样本收集组件及其制作方法与流程

本发明涉及一种样本收集组件及其制作方法，尤其涉及一种具有遮光件的样本收集组件及其制作方法。

背景技术：

随着显微科技的进步，各种类型的显微观察装置，例如原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM)、电子显微镜如穿透式电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM)、扫描式电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)等，适应而生。此外，针对不同的显微镜需要相应的不同类型的样本收集组件。

然而，在目前的样本收集组件中，当液态样本注入样本收集组件的样本容纳空间的前后，液态样本常常由于外界光线的照射之后，提供液态样本能量或导致其温度变化，造成该液态样本改变其流动特性，或使得液体样本内的成分产生反应，甚至发生样本成分变质的情形，进而影响显示设备最后观测的结果。

技术实现要素：

本发明提供一种样本收集组件，其能在液体样本注入样本收集组件的前后提供有效的光遮蔽。

本发明提供一种样本收集组件的制作方法，其可于样本收集组件的本体上另外配置可移除遮光件，以遮蔽至少部分通过样本收集组件的容纳空间的光线。

本发明提供一种样本收集组件的制作方法，其能制作出本身具有可移除遮光件的样本收集组件，用以遮蔽通过其容纳空间的至少部分光线。

本发明的样本收集组件包括本体以及可移除遮光件。本体具有可封闭且可供光线通过的样本容纳空间。可移除遮光件配置于本体上，并且位于样本 容纳空间之外，用以遮蔽通过样本容纳空间的至少部分光线。

本发明的样本收集组件的制作方法包括接合第一基板至第二基板，并且在第一基板及第二基板之间形成间隔物，用以连接并且固定第一基板与第二基板，以在第一基板与第二基板之间形成可封闭且可供光线通过的样本容纳空间。形成可移除遮光件于第一基板上。可移除遮光件对应样本容纳空间，用以遮蔽通过样本容纳空间的至少部分光线。

本发明的样本收集组件的制作方法包括提供第一基板。在制作第一基板的过程中形成可移除遮光件于第一基板上。接合第一基板至第二基板。在第一基板与第二基板之间形成间隔物，用以连接并固定第一基板与第二基板，以在第一基板与第二基板之间形成可封闭且可供光线通过的样本容纳空间。可移除遮光件对应于样本容纳空间，用以遮蔽通过样本容纳空间的至少部分光线。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件包括片材。片材附加于本体上，并且覆盖至少一部分样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件包括对应于样本容纳空间的凹陷。用以形成暴露样本容纳空间的观测窗。片材密封凹陷，以在凹陷内形成具有特定气压的密闭空间。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件包括材料层。材料层覆盖本体表面以及至少部分的样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件包括于本体同时制作的结构件。结构件藉由连接部连接于本体。

在本发明的一实施例中，上述的本体包括对应样本容纳空间的凹陷，用以形成暴露样本容纳空间的观测窗。可移除遮光件包括材料层，其位于观测窗的底面并且延伸至样本容纳空间与本体之间的部分接面。

在本发明的一实施例中，上述的本体包括第一基板、第二基板以及间隔件。第一基板具有相对的第一表面以及第二表面。第二基板具有相对的第三表面以及第四表面。第一基板与第二基板相互堆栈，并且第二表面面向第三表面。间隔件配置于第二表面与第三表面之间，用以连接并固定第一基板与第二基板，以在第一基板与第二基板之间形成样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述的本体还包括第一薄膜以及第二薄膜。第 一薄膜位于第一基板的第二表面。第二薄膜位于第二基板的第三表面。第一薄膜、第二薄膜以及间隔件共同包围样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述的第一基板包括位于第一表面的第一凹陷，且第一凹陷的底部连接第一薄膜，用以形成暴露样本容纳空间的观测窗。可移除遮光线包括材料层。材料层位于观测窗的底面并且延伸至样本容纳空间与本体之间的部分接面。

在本发明的一实施例中，上述的第二基板包括位于第四表面的第二凹陷。第二凹陷的底部连接第二薄膜，用以形成暴露样本容纳空间的第二观测窗。

在本发明的一实施例中，上述的遮光件包括滤光材料或光阀组件。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件的材质是金、铜、或铝等导体，或是硅、塑料、陶瓷、或高分子材料等半导体或非导体。

在本发明的一实施例中，上述的滤光材料用以滤除波长介于100纳米至1毫米之间的光线。

在本发明的一实施例中，上述形成可移除遮光件的方法包括附加片材于第一基板上。片材覆盖至少部分的样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述的片材的材质是金、铜、或铝等导体，或是硅、塑料、陶瓷、或高分子材料等半导体或非导体。

在本发明的一实施例中，上述样本收集组件的制作方法还包括在第一基板的第一表面形成对应于样本容纳空间的凹陷，用以形成暴露样本容纳空间的观测窗。片材密封凹陷，以在凹陷内形成具有特定气压的密闭空间。

在本发明的一实施例中，上述的附加片材于第一基板的方法包括由第一基板外部叠黏合、夹合或静电吸附片材于第一基板上。

在本发明的一实施例中，上述形成可移除遮光件的方法包括形成材料层于第一基板的第一表面。材料层覆盖至少部分的样本容纳空间。

在本发明的一实施例中，上述形成材料层的方法包括蒸镀、溅镀或是涂布材料层于第一基板上。

在本发明的一实施例中，上述的可移除遮光件包括与第一基板同时制作的结构件，并且结构件藉由连接部连接第一基板。

在本发明的一实施例中，上述的样本收集组件的制作方法还包括在第一基板的第一表面形成对应样本容纳空间的凹陷，用以形成暴露样本容纳空间 的观测窗。可移除遮光件包括材料层。材料层位于观测窗的底面并且延伸至样本容纳空间与第一基板之间的部分接面。

基于上述，本发明的样本收集组件藉由可移除遮光件来遮蔽并过滤至少部分穿透本体进入样本容纳空间的光线。因此，在液态样本加载样本收集组件中的样本容纳空间的前后，液态样本可藉由可移除遮光件的光遮蔽避免液态样本内的成分与入射光线产生反应，而使得液态样本改变其流动特性，或是成分性质发生改变，而影响后续显微装置的观测结果。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。

附图说明

图1A是依照本发明的一实施例的样本收集组件的示意图；

图1B是图1A的样本收集组件延A-A’面的剖面示意图；

图2是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图3是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图4A及图4B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图5A及图5B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图6A是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图6B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图7A、图7B以及图7C是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图8A、图8B以及图8C是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图9是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图；

图10A是依照本发明一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图；

图10B是依照本发明另一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图；

图11A是依照本发明另一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图；

图11B是依照本发明另一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图。

附图标记：

100、200、300、400、500、600、700：样本收集组件

110、510、610、710：本体

111：表面

118、418：薄膜

120、220、320、420、425、520、620、625：可移除遮光件

130、530：样本容纳空间

213：观测窗

421、621：结合部

512、612、712：第一基板

512a、612a：第一表面

512b、612b、712b：第二表面

514、614、714：第二基板

514a、614a、714a：第三表面

514b、614b：第四表面

516：间隔件

518a：第一薄膜

518b：第二薄膜

613a：第一观测窗

613b：第二观测窗

715a、715b：凹槽

S801～S802、S901～S902、S1001～S1002、S1101～S1102：步骤

P：外力

具体实施方式

图1A是依照本发明的一实施例的样本收集组件的示意图。图1B是图1A的样本收集组件沿A-A’面的剖面图。样本收集组件100可具有本体110以及可移除遮光件120。在本实施例中，本体110具有可封闭的样本容纳空间130，并且样本容纳空间130可供光线通过的。此外，可移除遮光件120配置于本体100上并且位于样本容纳空间130之外。

在本实施例中，可移除遮光件120例如是片材，其附加于本体100上，并且覆盖部分的样本容纳空间130。此外，前述的片材可以金、铜或铝等导 体材料制成。或者，片材也可以硅、塑料、陶瓷或高分子导体或半导体材料制成。举例而言，可移除遮光件120可为铜箔，其可以黏合、夹合或静电吸附的方式贴合于本体110的表面111上。此外，在本实施例中，可移除遮光件120也可为金或铝等金属所组成的材料层，其例如是以溅镀、蒸镀或旋涂的方式形成并且覆盖于本体110的表面111以及部分的样本容纳空间130。

可移除遮光件120可包括例如是以有机材料及金属材料形成的滤光组件，或以例如是液晶材料形成的光阀组件。可移除遮光件120可藉由过滤、吸收或是反射光线的方式来达到遮蔽部分穿透进入本体110的光线的效果。当可移除遮光件120是以滤光材料形成时，可移除遮光件120所遮蔽的光线的波长范围例如是落在100纳米至1毫米之间的范围，也就是落在紫外光(UVC)与远红外线(LWIR)之间的范围。

在本实施例中，由于样本收集组件100的本体110上具有可移除遮光件120，因此，当欲进行观测的液态样本加载样本容纳空间130前后，可移除遮光件120暂时性地覆盖固定于本体110上，以防止包括可见光，例如是紫外光，或是不可见光，例如是红外光等穿透样本收集组件100的本体110，并且照射至样本容纳空间130内，而使得液态样本的成分由于光线照射而产生反应或性质的改变。此外，当液态样本加载完成之后，将可移除遮光件120移除，以便利例如是电子显微镜的显微装置进行样品的观察。此外，在本实施例中，样本容纳空间130的外围可进一步配置薄膜118，以作为样本容纳空间130与液态样本接触的表面，以增进液态样本于样本容纳空间130内流动或吸附的情形。

在本实施例中，当液态样本完成加载于样本容纳空间130后，可移除遮光件120可根据不同的组成结构、材料以及形成方式藉由物理方式，例如是外力、加入电流或电场以及温度改变等，或是化学方式，例如溶解、蚀刻或是其他的化学反应等，将可移除遮光件120去除。

图2是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。本实施例的样本收集组件200与前述实施例的样本收集组件100结构相似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。本实施例中，样本收集组件200的本体110可进一步包括对应于样本容纳空间130的凹陷，以形成暴露出样本容纳空间130的观测窗213。此外，在本实施例中，样本 收集组件200具有可移除遮蔽件220，并且可移除遮蔽件220可为片材。片材可用来密封上述形成观测窗213的凹陷，并且在凹陷内形成具有特定压力的密闭空间，其压力的大小约是介于0.01至150千帕(KPa)之间。举例而言，前述密闭空间的压力大小可小于或大于外界压力大小，使可移除遮光件220藉由内外的压力差更加稳固地贴附于本体100的表面111上，以于密闭空间内形成气密空间。

图3是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。本实施例的样本收集组件300与前述图2的实施例的样本收集组件200的结构相似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。本实施例的样本收集组件300与前述实施例中的样本收集组件200的差异在于本实施例的可移除遮光件320例如是以溅镀、蒸镀或是旋涂的方式形成的金或铝等金属材料层。如图3所示，可移除遮光件320可配置于观测窗213的底面，并且延伸至样本容纳空间130与本体110之间的部分接面。

图4A及4B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。请参考图4A及图4B，本实施例的样本收集组件400与上述图2的样本收集组件200的结构相似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。本实施例的样本收集组件400与前述实施例中的样本收集组件300的差异在于，本实施例的可移除遮光件420可为与本体110同时制作完成的遮光结构件，并且可移除遮光件420经由结合部421与本体110连接。换言之，样本收集组件400本身在制作完成时本身即已具有可移除遮光件420，而无需另外于样本收集组件400上贴附或沉积其他的遮光结构。在本实施例中，上述的可移除遮光件420例如是硅结构，或者可由本体110的构造材料本身的特性变化而形成。例如，当本体110包括液晶材料时，液晶材料可藉由电场的作用而改变其对于光线的遮蔽，以形成可移除遮光件420来达到遮蔽光线的效果。如图4B所示，在本实施例中，当液体样本完成加载于样本容纳空间130后，可移除遮光件420以例如是施加外力P的方式去除，以方便显微装置进行后续的样本观测。

图5A及图5B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。请参考图5A，在本实施例中，上述的样本收集组件400另可选择在制作本体110时，同时将例如是碳硅化合物(SiC)等材料组成的可移除遮光件425直接 以蒸镀、溅镀或是旋涂的方式对应样本容纳空间130进行配置。此外，样本容纳空间130可以例如是氮化硅等材料形成的薄膜418包覆，以作为样本容纳空间130的蚀刻阻挡层并形成样本容纳空间130与液态样本接触的表面。请参考图5B，当液体样本完成加载于样本容纳空间130之后，可以电浆干蚀刻的方式沿图5B中的箭头方向移除部分遮蔽于样本容置空间130上的可移除遮光件425，以进行后续的样本观测步骤。

图6A是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。请参考图6A，本实施例的样本收集组件500与前述图1A、图1B的实施例的样本收集组件200的结构类似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。在本实施例中，样本收集组件500与样本案收集组件200的差异包括：样本收集组件500的本体510可包括第一基板512、第二基板514以及间隔件516。第一基板512具有相对的第一表面512a以及第二表面512b，并且第二基板514具有相对的第三表面514a以及第四表面514b。此外，第一基板512与第二基板514例如是以一上一下的方式相互堆栈，并且第一基板512的第二表面512b面向第二基板514的第三表面514a。

在本实施例中，第一基板512及第二基板514的材质例如是半导体材质或金属氧化物材质。此外，前述的半导体材质例如是双抛光或单抛光的单晶硅，并且金属氧化物例如是氧化铝。第一基板512及第二基板514的厚度可依设计或实际需求更改。举例而言，当样本收集组件500应用在电子显微镜的观测时，第一基板512及第二基板514的厚度大小可设计成大约是介于0.2毫米至0.8毫米之间。

如图6A所示，间隔件516配置于第二表面512b与第三表面514a之间，以连接并固定第一基板512及第二基板514并且在第一基板512与第二基板514之间形成样本容纳空间530。在本实施例中，间隔件516所定义的样本容纳空间530可为具有前、后两端开口的流道。液态样本可通过前、后两端开口进入样本容纳空间530中，而被保持于样本容纳空间530内。

在本实施例中，间隔件516可兼具维持第一基板512及第二基板514的间距以及接合固定第一基板512及第二基板514的功能。间隔件516的高度大约是介于0.1微米至20微米之间，甚至是介于0.1微米至10微米之间。换言之，第一基板512与第二基板514之间的间距，也就是样本容纳空间530 的高度是介于0.1微米至20微米之间，甚至介于0.1微米至10微米之间。本实施例上述的制作及配置方式的优点在于：当液态样本中具有悬浮颗粒时，液态样本中部分大于10微米的悬浮颗粒可被排除于样本容纳空间530之外。因此，本实施例的样本收集组件500可应用在血液中血球及血浆的分离观察。

本实施例考虑到第一基板512及第二基板514的材料、制程及其他可能的因素，间隔件516本身可为黏着材料，例如环氧树脂、紫外光胶或硅胶材质。或者。间隔件516本身也可为非黏着材料，例如硅或其氧化物等。再者，间隔件516例如是藉由硅或硅氧化物之间的阳极接合(anodic boding)接合于第一基板512及第二基板514之间。除此之外，间隔件516可利用如网印及框胶等涂布方式形成于第一基板512的第二表面512b以及第二基板514的第三表面514a上。或者，样本收集组件500也可藉由化学气相沉积的方式在第一基板512的第二表面512b以及第二基板514的第三表面514a上形成间隔件516。

在本实施例中，本体510可具有第一薄膜518a及第二薄膜518b，其中第一薄膜518a位于第一基板512的第二表面512b上，而第二薄膜518b位于第二基板514的第三表面514a上。第一薄膜518a、第二薄膜518b以及间隔件516共同维持样本容纳空间530。在本实施例中，于第二表面512b及第三表面514a上分别形成第一薄膜518a及第二薄膜518b的方式包括化学气相沉积、酸液冲洗、表面材料沉积、聚合物沉积，其中，化学沉积方式例如是通过电浆化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapor deposition,简称PECVD)。前述形成第一薄膜518a及第二薄膜518b的方法详细可参考现有半导体制程或微机电制程技术，此处不再赘述。

第一薄膜518a及第二薄膜518b的材质可选自硅、氮化硅、氧化硅、二氧化硅、氮氧化硅、碳、钻石膜、碳化硅、石墨烯、碳化硅、氧化铝、氮化钛、氧化碳及其组合的群组。此外，第一薄膜518a及第二薄膜518b需选用高电子穿透率的材质，使得例如是穿透式电子显微镜的电子束可穿透，以适应穿透式电子显微镜的观测需求。再者，第一薄膜518a及第二薄膜518b的厚度可依设计与实际需求进行更改。举例而言，第一薄膜518a及第二薄膜518b的厚度约为2纳米至200纳米，以利穿透式电子显微镜等显微装置进行观测。前述的内容是以硅晶圆制程为例作说明，但本发明可类推应用于其他 基底材质，但仍需考虑薄膜的机械强度、致密性、透光性、电子穿透率、薄膜与基板的制程整合度、残余应力、表面特性。

进一步而言，本实施例的第一薄膜518a及第二薄膜518b可提供作为与液态样本接触的表面，其可为亲水性材质或斥水性材质。在本实施例中，若选择亲水性材质则可增强吸附极性液态样本的吸附力道。若选择斥水性材质则可增强吸附非极性液态样本的吸附力道。此外，第一薄膜518a及第二薄膜518b的表面特性可经由物理修饰例如紫外光臭氧(UV ozone)修饰或电浆修饰或化学修饰如酸洗、蚀刻、阳极处理、接官能基等方法来调整。

在本实施例中，可移除遮光件520覆盖于第一基板512的第一表面512a上，并且可移除遮光件520可为片材或是以溅镀、蒸镀或旋涂等方式形成的材料层。此外，形成可移除遮光件520的材料可包括导体材料例如金、铜或铝等，以及半导体或非导体材料，例如硅、塑料、陶瓷或高分子材料等。

图6B是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。请参考图6A及图6B，样本收集组件500除可如上述图6A所示，藉由可移除遮光件520覆盖其第一基板512的第一表面512a之外，在本实施例中，样本收集组件500的第二基板514的第四表面514b也可同时覆盖可移除遮光件520，以增进样本收集组件500的遮光效果。

图7A、图7B以及图7C是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。请参考图7A，本实施例的样本收集组件600与前述图6实施例的样本收集组件500的结构相似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。本实施例的样本收集组件600与样本收集组件500的差异包括：样本收集组件600的本体610的第一基板612可包括位于其第二表面612b的第一凹陷，以形成暴露样本容纳空间530的第一观测窗613a，并且第一观测窗613a的底部连接第一薄膜518a。此外，可移除遮光件520可覆盖于第一观测窗613a上，以于形成第一观测窗613a的第一凹陷内形成密闭空间。

请参考图7B及图7C所示，在本实施例中，样本收集组件600除了可选择上述以片材或材料层形成的可移除遮光件520之外，如图7B或7C中所示，本实施例还可根据实际的需求，选择在样本收集组件600的本体610制作完成时即同时制作完成的可移除遮光件620及625来遮蔽穿透进入样本容纳空 间630的光线。请参考图7B，可移除遮光件620的结构与上述的可移除遮光件420的组成材料与结构皆相似，并且可移除遮光件620可于样本收集组件600制作时即与本体610的第一基板612同时制作完成，其中可移除遮光件620经由结合部621连接第一基板612的第一表面612a。此外，当液体样本完成加载样本容纳空间130后，可移除遮光件620也如图4B所示，以施加外力的方式来移除。

请参考图7C，本实施例的样本收集组件600还可选择于本体610的第一基板612制作的过程即将例如是碳硅化合物材料形成的可移除遮光件625对应样本容纳空间530涂覆于第一基板的第二表面612b，以形成用来遮蔽光线的材料层。本实施例的可移除遮光件625的结构与组成材料是与上述的可移除遮光件425相似。此外，当液体样本完成加载于样本收集组件600的样本容纳空间630后，可移除遮光件625也可以电浆干蚀刻的方式去除。

请再参考图7A，第二基板614包括位于第三表面614a的第二凹陷，以形成暴露样本容纳空间530的第二观测窗613b，并且第二凹陷的底部连接第二薄膜518b。本实施例是以样本收集组件600藉由第二基板614的第四表面614b置放于工作平台上的情形为例作说明。因此，第二基板614的第四表面614b的一侧可直接经由工作平台来达到光遮蔽的效果，而无需配置光遮蔽结构。在其他未绘示的实施例中，样本收集组件600也可经由第一基板612的第一表面612a置放于平台上，并且将可移除遮光件520改配置于第二基板614的第四表面614b上。

图8A、图8B以及图8C是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。如图8A、图8B以及图8C所示，样本收集组件600除如上述图7A、图7B及图7C所示，可于第一基板612的第一表面612a配置可移除遮光件520、可移除遮光件620或可移除遮光件625之外。在本实施例中，样本收集组件600的第二基板614的第四表面614b上也可同时配置可移除遮光件520、可移除遮光件620或可移除遮光件625，以对样本收集组件600的第一观测窗613a以及第二观测窗613b同时提供遮光作用。

特别是，当样本收集组件600未放置于例如是桌面等工作平面上时，光线仍能经由形成于第二基板614中的第二观测窗613b进入样本容纳空间530。因此，第一基板612的第一表面612a以及第二基板614的第四表面614b上 可同时配置可移除遮光件520、可移除遮光件620或可移除遮光件625，以避免上述漏光的情形发生，并加强样本容纳空间530的遮光效果。

图9是依照本发明的另一实施例的样本收集组件的示意图。本实施例的样本收集组件700与前述图7A、图7B以及图7C的样本收集组件600的结构相似，因此相同或相似的组件以相同或相似的符号表示，并且于此不再重复赘述。在本实施例中，样本收集组件700的第一基板712的第二表面712b及第二基板714的第三表面714a上可分别对应于样本收纳空间530形成凹槽715a及凹槽715b。此外，样本收集组件700可藉由改变凹槽715a及凹槽715b的大小来调整样本收纳空间530可以容纳的液态样本的量。

此外，样本收集组件700可选择如上述的样本收集组件500将可移除遮光件520另外配置于本体710上。或者，样本收集组件700也可如样本收集组件600，选择在制作本体710即同时形成可移除遮光件620或可移除遮光件625。

图10A是依照本发明一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图。请参考图7A及图10A，在本实施例中，样本收集组件500的制作方法的步骤包括：接合第一基板612至第二基板614，并且在第一基板612与第二基板614之间形成间隔物516(步骤S801)，用以连接并固定第一基板612及的第二基板614，以在第一基板612与第二基板614之间形成可封闭且可供光线通过的样本容纳空间530。接着，形成可移除遮光件520于第一基板612上(步骤S802)。可移除遮光件520对应样本容纳空间530，并且遮蔽样本容纳空间530的至少部分光线。

在本实施例中，可移除遮光件520例如是片材，并且片材可以外部叠合、夹合或是静电吸附方式附加于第一基板612上。或者，可移除遮光件520也可为以蒸镀、溅镀或涂布等方式形成于第一基板612上的材料层。样本收集组件500可经由可移除遮光件520的配置来遮蔽至少部分进入样本容纳空间530的光线。

请再参考图7A，在本实施例中，样本收集组件500可如同上述的样本收集组件600于其第一基板612的第一表面612a上进一步形成对应于容纳空间530的第一凹陷，以形成暴露样本容纳空间530的第一观测窗613a。此外，例如是以片材形成的可移除遮光件520可暂时遮蔽上述的第一观测窗613a， 以在第一观测窗613a中形成具有特定气压的密闭空间，其气压的大小例如是介于0.01至150千帕(KPa)之间，藉以增进片材贴附于第一表面612a上的稳固性。

图10B是依照本发明一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图。请参考图8A及图10B，在样本收集组件600的制作过程中，当完成接合第一基板612至第二基板614，并于第一基板612与第二基板614之间形成间隔件516之后(步骤S901)。接着，除如上述图10A所示，样本收集组件600的第一基板612上可形成可移除遮光件520之外，在本实施例中，样本收集组件600的第二基板614上也可同时形成可移除遮光件520(步骤S902)，以对样本收集组件600的第一观测窗613a以及第二观测窗613b同时提供遮光作用，并加强对于样本容纳空间530的遮光效果。

图11A是依照本发明另一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图。请参考图7C以及图11A，在本实施例中，样本收集组件600的制作方包括提供第一基板612，并且在制作第一基板612的过程中形成可移除遮光件625于第一基板612上(步骤S1001)。接着，接合第一基板612至第二基板614，并且在第一基板612与第二基板614之间形成间隔件516(步骤S1002)，以在第一基板612与第二基板614之间形成可封闭且可供光线通过的样本容纳空间530。在本实施例中，可移除遮蔽组件625对应样本容纳空间530配置，以遮蔽至少部分通过样本容纳空间530的光线。

如同上述，本实施例的第一基板612的第一表面612a可形成对应于样本容纳空间530的第一凹陷，以形成暴露样本容纳空间530的第一观测窗613a。此外，本实施例的可移除遮光组件625可为碳硅化合形成的材料层，其可配置于第一观景窗613a的底面并且延伸至样本容纳空间530与第一基板612之间的部分接面。

在本实施例中，样本收集元600的制作方法中也可如图7B所示，选择可移除遮光件620来作为遮光结构。如上所述，可移除遮光件620为与第一基板612同时形成的结构件，并且可移除遮光件620可经由连接部621连接至第一基板612，以遮蔽至少部分通过样本容纳空间530的光线。

图11B是依照本发明一实施例的样本收集组件的制作方法的流程图。请参考图8C及图11B，在样本收集组件600的制程中，除如上述图11A所示， 可于制作第一基板612的步骤中即形成可移除遮光件625于第一基板612之外，在本实施例中，也可于制作第二基板614同时，即于第二基板614上形成可移除遮光件520(步骤S1101)。接着，将已分别于表面上形成可移除遮光件520的第一基板612及第二基板614相互接合，并在第一基板612与第二基板614之间形成间隔件516(步骤S1102)。

综上所述，本发明的上述多个实施例的样本收集组件可具有可移除遮光件以遮蔽至少部分通过样本容纳空间的光线。因此，当液体样本加载样本容纳空间之前，可移除遮光件可经由过滤、反射或吸收来避免不必要的光线穿透经过样本收集组件的本体并且入射进入样本容纳空间。因此，可移除遮光件可避免液体观察样本在例如是电子显微镜的显微装置进行观测之前即由于外光线的照射改变其流动特性，或是使得液态样本内的成分与光线发生反应而产生成分性质改变的情形，进而影响显微装置的观测结果。

虽然本发明已以实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的改动与润饰，故本发明的保护范围当视所附权利要求界定范围为准。