用于平板双面异物检测的装置和光刻机的制作方法

本发明涉及一种用于平板双面异物检测的装置和一种光刻机。

背景技术：

在半导体集成电路或平板显示的制备工艺中，为提高产品良率，污染控制是一个至关重要的环节。掩膜版、硅片或玻璃基板等在进行曝光前，都需要进行异物(包括外来颗粒、指纹、划痕、针孔等)检测。

基于空间约束、技术难度、成本及产率的综合考虑，集成在光刻设备中的颗粒检测装置通常采用能进行双面掩膜检测的上下对称的暗场散射测量技术，采用的检测装置如图1所示，包括载物台10和分设在所述载物台10两侧的检测设备，所述检测设备包括沿光线传播方向依次设置在所述载物台10上侧的第一辐射光源21和第一探测单元，以及设置在所述载物台10下侧的第二辐射光源31和第二探测单元，第一辐射光源21与第二辐射光源31关于所述载物台10对称。所述第一探测单元包括第一成像单元22和第一探测器23，光线照射在所述第一成像单元22上，经过所述第一成像单元22成像在所述第一探测器23上，所述第二探测单元包括第二成像单元32和第二探测器33，光线照射在所述第二成像单元32上，经过所述第二成像单元32成像在所述第二探测器33上。平板40设置在所述载物台10上，以所述平板40上侧的检测光路来说明，从所述第一辐射光源21出射的光线照射所述平板40，经所述平板40反射以及所述平板40上的异物散射后射出，出射的光线照射所述第一探测单元，所述第一探测单元接收光线进行分析(所述平板40下侧的检测光路同上)。但上述检测装置在检测透过率较高的掩膜时，由于各元器件之间的相互反射(比如所述第一探测器23的面和所述第二探测器33的面之间)及平板40上异物的散射等，上下侧的反射光线相互干扰，严重影响到探测信号的信噪比，从而影响检测准确性。

技术实现要素：

本发明提供了一种用于平板双面异物检测的装置，用以解决目前的检测装置用于透过率较高的平板双面检测时，两侧的反射光线相互干扰降低检测准确性的问题。

为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是：

一种用于平板双面异物检测的装置，包括用于承载平板的载物台，和分设在所述载物台两侧的检测设备，所述检测设备包括沿光线传播方向依次设置在所述载物台一侧的第一辐射光源、第一拦光装置和第一探测单元，以及沿光线传播方向依次设置在所述载物台另一侧的第二辐射光源、第二拦光装置和第二探测单元，所述第一辐射光源出射的光线照射在所述平板的一个表面，经平板的表面反射，入射至所述第一拦光装置，经所述第一拦光装置筛选，入射至所述第一探测单元，所述第二辐射光源出射的光线照射在所述平板的另一个表面，经平板的表面反射，入射至所述第二拦光装置，经所述第二拦光装置筛选，入射至所述第二探测单元，所述第一辐射光源和所述第二辐射光源产生的光线具有不同的波长。

作为优选，所述第一拦光装置为第一滤波片，接收与所述第一辐射光源出射光线波长相同的光线。

作为优选，所述第二拦光装置为第二滤波片，接收与所述第二辐射光源出射光线波长相同的光线。

作为优选，所述第一探测单元包括沿光线传播方向依次设置的第一成像单元和第一探测器，光线经过所述第一成像单元成像，所述第一探测器接收成像并进行分析。

作为优选，所述第二探测单元包括沿光线传播方向依次设置的第二成像单元和第二探测器，光线经过所述第二成像单元成像，所述第二探测器接收成像并进行分析。

作为优选，所述第一辐射光源可以采用激光器、氙灯等。

作为优选，所述第二辐射光源可以采用激光器、氙灯等。

作为优选，所述第一辐射光源和所述第二辐射光源关于所述载物台对称设置，所述第一拦光装置和所述第二拦光装置关于所述载物台对称设置，所述第一探测单元和所述第二探测单元关于所述载物台对称设置。

本发明所述用于平板双面异物检测的装置在对平板两侧同时进行检测时，能够消除平板两侧光路之间的串扰，提高信噪比，进而可以提高检测的准确性。

本发明还提供了一种光刻机，包括颗粒检测设备，所述颗粒检测设备为上述用于平板双面异物检测的装置。

附图说明

图1是现有技术中用于对平板进行双面检测的检测装置的结构示意图；

图2是本发明一具体实施例的用于平板双面异物检测的装置的结构示意图。

图1中所示：10-载物台、21-第一辐射光源、22-第一成像单元、23-第一探测器、31-第二辐射光源、32-第二成像单元、33-第二探测器、40-平板；

图2中所示：10-载物台、21-第一辐射光源、22-第一滤波片、23-第一成像单元、24-第一探测器、31-第二辐射光源、32-第二滤波片、33-第二成像单元、34-第二探测器、40-平板。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。需说明的是，本发明附图均采用简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

请参见图2，一种用于平板双面异物检测的装置，包括载物台10和对称分设在所述载物台两侧的两组检测设备，定义设置在所述载物台10上侧的检测设备为第一检测设备，定义设置在所述载物台10下侧的检测设备为第二检测设备。所述第一检测设备包括第一辐射光源21、第一拦光装置和第一探测单元，所述第一辐射光源21出射的光线经第一拦光装置滤波后被第一探测单元接收，所述第二检测设备包括第二辐射光源31、第二拦光装置和第二探测单元，所述第二辐射光源31出射的光线经第二拦光装置滤波后被第二探测单元接收，所述第一辐射光源21和所述第二辐射光源31用于产生具有不同波长的光线。

所述第一辐射光源21可以采用激光器、氙灯等，所述第二辐射光源31可以采用激光器、氙灯等。

所述第一拦光装置为第一滤波片22，所述第一滤波片22接收与所述第一辐射光源21出射光线波长相同的光线；所述第二拦光装置为第二滤波片32，所述第二滤波片32接收与所述第二辐射光源31出射光线波长相同的光线。

所述第一探测单元包括沿光线传播方向依次设置的第一成像单元23和第一探测器24，光线经过所述第一成像单元23成像，所述第一探测器24接收成像并进行分析；所述第二探测单元包括沿光线传播方向依次设置的第二成像单元33和第二探测器34，光线经过所述第二成像单元33成像，所述第二探测器34接收成像并进行分析。

平板40设置在所述载物台10上，调整所述检测设备在所述平板40两侧的位置，以所述平板40上侧的检测光路来说明，所述第一辐射光源21出射的光线照射在所述平板40上，经所述平板40反射以及所述平板40上的异物散射后射出，部分光线照射在所述第一滤波片22上，经过所述第一滤波片22滤波后照射在所述第一成像单元23上，经所述第一成像单元23成像，所述第一探测器24接收成像并进行检测，所述平板40下侧的检测光路与上侧的检测光路相同，调整所述检测设备的位置，实现所述平板40的上下表面全部检测。

当所述平板40的透明度较高时，在所述平板40的上侧，所述第一辐射光源21产生的光线经异物散射，以及所述第一辐射光源21产生的光线经上下侧各元器件的反射，部分光线向所述平板40的下侧射出，经过所述第二滤波片32时，所述第二滤波片32对不同波长的光线进行过滤，消除了该部分光线对所述平板40下侧的检测光路的干扰，同理，所述平板40的下侧，所述第二辐射光源31产生的光线不会对所述平板40上侧的检测光路造成干扰，提高了检测的准确性。

一种光刻机，包括颗粒检测设备，所述颗粒检测设备为所述用于平板双面异物检测的装置，采用所述平板双面异物检测的装置对掩膜版、硅片或玻璃基板在曝光前异物检测，检测的准确性高。