技术总结
本发明涉及一种红外光照射调控含氧半导体材料表面润湿性状态的方法，具体步骤包括：(1)样品清洗：样品是指含氧半导体材料；(2)样品初始接触角测试：(3)紫外光辐照处理：将步骤(2)中的样品置于紫外光照下照射；(4)样品接触角测试；(5)红外光辐照处理：将样品置于红外光照下照射，红外光的波长为0.76‑100μm，红外光的光功率密度为10‑900mW cm‑2，照射时间为5s‑50min；(6)样品接触角测试。本发明红外光源波长范围宽，可选择性强，相对于其它控制方法，如黑暗存储、退火等，本法能够对含氧半导体材料表面的润湿性进行动态调控，操作简单，用时短，易于控制，成本低且效率高。
技术研发人员：刘铎;赵东方;贾冉;高乃坤;张玲;颜为山
受保护的技术使用者：山东大学
文档号码：201610552971
技术研发日：2016.07.13
技术公布日：2016.11.30