紫外拉曼光谱的测试压电效应的方法还包括：
将所述上金属膜和下金属膜分别从所述压电试块的上下表面剥离。