光学板、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法与流程

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光学板、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法与流程

本发明的一个方面涉及光学板、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法。



背景技术:

在专利文献1中记载了向将测定对象物保持在多个槽(well)的微型板(microplate)照射光的光照射装置。该光照射装置具备具有形成有多个凸部的主面、作为与该主面相反侧的面的背面和与主面大致正交的侧面的导光部件。该光照射装置具有从导光部件的侧面向导光部件输入光的光源。导光部件以凸部的上表面与微型板的背面相接的方式配置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-230397号公报



技术实现要素:

发明所要解决的课题

在上述专利文献1所记载的光照射装置中,从导光部件的侧面输入到导光部件的光在导光部件的主面和背面被反射并输入到凸部之后,从凸部的上表面输入到微型板的槽。此时,在微型板的槽,输入相对于槽的深度方向倾斜的光。因此,与光沿着槽的深度方向输入的情况相比,能够向测定对象物均匀地照射光。

然而,为了使用上述的导光部件向测定对象物均匀地照射光,需要与保持测定对象物的槽的配置或形状等配合而对凸部的形状进行加工。然而,实际上,导光部件由石英等构成时,在用于形成凸部的加工中需要比较高的加工技术,难以加工成所希望的形状。换言之,不容易以与所希望的照射条件配合而照射光的方式对凸部进行加工。

本发明的一个方面是鉴于这样的状况而完成的发明,其目的在于,提供能够与所希望的照射条件配合而照射光的光学板(optical plate)、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法。

解决课题的技术手段

为了解决上述课题,本发明的一个方面所涉及的光学板,是用于向对象物照射光的光学板,具有:用于输入光(输入光)的光输入面;用于输出光(输出光)的光输出面;与光输出面相对的背面;和通过激光的聚光而形成于该光学板的至少内部并用于将光扩散的光扩散部,光输入面是光输出面与背面之间的面,从光输入面输入的光(输入光)在光扩散部被扩散,并从光输出面输出。

该光学板具有扩散从光输入面输入的光并使其从光输出面输出的光扩散部。也就是说,从光输入面输入的光(输入光)在光扩散部,在光学板内部被扩散,并作为输出光从光输出面输出。因此,如果以光输出面与对象物相对的方式配置该光学板,则能够将来自光输出面的输出光照射到对象物。特别是在该光学板中,光扩散部通过将激光聚光于成为光学板的部件(即,通过激光加工)而形成。因此,与对于该部件实际上形成凸部或凹部的情况相比,能够与所希望的照射条件配合而照射光。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,也可以具有在光输入面和与光输入面相对的面之间对光进行导光的导光部。在这种情况下,从光输入面输入的光利用导光部在光输入面与其相对面之间进行导光,并在光扩散部被扩散而被输出。因此,能够更加均匀地向遍及配置有光学板的区域上的各位置所存在的对象物照射光。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,也可以包括形成有光扩散部的第一部分和与第一部分一体地构成的第二部分,导光部被构成于第二部分。在这种情况下,如果以在相互一体地构成的第一和第二部分中的例如第二部分不形成光扩散部的方式对激光加工进行控制,则能够利用该第二部分构成导光部。也就是说,在这种情况下,通过激光加工的控制,能够在光学板内构成导光部。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,也可以通过将形成有光扩散部的第一部分和与第一部分分开构成的第二部分进行接合而构成,导光部被构成于第二部分。在这种情况下,如果准备利用激光加工而形成有光扩散部的第一部分和例如没有形成光扩散部的第二部分并使之相互接合,则能够通过该第二部分构成导光部。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,光扩散部也可以遍及光输出面与背面之间的至少一部分而形成。在这种情况下,能够增加从与光扩散部接近的区域输出的光的量。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,光扩散部也可以由通过激光的聚光而形成的多个光扩散层构成。在这种情况下,能够增加在光扩散部被扩散的光的量。

在本发明的一个方面所涉及的光学板中,也可以还具有沿着与光输出面交叉的方向延伸并反射光的反射部。在这种情况下,能够更加均匀地向对象物照射光。

本发明的一个方面所涉及的光照射装置,其特征在于,具有:上述的光学板;和输出向光输入面输入的光(输入光)的光源。另外,本发明的一个方面所涉及的光测定装置具有:上述的光照射装置;保持对象物的保持部件;和对来自从光输出面输出的光(输出光)所照射的对象物的测定光进行检测的光检测器。

另外,本发明的一个方面所涉及的光照射方法,是使用光学板向对象物照射光的方法,该光学板具有:用于输出光(输出光)的光输出面;与光输出面相对的背面;输入光(输入光)的光输入面,该光输入面为光输出面与背面之间的面;和通过激光的聚光而形成的光扩散部,在该光照射方法中,向光输入面输入光(输入光),在光扩散部扩散输入的光,从光输出面输出扩散的光(输出光),向对象物照射输出的光。

另外,本发明的一个方面所涉及的光测定方法,是使用光学板向对象物照射光,对来自光(输出光)所照射的对象物的测定光进行检测的方法,该光学板具有:用于输出光(输出光)的光输出面;与光输出面相对的背面;输入光(输入光)的光输入面,该光输入面为光输出面与背面之间的面;和通过激光的聚光而形成的光扩散部,该光测定方法中,向光输入面输入光(输入光),在光扩散部扩散输入的光,从光输出面输出扩散的光(输出光),向对象物照射输出的光,对透过光输出面和背面的来自对象物的测定光进行检测。

这些光照射装置和光测定装置具有上述的光学板。另外,这些光照射方法和光测定方法使用上述的光学板。因此,根据同样的理由,能够与所希望的照射条件配合而照射光。

还有,在本发明的一个方面所涉及的光测定装置中,光检测器也可以对透过光学板并从背面输出的测定光进行检测。

发明的效果

根据本发明的一个方面,可以提供能够与所希望的照射条件配合而照射光的光学板、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法。

附图说明

图1是表示第一实施方式所涉及的光测定装置的结构的示意剖面图。

图2是表示图1所示的光学板的结构的图。

图3是表示形成光扩散部的方法的主要工序的图。

图4是表示形成光扩散部的方法的主要工序的图。

图5是表示在光扩散部光被扩散的状态的示意剖面图。

图6是表示光扩散部的结构与从光学板输出的光的强度分布的关系的图。

图7是表示来自相互相邻的一对光扩散部的光被照射在测定对象物的状态的示意剖面图。

图8是表示从第三方向观察时的光强度的模拟结果的图。

图9是表示在光扩散部被扩散的光被照射在测定对象物的状态的示意剖面图。

图10是表示光通过多个光扩散部而被依次扩散的状态的示意剖面图。

图11是表示还具有反射部的光学板的例子的示意剖面图。

图12是表示光学板的变形例的剖面图。

图13是表示光学板的变形例的图。

图14是表示光学板的变形例的图。

图15是表示第二实施方式所涉及的光测定装置的结构的示意剖面图。

图16是表示图15所示的光学板的结构的图。

图17是表示在光扩散部光被扩散的状态的示意剖面图。

图18是表示来自配置于槽的正下方的多个光扩散部的光被照射在测定对象物的状态的示意剖面图。

图19是表示第三实施方式所涉及的光测定装置的结构的图。

图20是表示图19所示的光学板的结构的图。

图21是表示将测定对象物保持于培养皿时的例子的图。

图22是表示将测定对象物保持于培养皿时的另一个例子的图。

图23是表示将测定对象物保持于载玻片时的例子的图。

图24是表示将测定对象物保持于载玻片时的另一个例子的图。

具体实施方式

以下,参照附图,对本发明的一个方面所涉及的光学板、光照射装置和光测定装置的一个实施方式进行详细的说明。在附图的说明中,对相同的要素彼此或相当的要素彼此标注相同的符号,有时省略重复的说明。在以下的附图中,有时表示正交坐标系S。

[第一实施方式]

图1是表示第一实施方式所涉及的光测定装置的结构的示意剖面图。如图1所示,第一实施方式所涉及的光测定装置1具有对象物保持机构10、光照射装置20、光学系统30和摄像装置(光检测器)40。作为一个例子,对象物保持机构10具有微型板(保持部件)11和支撑微型板11的板支撑架12。

微型板11包括主面11a、主面11a的相反侧的背面11b和连接主面11a与背面11b的侧面11c。背面11b是与主面11a相对的面。在主面11a,形成有沿着主面11a的延伸方向二维阵列状地排列的多个槽(well)13。作为一个例子,槽13的数量为96个或384个。其中,槽13是从主面11a向背面11b延伸的棱柱状的凹部。

因此,槽13的底面13s是与主面11a和背面11b大致平行的平面。微型板11的底部14例如由玻璃、石英和塑料等的材料,即透过光的材料构成。或者,微型板11的全体例如由玻璃、石英和塑料等的材料,即透过光的材料构成。其中,微型板11的底部14是微型板11中的比槽13的底面13s更靠近背面11b侧的部分。另外,槽13的底面13s的形状也可以是U字状、V字状或棱锥形状等。

微型板11保持测定对象物(对象物)A。测定对象物A被收纳于槽13。测定对象物A例如是干细胞等的细胞或包含细胞的组织(tissue)等。例如,与测定对象物A一起,将培养液、荧光指示剂和评价化合物等的溶液B收纳于槽13。此处,测定对象物A沉淀在槽13的底面13s上。其中,测定对象物A也可以是悬浮细胞等。在该情况下,测定对象物A悬浮在槽13内的培养液中。在这样保持测定对象物A的状态下,微型板11被板支撑架12支撑(被载置于板支撑架12)。

板支撑架12以微型板11的背面11b从板支撑架12露出的方式支撑微型板11的周围。更具体而言,板支撑架12以背面11b上的与槽13相对的区域露出的方式支撑背面11b的外周部和侧面11c。通过手动将微型板11载置于板支撑架12。或者,在对象物保持机构10具有板加载器(未图示)时,利用板加载器将微型板11自动地载置于板支撑架12。

光照射装置20具有光学板50和光源21。光学板50用于向测定对象物A照射光。光源21用于从光学板50的光输入面向光学板50输入光。光源21与光学板50的光输入面(侧面50f)进行光学结合。即,光源21输出向光学板50的光输入面输入的光。对于光学板50的详细情况,以后叙述。光源21例如是LED(Light Emitting Diode(发光二极管))、LD(Laser Diode(激光二极管))、SLD(Super Luminescent Diode(超辐射发光二极管)和灯(例如氙气灯等)等。光源21不限定于下述那样的配置于光学板50的光输入面侧的方式。即,光源21例如也可以是配置于任意的位置,经由光导等而向光学板50的光输入面输入光的方式。来自光源21的光经由光学板50而被照射于被保持于微型板11的测定对象物A。

光学系统30将来自从光源21经由光学板50而被照射光的测定对象物A的测定光(例如荧光、反射光或散射光)透过,并成像于摄像装置40。因此,光学系统30具有波长选择滤波器31和透镜32。波长选择滤波器31阻止经由光学板50从光源21向测定对象物A被照射的光(激发光)等的光的透过,并且选择性地透过来自测定对象物A的测定光。其中,波长选择滤波器31也可以配置于透镜32与摄像装置40之间。

波长选择滤波器31例如是波段选择滤波器(带通滤波器)、低通滤波器和高通滤波器等。在波长选择滤波器31中,例如选择对测定对象物A进行染色的色素的荧光的波长。例如,波长选择滤波器31按照如下的方式进行选择:该色素是膜电位感受性色素的VSP的情况下,选择450nm和560nm的波长,该色素是钙离子感受性色素的Fluo-4的情况下,选择518nm的波长。另外,波长选择滤波器31也可以以透过各种色素的荧光的波长的方式进行选择。例如,波长选择滤波器31也可以以透过例如450nm以上的波长的光的方式进行选择。透镜32例如是照相机透镜,将透过了波长选择滤波器31的测定光聚光,并成像于摄像装置(摄像元件)40的受光面上。

摄像装置40对利用透镜32成像的测定光进行摄像。摄像装置40与光学板50的背面50b进行光学结合。摄像装置40例如是CCD图像传感器、CMOS图像传感器等的区域图像传感器。另外,如果摄像装置40以能够对来自各槽13的测定光分别进行检测的方式构成,则例如也可以使用光电倍增管、光电二极管、雪崩光电二极管等的点传感器。

在本实施方式中,光照射装置20、光学系统30和摄像装置40按照该顺序被排列在微型板11的背面11b侧。因此,摄像装置40经由光学系统30接受测定光并进行摄像,该测定光是从由光照射装置20被照射光的测定对象物A发出,从微型板11的背面11b输出之后,透过光学板50而从光学板50的背面输出的测定光。

其中,图2是表示图1所示的光学板的结构的图。特别是图2(b)是光学板50的俯视图,图2(a)是沿图2(b)的IIa-IIa线的剖面图。另外,图2(c)是图2(a)的部分放大图。如图2所示,光学板50呈大致矩形板状。光学板50具有主面50a和主面50a的相反侧的背面50b。背面50b是与主面50a相对的面。

光学板50具有包括主面50a的第一部分51和包括背面50b的第二部分52。第一部分51和第二部分52呈大致矩形平板状。第一部分51和第二部分52可以相互一体地构成,也可以相互分开构成并接合。将第一部分51和第二部分52分开构成的情况下,例如可以利用蒸镀或粘接等相互固定。由此,第一部分51和第二部分52被光学粘接。关于沿着主面50a的第一方向(此处是X轴方向)的第一部分51的尺寸与第一方向上的第二部分52的尺寸大致相同。因此,第一方向上的第一部分51和第二部分52的两个端面相互一致(连续)而构成光学板50的侧面50c。其中,第一方向上的第一部分51和第二部分52的两个端面也可以相互不一致。

另一方面,关于沿着主面50a的第二方向(与第一方向交叉的方向,此处是Y轴方向)的第一部分51的尺寸比第二方向上的第二部分52的尺寸小。因此,第二方向上的第一部分51和第二部分52的两个端面相互不一致,构成光学板50的侧面50d、50f。侧面50d是第一部分51的端面,侧面50f是第二部分52的端面。侧面50f与侧面50d大致平行,并且是比侧面50d更向光学板50的外侧突出的面。这些侧面50c、50d、50f是主面50a与背面50b之间的面。其中,第二方向上的第一部分51和第二部分52的两个端面也可以相互一致(连续)而构成光学板50的侧面。

如图1所示,此处,以与侧面50f相接的方式配置光源21。因此,在光学板50中,侧面50f是用于将光(输入光)输入到光学板50内的光输入面。但是,也可以将侧面50d或侧面50c作为光输入面。另一方面,光学板50以其主面50a与保持于微型板11的测定对象物A(微型板11的背面11b)相对的方式配置。因此,在光学板50中,与测定对象物A相对的主面50a成为用于朝向测定对象物A从光学板50输出光(输出光)的光输出面。

其中,在光学板50形成有多个光扩散部60。此处,光扩散部60形成在光学板50的内部。特别是光扩散部60形成在第一部分51,而不形成在第二部分52。即,第一部分51是形成有光扩散部60的部分,第二部分52是没有形成光扩散部60的部分。所谓没有形成光扩散部60的部分,作为一个例子,是在相互相对的端面之间不存在光扩散部60的部分。光扩散部60使从侧面50f输入到光学板50内的光扩散(例如散射或折射)并从作为光输出面的主面50a向光学板50的外部输出。即,光扩散部60用于在光学板50的内部使光扩散。另一方面,第二部分52作为在相互相对的一对侧面50f、50f之间不使光扩散而进行导光的导光部发挥功能。即,导光部在第二部分52构成。这样,通过在相互相对的端面之间设置不存在光扩散部60的部分,能够以使沿着光输出面(此处是主面50a)的光强度变得大致均匀的方式从光输出面输出光。

光扩散部60沿着第一方向(X轴方向)遍及一对侧面50c、50c之间而延伸。另外,光扩散部60沿着第二方向(Y轴方向)以大致等间隔排列。可以根据测定对象物A来规定光扩散部60的排列的间隔。例如,利用第二方向上的槽13的尺寸和配置来规定光扩散部60的排列的间隔。更具体而言,从与第一和第二方向交叉的第三方向(此处是Z轴方向)观察,光扩散部60以与槽13交替的方式(以夹着槽13的方式)排列。因此,从第三方向观察,大部分的光扩散部60以位于相互相邻的槽13之间的方式配置。换言之,以使光扩散部60成为这样的配置的方式,配置微型板11。

光扩散部60在这里也沿着第三方向延伸。更具体而言,光扩散部60从主面50a朝向背面50b在光学板50的厚度方向(第三方向)上具有规定的长度而延伸。即,光扩散部60以遍及主面50a与背面50b之间的一部分而延伸的方式形成。这样的光扩散部60通过将激光聚光于成为光学板50的原料的部件(以下,有时称为“加工对象物”)而形成。

对光扩散部60的形成方法的一个例子进行说明。对于形成光扩散部60时的具体的顺序,不限定于以下的例子。首先,如图3(a)所示,准备成为光学板50(或第一部分51)的原料的加工对象物70。在加工对象物70,以与形成光扩散部60的位置相对应的方式设定多条(例如假想的)加工预定线5。接着,如图3(b)所示,例如将加工对象物70的主面50a作为激光L的输入面,使激光L的聚光点P位于第三方向上的规定的位置(规定的深度)。所谓聚光点P,是激光L聚光的部位。

在该状态下,使激光L的聚光点P沿着加工预定线5,相对于加工对象物70在第一方向上相对移动(即,使激光L在第一方向上进行扫描)。由此,如图3(c)所示,在加工对象物70的内部形成沿着第一方向的一列改质区域7。该改质区域7例如构成针对第二方向位于光学板50的最外侧(侧面50d侧)的光扩散部60(图2中的第一光扩散部61)。

接着,如图4(a)所示,将激光L的聚光点P的针对第三方向的位置维持在规定的位置(规定的深度),并且针对第二方向移动激光L的聚光点P的位置。在该状态下,如图4(b)所示,沿着另一条加工预定线5,再在第一方向上使激光L进行扫描(使聚光点P相对移动)。由此,如图4(c)所示,形成沿着第一方向的另一列改质区域7。该改质区域7例如构成与第一光扩散部61邻接的光扩散部60(图2中的第二光扩散部62)。

这样,一边针对第二方向改变激光L的聚光点P的位置(针对第三方向没有变化),一边沿着各个加工预定线5在第一方向上进行激光L的扫描。然后,沿着全部的加工预定线5的激光L的扫描结束之后,使激光L的聚光点P的针对第三方向的位置移动到主面50a侧(即激光L的输入面侧),重复同样的工序。由此,如图2所示,以沿着第一方向延伸的方式,并且,以沿着第二方向排列的方式,形成多个由沿着第三方向排列的多列改质区域7构成的光扩散部60。其结果,能够制作光学板50。

其中,改质区域7既存在连续形成的情况,也存在间断形成的情况。另外,改质区域7既可以是列状,也可以是点状。改质区域7可以至少形成在加工对象物70的内部。另外,有时会以改质区域7为起点形成龟裂,龟裂和改质区域7也可以露出于加工对象物70的外表面(例如主面50a)。

另外,此处的激光L透过加工对象物70,并且在加工对象物70的内部的聚光点P附近被特别吸收,由此,在加工对象物70形成改质区域7(即,内部吸收型激光加工)。因此,因为在加工对象物70的主面50a几乎不吸收激光L,所以加工对象物70的主面50a不会熔融。通常,从主面50a被熔融除去而形成孔或槽等的除去部(表面吸收型激光加工)时,加工区域从主面50a侧缓慢地向背面50b侧行进。

本实施方式中形成的改质区域7是指,密度、折射率、机械强度或其它的物理特性成为与周围不同的状态的区域。作为改质区域7,例如有熔融处理区域、裂纹区域、绝缘破坏区域、折射率变化区域等,也有这些区域混合存在的区域。作为改质区域7,还有在加工对象物70的材料中改质区域7的密度与非改质区域的密度相比发生了变化的区域、或形成有晶格缺陷的区域(也将这些区域统称为高密度转移区域)。

另外,熔融处理区域或折射率变化区域、改质区域的密度与非改质区域的密度相比发生了变化的区域、形成有晶格缺陷的区域,有时还在这些区域的内部或改质区域7与非改质区域的边界包含(内包)龟裂(裂缝、微裂纹等)。所包含的龟裂有时遍及改质区域7的整个面,或有时仅形成在一部分或形成在多个部分。

另外,在本实施方式中,通过沿着加工预定线5形成多个改质点(spot)(加工痕迹),从而形成改质区域7。所谓改质点,是利用脉冲激光的一个脉冲的发射(shot)(即,一个脉冲的激光照射:激光发射)形成的改质部分,通过改质点聚集(或单独)而成为改质区域7。作为改质点,可以列举裂纹点、熔融处理点或折射率变化点、或者这些点中的至少1个混合存在的点。图2(c)、图3(c)和图4(c)的剖面所示的改质区域7例如是该改质点。

改质区域7也可以使沿着第一方向延伸的线状的改质点结合而形成为线状。在该情况下,通过使用聚光点P中具有长轴的形状的光束点的激光L,能够形成沿着其长轴的线状的改质点。另外,通过调整聚光点P上的激光L的光束点的长轴的方向,能够调整线状的改质点的延伸方向。

形成本实施方式中的改质区域7(即光扩散部60)时的激光加工的条件的一个例子,如下所述。

激光光源:半导体激光激发Yb:KGW激光器

激光L的波长:1030nm

激光L的重复频率:50kHz

激光L的脉冲宽度:350fs

激光L的输出:10μJ/脉冲

图5是表示在光扩散部光被扩散的状态的示意剖面图。在图5中,利用箭头表示光路。另外,在图5中,为了说明的容易化,例示了光扩散部60针对第三方向由单一的改质区域7(改质点)构成的情况。如图5所示,输入到光学板50内且到达光扩散部60的光在光扩散部60向各方向被扩散。

在光扩散部60被扩散的光中以比较小的角度向主面50a输入的光在主面50a上折射并从主面50a输出。从主面50a输出的光在微型板11与光学板50之间的中间层M(作为一个例子,是空气层)中传播而从微型板11的背面11b向微型板11输入。输入到微型板11的光被照射在保持于槽13的测定对象物A。然后,因向测定对象物A照射光而产生的来自测定对象物A的测定光(荧光、反射光或散射光等)透过主面50a和背面50b,利用摄像装置40进行检测。

其中,此处假定中间层M的折射率比光学板50的折射率小的情况。因此,在光扩散部60被扩散的光以在主面50a与中间层M之间以更广的范围进行扩散的方式折射(即,以相对于槽13的深度方向的角度变大的方式折射),并被照射在测定对象物A。另一方面,在光扩散部60被扩散的光中以比较大的角度向主面50a输入的光在主面50a上发生全反射,不从主面50a输出。在主面50a发生全反射的光在光学板50内传播,在其它的光扩散部60再次被扩散。其中,在光学板50的材质是1.464左右的折射率的合成石英,且中间层M的材质是折射率1.00左右的空气时,在主面50a发生全反射的临界角为43度左右。

此处,对光照射方法和光测定方法的一个实施方式进行说明。在本实施方式所涉及的光照射方法中,如上所述,使用光学板50。即,在本实施方式所涉及的光照射方法中,使用光学板50向测定对象物A(对象物)照射光,该光学板50具有:用于输出光的主面50a(光输出面);与主面50a相对的背面50b;输入光的侧面50f(光输入面),该侧面为主面50a与背面50b之间的面;和通过激光L的聚光而形成的光扩散部60。

更具体而言,在本实施方式所涉及的光照射方法中,首先,使用光源21向侧面50f输入光,从侧面50f向光学板50内输入光。输入到光学板50内的光在光学板50内进行导光。在光学板50内进行导光且到达光扩散部60的光在光扩散部60被扩散。然后,在光扩散部60被扩散的光的至少一部分(以比较小的角度向主面50a输入的光)从主面50a输出,并照射在测定对象物A。

也就是说,本实施方式所涉及的光照射方法包括:向侧面50f输入光的光输入步骤;使从侧面50f输入的光在光扩散部60扩散的光扩散步骤;使在光扩散部60中扩散的光从主面50a输出的光输出步骤;和将从主面50a输出的光照射在测定对象物A的光照射步骤。再有,本实施方式所涉及的光照射方法可以包括将从侧面50f输入的光在光学板50内进行导光的光导光步骤。

另外,本实施方式所涉及的光测定方法在上述的光照射方法之后,还利用光检测器(摄像装置40)对来自被照射来自光学板50的光的测定对象物A的测定光(荧光、反射光或散射光等)进行检测(摄像)。特别而言,此处,对透过了主面50a和背面50b的来自测定对象物A的测定光进行检测。也就是说,本实施方式所涉及的光测定方法除了上述的光照射方法的各步骤以外,还包括对透过了主面50a和背面50b的来自测定对象物A的测定光进行检测的光检测步骤。

图6是表示光扩散部的结构与从光学板输出的光的强度分布的关系的图。图6(a)表示如图5那样光扩散部60针对第三方向由单一的改质区域7(改质点)构成的情况。另外,图6(b)表示如图2(c)那样光扩散部60针对第三方向由多个改质区域7(改质点)构成的情况。也就是说,图6(b)表示光扩散部60从主面50a朝向背面50b在光学板50的厚度方向(第三方向)上以规定的长度延伸的情况。

如图6(a)所示,光扩散部60针对第三方向由单一的改质区域7构成时,成为随着从与光扩散部60相对应的(针对第二方向的)中心位置离开而衰减那样的强度分布。另一方面,如图6(b)所示,光扩散部60针对第三方向由多个改质区域7构成时,从光扩散部60的一个改质区域7朝向第三方向的光在通过其它的改质区域7时再次被扩散。因此,在这种情况下,在与光扩散部60相对应的(第二方向的)中心位置强度降低,但能够使其两侧的强度提高。也就是说,通过调节从主面50a朝向背面50b在第三方向上延伸的光扩散部60的长度,能够对与光扩散部60相对应的(第二方向的)中心位置和其两侧的光强度进行调整。

图7是表示将来自相互相邻的一对光扩散部的光照射在测定对象物的状态的示意剖面图。其中,如图2、7所示,从第三方向观察,在槽13的两侧配置光扩散部60。因此,在保持于槽13的测定对象物A,在一个光扩散部60中被扩散并从光学板50的主面50a输出的光L1与在另一个光扩散部60中被扩散并从光学板50的主面50a输出的光L2相互重叠而被照射。换言之,从第三方向观察,能够利用来自槽13的外侧的光L1、L2对测定对象物A进行照明。因此,能够对测定对象物A合适地进行斜照明(即,利用暗视野的照明)。

图8是表示从第三方向观察时的光强度分布的模拟结果的图。在图8中,利用颜色的浓淡表示光强度的大小。图8(a)是表示从光学板50输出的光的强度分布的图,图8(b)是表示在光学板50上配置微型板11的状态下的光强度分布的图。如图8所示,根据本实施方式所涉及的光学板50,能够相对于多个槽13照射大致均匀的强度的光。

如以上说明的那样,本实施方式所涉及的光测定装置1具备具有光学板50的光照射装置20。光学板50包含使从侧面50f(光输入面)输入的光扩散并从主面50a(光输出面)输出的光扩散部60。因此,如果配置光学板50以使其主面50a(光输出面)与测定对象物A相对,则能够将在光扩散部60中扩散的光均匀地照射在测定对象物A。特别是光学板50中,光扩散部60通过将激光L聚光于成为光学板50的部件(加工对象物70)(即,利用激光加工)而形成。因此,容易形成光扩散部60,能够进行与测定对象物A的形状(例如槽13的形状、尺寸或配置)等照射条件相对应的光的照射。

另外,在本实施方式所涉及的光测定装置1中,如图9所示,在光学板50形成沿着与光学板50的主面50a交叉(大致正交)的第三方向延伸的光扩散部60。因此,能够增加从与光扩散部60邻接的区域输出的光量。其中,所谓与光扩散部60邻接的区域,例如从第三方向观察,如上所述以位于槽13之间的方式直线状地形成光扩散部60时,是与槽13重复的光扩散部60的两侧的区域。或者,所谓与光扩散部60邻接的区域,例如从第三方向观察,如下所述以包围槽13的方式形成光扩散部60时,是与槽13重复的光扩散部60的外侧的环状的区域。光扩散部60从第三方向观察,以夹着槽13的方式(以包围的方式)配置。然后,输入到光学板50的光L1、L2在这些光扩散部60中被扩散后,从光学板50的主面50a输出,并从微型板11的槽13的底面13s向槽13输入。

因此,进入到槽13的光L1、L2相对于槽13的底面13s以小于90度的入射角向槽13输入。另外,光L1、L2对槽13的底面13s进行相对强地照明。换言之,光L1、L2主要照射在沉淀于槽13的底面13s的测定对象物A。因此,可以减少因来自光学板50的光照射在槽13的溶液B而产生的背景光噪声。

其中,光学板50包括作为在相互相对的侧面(光输入面)50f、50f之间对光进行导光的导光部发挥功能的第二部分52。因此,从侧面50f输入的光利用作为导光部的第二部分52在侧面50f、50f之间进行导光,并且在光扩散部60中被扩散并输出。因此,能够更加均匀地向遍及配置有光学板50的区域上的各位置而存在的测定对象物A照射光。

另外,也可以由形成有光扩散部60的第一部分51和与第一部分51一体地构成且没有形成光扩散部60的第二部分52构成光学板50,并且在该第二部分52构成导光部。在这种情况下,如果在相互一体构成的第一部分51和第二部分52中,以在第二部分52不形成光扩散部60的方式控制激光加工,则能够利用该第二部分52构成导光部。也就是说,在这种情况下,通过控制激光加工,能够在光学板50内构成导光部。

或者,也可以通过将形成有光扩散部60的第一部分51和与第一部分51分开构成且没有形成光扩散部60的第二部分52进行光学接合而构成光学板50,并且利用该第二部分52构成导光部。在这种情况下,如果准备通过激光加工而形成有光扩散部60的第一部分51和没有形成光扩散部的第二部分52并使之相互光学接合,则能够利用该第二部分52构成导光部。

此处,对光扩散部60彼此的作用进行说明。图10是表示利用多个光扩散部光被依次扩散的状态的示意剖面图。如图10所示,输入到光学板50的光首先利用第一光扩散部61被扩散。将在第一光扩散部61中初次被扩散的光称为一次扩散光。一次扩散光中的一部分的光L1在与第一光扩散部61邻接的第二光扩散部62中继续被扩散。将这样在第二光扩散部62中被扩散的光称为二次扩散光。再有,二次扩散光中的一部分的光L2在多个光扩散部60中被依次扩散。作为一个例子,将在第n个光扩散部6n中进一步被扩散的光称为n次扩散光。

从光学板50的主面50a输出并供给测定对象物A的照明的光除了一次扩散光以外,也受到二次扩散光至n次扩散光的高次的扩散光的影响。因此,为了降低对测定对象物A的照射不均匀,可以减少从二次扩散光至n次扩散光的高次的扩散光,或者,可以在光学板50的整体中均匀地发生二次扩散至n次扩散这样的高次的扩散。

因此,如图11所示,光学板50还可以具有一对反射部80。反射部80沿着与光学板50中的作为光输出面的主面50a交叉的第三方向延伸。反射部80至少对来自光源21的光进行反射。反射部80包括配置于光学板50的侧面50d上的第一反射区域81和从主面50a向第三方向突出的第二反射区域82。

反射部80具有第一反射区域81时,例如在规定的光扩散部60中被扩散并向侧面50d输入的光L1利用第一反射区域81被反射,在其它的光扩散部60中继续被扩散。这相当于,通过在扫描了第一反射区域81上被反射的光L1的位置形成模拟的光扩散部60(光扩散部60P),从而将光L1看作在该模拟的光扩散部60P中被扩散的光L2。也就是说,第一反射区域81模拟地发生高次的扩散。因此,在光学板50的整体中,能够均匀地发生高次的扩散,降低对测定对象物A的照射不均匀。其中,为了形成这样的第一反射区域81,有在侧面50d上设置反射镜等的反射部件的方法或对侧面50d进行反射加工的方法等。

另一方面,反射部80具有第二反射区域82时,例如在规定的光扩散部60中被扩散后,从主面50a输出,原本的话从测定对象物A脱离的光L3在第二反射区域82上被反射,并被照射在测定对象物A。这相当于,在扫描了第二反射区域82上被反射的光L3的位置产生模拟的光学板50(光学板50P),将来自该模拟的光学板50P的光L4照射在测定对象物A。由此,能够进一步降低照射不均匀。为了形成这样的第二反射区域82,有以从主面50a向第三方向突出的方式设置反射镜等的反射部件的方法等。

以上说明的光学板50可以有各种变形。图12是表示光学板的变形例的剖面图。如图12(a)所示,在光学板50中,能够以到达主面50a而不到达背面50b的方式形成光扩散部60。也就是说,光扩散部60至少可以在光学板50的内部形成。

另外,如图12(b)所示,在光学板50中,也可以以从第一部分51遍及第二部分52而延伸的方式,只在光学板50的内部形成光扩散部60。在这种情况下,也在第二部分52构成导光部。更具体而言,在这种情况下,第二部分52中的没有形成光扩散部60的背面50b侧的一部分作为在相互相对的一对侧面50f、50f之间对光进行导光的导光部发挥功能。

另外,如图12(c)所示,在光学板50中,能够以到达背面50b而不到达主面50a的方式形成光扩散部60。在这种情况下,例如可以在第一部分51的端面即侧面50d上配置光源21,使侧面50d成为用于向光学板50输入光的光输入面。在这种情况下,能够将第一部分51中的没有形成光扩散部60的主面50a侧的一部分作为在相互相对的一对侧面50d、50d之间对光进行导光的导光部发挥功能。换言之,在这种情况下,第一部分51相当于构成导光部的部分(上述的第二部分52)。另外,在这种情况下,第二部分52相当于形成有光扩散部60的部分(上述的第一部分51)。另外,可以使背面50b成为用于输出光的光输出面。

另外,如图12(d)所示,也可以在每个光扩散部60随机地设定第三方向上的形成位置和针对第三方向的长度。

接着,对光学板50的变形例进行说明。图13是表示光学板的变形例的图。图13(a)是沿图13(b)的俯视图中的XIIIa-XIIa线的剖面图。另外,图13(c)是沿图13(d)的俯视图中的XIIIc-XIIIc线的剖面图。如图13所示,在光学板50中,能够以与保持测定对象物A的微型板11的槽13的形状相对应的方式形成光扩散部60。

例如,微型板11的槽13是二维阵列状地配置的棱柱状的凹部时,如图13(a)、(b)所示,能够将光扩散部60形成为沿着各个槽13的外形那样的角筒状。或者,微型板11的槽13是二维阵列状地配置的圆柱状的凹部时,如图13(c)、(d)所示,能够形成沿着各个槽13的外形那样的圆筒状的光扩散部60。在形成这些光扩散部60时,能够以相对于各个槽13分别配置光扩散部60的方式设定光学板50和微型板11的配置。

图14(a)是沿图14(b)的俯视图中的XIVa-XIVa线的剖面图。另外,图14(c)是沿图14(d)的俯视图中的XIVc-XIVc线的剖面图。如图14(a)、(b)所示,在光学板50中,也可以沿着主面50a格子状地形成光扩散部60。此时,从第三方向观察,沿着一个方向的光扩散部60和沿着其它方向的光扩散部60以分别通过相互相邻的槽13之间的方式形成。

另外,此时,从第三方向观察,沿着一个方向的光扩散部60和沿着其它方向的光扩散部60可以相互以90度的角度交叉,也可以以除此以外的角度(例如45度)交叉。在以上的情况下,从第三方向观察,以包围槽13的方式形成光扩散部60,由此能够利用来自槽13的外侧的光对测定对象物A合适地进行斜照明(即,利用暗视野的照明)。另外,在光学板50中,不限于沿着主面50a直线状地形成光扩散部60的情况,如图14(c)、(d)所示,也可以沿着主面50a曲线状地形成光扩散部60。

另外,以上的光扩散部60也可以分别在沿着主面50a的方向(即,第一和/或第二方向)上由多个光扩散层(包含改质区域7的层)构成。即,各个光扩散部60也可以由通过激光L的聚光而形成的多个光扩散层构成。更具体而言,例如各个光扩散部60是图2所示的方式时,也可以由包括沿着第一方向延伸且在第三方向上排列的多个改质区域7的第一光扩散层和与该第一光扩散层接近而形成且包括沿着第一方向延伸且在第三方向上排列的其它的多个改质区域7的(1个或多个)第二光扩散层构成。

另外,例如光扩散部60是图13(a)、(b)所示的方式时,也可以由包括角筒状的改质区域7的第一光扩散层和包括包围该第一光扩散层那样的角筒状的其它的改质区域7的(1个或多个)第二光扩散层构成。另外,例如光扩散部60是图13(c)、(d)所示的方式时,也可以由包括圆筒状的改质区域7的第一光扩散层和包括与第一光扩散层同心的圆筒状的其它的改质区域7的(1个或多个)第二光扩散层构成。

[第二实施方式]

接着,对第二实施方式所涉及的光测定装置进行说明。图15是表示第二实施方式所涉及的光测定装置的结构的示意剖面图。如图15所示,第二实施方式所涉及的光测定装置1A在具有光照射装置20A以代替光照射装置20的方面和各要素的位置关系方面,与光测定装置1不同。

光照射装置20A在具有光学板50A以代替光学板50的方面,与光照射装置20不同。关于光学板50A的详细情况,以后叙述。光源21从光学板50A的光输入面向光学板50A输入光。光学系统30使来自光从光源21经由光学板50所照射的测定对象物A的测定光(例如荧光、反射光或散射光)透过,并在摄像装置40成像。摄像装置40对利用光学系统30的透镜32成像的测定光进行摄像。

在本实施方式中,光照射装置20A被配置于微型板11的背面11b侧,将光学系统30和摄像装置40按照该顺序配置于微型板11的主面11a侧。因此,摄像装置40经由光学系统30接受测定光并进行摄像,该测定光是从由光照射装置20A被照射光的测定对象物A发出,从微型板11的主面11a侧输出的测定光。

图16是表示图15所示的光学板的结构的图。特别是图16(a)是光学板50A的俯视图,图16(b)是光学板50A的部分剖面图。如图16所示,光学板50A中,光扩散部60的形成的方式与光学板50不同。更具体而言,在光学板50A中,光扩散部60沿着第一方向(X轴方向)遍及一对侧面50c、50c之间而延伸。

另外,光扩散部60沿着第二方向(Y轴方向)以大致等间隔排列。从第三方向(Z轴方向)观察,以槽13与多列光扩散部60重复的方式设定光扩散部60的排列的间隔。因此,从第三方向观察,在1个槽13的正下方配置多列光扩散部60。另一方面,此处,光扩散部60针对第三方向由1个改质区域7(改质点)构成。其中,光扩散部60也可以与第一实施方式同样,针对第三方向由多个改质区域7构成。光扩散部60的形成方法与第一实施方式相同。

图17是表示在光扩散部中光被扩散的状态的示意剖面图。在第一实施方式中,微型板11与光学板50之间的中间层M由比光学板50的折射率小的材质(例如空气)构成。在本实施方式中,假设微型板11与光学板50A之间的中间层M由比光学板50的材质的折射率高的折射率的材质构成的情况。作为这种情况下的中间层M的一个例子,例如可以列举在光学板50A的主面50a与微型板11的背面11b之间配置硅酮等的树脂、油或水等而构成的层。

因此,在光扩散部60中被扩散的光以在主面50a与中间层M之间扩散的程度变小的方式折射(即,以相对于槽13的深度方向的角度变小的方式折射),并从主面50a输出。如上所述,光扩散部60也配置在槽13的正下方。因此,即使是扩展比较小的光,测定对象物A也可以被充分地照明。

图18是表示来自配置于槽的正下方的多个光扩散部的光照射在测定对象物的状态的示意剖面图。如图18所示,此处,在相互相邻的光扩散部60中被扩散的光L1、L2交替重叠,并被照射在保持于槽13的测定对象物A。换言之,从第三方向观察,能够利用来自槽13的正下方的光L1、L2对测定对象物A进行照明。因此,能够对测定对象物A合适地进行透过照明(即,利用明视野的照明)。

如上所述,在本实施方式所涉及的光测定装置1A中,也与第一实施方式所涉及的光测定装置1同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。特别是在光测定装置1A中,在配置于槽13的正下方的多个光扩散部60中被扩散的光在相对于槽13的深度方向(第三方向)的角度比较小的状态下被照射在保持于槽13的测定对象物A。因此,能够合适地进行利用明视野的照明。

其中,第一实施方式所涉及的光学板50的各种变形例在本实施方式所涉及的光学板50A中也有效。即,从第三方向观察时,在相对于1个槽13配置多个光扩散部60的范围内,可以将光扩散部60形成为角筒状或圆筒状,也可以将光扩散部60形成为沿着主面50a的格子状或曲线状。或者,也可以适当设定针对第三方向的光扩散部60的形成位置或长度。另外,还可以具有反射部80。

[第三实施方式]

接着,对第三实施方式所涉及的光测定装置进行说明。图19是表示第三实施方式所涉及的光测定装置的结构的图。特别是图19(a)是沿图19(b)的俯视图中的XIXa-XIXa线的示意剖面图,图19(c)是侧视图。如图19所示,第三实施方式所涉及的光测定装置1B在具有光照射装置20B以代替光照射装置20的方面,与光测定装置1不同。其中,在图19中省略了光学系统30和摄像装置40。

光照射装置20B在具有光学板50B以代替光学板50的方面,与光照射装置20不同。光学板50B具有一对反射部90。反射部90沿着与光学板50B中的作为光输出面的主面50a交叉的第三方向延伸。将反射部90设置于与光学板50B中的作为光输入面的侧面50f交叉的侧面50c上。反射部90可以获得与上述的反射部80的第一反射区域81相同的效果。

另外,在光学板50B的主面50a上设置有掩模97。从第三方向观察,掩模97呈矩形环状,设置在主面50a的外周部。因此,关于主面50a,只是去除其外周部的部分从掩模97的开口部97h露出。从第三方向观察,以形成有微型板11的槽13的区域的全体包含于主面50a的从开口部97h露出的部分的方式规定掩模97的开口部97h的尺寸。

另外,光学板50B具有立设于掩模97上的反射部95。反射部95沿着与光学板50B中的作为光输出面的主面50a交叉的第三方向延伸。从第三方向观察,反射部95以沿着掩模97的开口部97h的外缘的方式呈矩形环状。反射部95可以获得与上述的反射部80的第二反射区域82相同的效果。

其中,如图19和图20所示,从第三方向观察,光学板50B具有沿着主面50a二维阵列状地排列的多个光点(dot)状的光扩散部60。各个光扩散部60针对第一和第二方向由单一的改质区域7(改质点)构成。另一方面,各个光扩散部60针对第三方向由多个(此处为2个)改质区域7(改质点)构成。光扩散部60的形成方法与第一实施方式相同。

从第三方向观察时的光扩散部60的配置可以按照如下方式规定。即,如图20(b)所示,从第三方向观察时,以光扩散部60的面积相对于摄像装置(摄像元件)40的单一的像素PA的面积的比小于10%的方式,规定光扩散部60的尺寸或配置等。例如,摄像装置40的像素PA约为0.25mm×0.25mm时,如果在该像素PA内配置1个约0.02mm×0.02mm的光扩散部60,则该面积比约为0.64%。这样,如果使光扩散部60的加工面积小于视野尺寸,则在摄像装置40进行摄像时,能够使光扩散部60不作为图像而明显存在,避免摄像不均匀。

如上所述,在本实施方式所涉及的光测定装置1B中,也与第一实施方式所涉及的光测定装置1同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。另外,如上所述,能够避免摄像不均匀。

以上说明的实施方式是对本发明的一个方面所涉及的光学板、光照射装置和光测定装置的一个实施方式进行说明的实施方式。因此,本发明的一个方面所涉及的光学板、光照射装置和光测定装置并不限定于上述的实施方式。

例如,在上述第一~第三实施方式中,对将测定对象物A保持于微型板11的槽13的情况进行了说明。然而,本发明的一个方面所涉及的光学板(即,光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法)也能够适用于将测定对象物A保持于培养皿或载玻片等的其它的保持部件的情况。

图21是表示将测定对象物保持于培养皿时的例子的图。图21(b)是沿图21(a)的XXIb-XXIb线的剖面图。如图21所示,此处,将测定对象物A保持在培养皿(保持部件)16,与其对应地使用光学板50C。在光学板50C中,从第三方向观察,以包围培养皿16的方式形成圆环状地排列的多个光扩散部60。即,在培养皿16的正下方没有形成光扩散部60。另外,各个光扩散部60针对第三方向由多个改质区域7(改质点)构成。即,光扩散部60沿着第三方向延伸。

在这种情况下,也与上述实施方式同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。另外,从第三方向观察,能够利用来自培养皿16的外侧的光对测定对象物A进行照明,因此能够合适地对测定对象物A进行斜照明(即,利用暗视野的照明)。

图22是表示将测定对象物保持于培养皿时的另一个例子的图。图22(b)是沿图22(a)的XXIIb-XXIIb线的剖面图。如图22所示,此处,将测定对象物A保持在培养皿(保持部件)16,与其对应地使用光学板50D。在光学板50D中,沿着主面50a形成多个光扩散部60。更具体而言,在光学板50D,从第三方向观察,以与培养皿16重复的方式形成多个光扩散部60。因此,从第三方向观察,在培养皿16的正下方配置有多个光扩散部60。各个光扩散部60针对第三方向由单一的改质区域7(改质点)构成。

在这种情况下,也与上述实施方式同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。另外,从第三方向观察,能够利用来自培养皿16的正下方的光对测定对象物A进行照明,因此能够合适地对测定对象物A进行透过照明(即,利用明视野的照明)。

图23是表示将测定对象物保持于载玻片时的例子的图。图23(b)是沿图23(a)的XXIIIb-XXIIIb线的剖面图。如图23所示,此处,将测定对象物A保持在长方形板状的载玻片(保持部件)17,与其对应地使用光学板50E。在光学板50E中,从第三方向观察,以包围载玻片17的方式形成矩形环状地排列的多个光扩散部60。即,在载玻片17的正下方没有形成光扩散部60。另外,各个光扩散部60针对第三方向由多个改质区域7(改质点)构成。即,光扩散部60沿着第三方向延伸。

在这种情况下,也与上述实施方式同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。另外,从第三方向观察,能够利用来自载玻片17的外侧的光对测定对象物A进行照明,因此能够合适地对测定对象物A进行斜照明(即,利用暗视野的照明)。

图24是表示将测定对象物保持于载玻片时的另一个例子的图。图24(b)是沿图24(a)的XXIVb-XXIVb线的剖面图。如图24所示,此处,将测定对象物A保持在载玻片(保持部件)17,与其对应地使用光学板50F。在光学板50F,沿着主面50a形成多个光扩散部60。更具体而言,在光学板50F,从第三方向观察,以与载玻片17重复的方式形成多个光扩散部60。因此,从第三方向观察,在载玻片17的正下方配置有多个光扩散部60。各个光扩散部60针对第三方向由单一的改质区域7(改质点)构成。

在这种情况下,也与上述实施方式同样,能够进行与所希望的照射条件相对应的光的照射。另外,从第三方向观察,能够利用来自载玻片17的正下方的光对测定对象物A进行照明,因此能够合适地对测定对象物A进行透过照明(即,利用明视野的照明)。

如上所述,形成光学板中的光扩散部可以假定各种方式。关于形成光学板中的光扩散部的方式,作为一个例子,可以如下那样地决定。即,首先,设定光学系统的规格。更具体而言,设定来自光源的激发波长与中间层的距离和数量。此处的中间层例如是光学板的主面与微型板等的保持部件的背面之间的层(例如中间层M)和从微型板等的保持部件的背面至保持部件中的测定对象物的载置面(例如槽13的底面13s)的层(例如微型板11的底部14)中的至少1个。另外,所谓中间层的距离是这些层的第三方向上的尺寸。

接着,在设定光学系统的规格之后,设定照明对称的规格。更具体而言,进行照明对称(保持部件和测定对象物)的形状的设定(即,照射条件的设定)、输入光的规格(例如配光特性、是明视野还是暗视野、和照射不均匀的允许程度等)的设定以及所要求的光量的设定。

之后,设定光学板的折射率、中间层的折射率和光学板的形状。通过以上的设定可以决定在光学板形成的光扩散部的方式。即,决定在光学板形成的光扩散部的针对第一~第三方向的位置和图案。因此,光学板中的光扩散部的方式并不限定于上述的具体例,可以根据各种条件适当设定。

另外,照明对象物(例如测定对象物A)并不限定于细胞或包含细胞的组织(tissue),也可以是半导体装置或膜等工业制品。另外,上述实施方式的光测定装置也可以是光学显微镜或数字幻灯片扫描仪等显微镜装置。在这种情况下,根据需要还可以具有物镜。

产业上的可利用性

根据本发明的一个方面,可以提供能够与所希望的照射条件配合而照射光的光学板、光照射装置、光测定装置、光照射方法和光测定方法。

符号的说明

1…光测定装置、11…微型板(保持部件)、16…培养皿(保持部件)、17…载玻片(保持部件)、20、20A、20B…光照射装置、21…光源、40…摄像装置(光检测器)、50、50A、50B、50C、50D、50E、50F…光学板、50a…主面(光输出面)、50b…背面(光输出面)、50d、50f…侧面(光输入面)、51…第一部分、52…第二部分、60、61、62…光扩散部、80、90、95…反射部、A…测定对象物(对象物)、L1、L2、L3、L4…光、L…激光。

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