一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置的制作方法

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一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置的制造方法

本发明涉及针刺毡领域,尤其涉及一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置。



背景技术:

针刺毡不仅具有玻纤织物耐高温、耐腐蚀、尺寸稳定、伸长收缩率极小、强度高的优点,而且毡层纤维呈单纤维,三维微孔结构,孔隙率高,对气体过滤阻力小,是一种较高速、高效的高温过滤材料。与其它的耐高温化纤毡相比,其具有价格低、耐温更高等特殊优点,但其运行阻力高于一般化纤高温滤材。

在现有的脱蜡染化装置中,大多数的染化装置在染化过程中,不方便对针刺毡进行很好的限位,防止脱落,且在染化后,染化装置的内壁上常常沾有染料,导致不好清洗的现象,为此我们设计出了一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置来解决以上问题。



技术实现要素:

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置,包括染化池,所述染化池的顶部两侧均设置有固定架,所述固定架的顶部之间连接有固定板,所述固定板的顶部设置有液压气缸,所述液压气缸的输出端连接有竖直向下的伸缩杆,所述伸缩杆的底部设置有连接架,所述连接架的两侧底部均设置有驱动杆,两个所述驱动杆的底部均连接有清扫刷,所述染化池的中部设置有固定杆,所述固定杆的外侧套接有滚筒,所述固定杆的两侧均设置有相对平行的安装槽,两组所述安装槽的内部均安装有调节杆,两个所述调节杆之间连接有限位杆,所述调节杆靠近安装槽的一侧设置有均匀分布的定位孔,所述安装槽的顶部设置有与定位孔相适配的安装孔,所述安装孔的内部安装有锁紧销,所述锁紧销的顶部设置有锁紧旋钮。

优选的,所述安装孔的内部与锁紧销的外部设置有相适配的螺纹。

优选的,所述清扫刷的一侧设置有刷毛,所述刷毛的一侧与染化池的内壁相接触。

优选的,两个所述清扫刷均与半圆形结构。

优选的,所述驱动马达的输出端与附近电源电性连接。

优选的,所述染化池的顶部两侧均设置有转动环。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明中,两个驱动杆的底部均连接有清扫刷的设计,有利于对染化池内壁上的染料进行来回刷洗,调节杆靠近安装槽的一侧设置有均匀分布的定位孔的设计,有利于让限位杆根据针刺毡的高度进行调节限位,防止对针刺毡染化时滑落,染化池的顶部两侧均设置有转动环的设计,有利于对针刺毡的两侧进行放置,该发明整体结构简单,能够根据针刺毡的高度进行调节限位,且能够在染化后清洗非常快捷方便,便于下次使用。

附图说明

图1为本发明提出的一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置的结构示意图;

图2为本发明提出的一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置的固定杆的结构示意图。

图中:1染化池、2清扫刷、3固定架、4固定板、5液压气缸、6伸缩杆、7固定杆、8滚筒、9限位杆、10调节杆、11定位孔、12锁紧旋钮、13安装槽、14连接架、15驱动杆。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-2,一种用于生产针刺毡的脱蜡染化装置,包括染化池1,染化池1的顶部两侧均设置有固定架3,固定架3的顶部之间连接有固定板4,固定板4的顶部设置有液压气缸5,液压气缸5的输出端连接有竖直向下的伸缩杆6,伸缩杆6的底部设置有连接架14,连接架14的两侧底部均设置有驱动杆15,两个驱动杆15的底部均连接有清扫刷2,染化池1的中部设置有固定杆7,固定杆7的外侧套接有滚筒8,固定杆7的两侧均设置有相对平行的安装槽13,两组安装槽13的内部均安装有调节杆10,两个调节杆10之间连接有限位杆9,调节杆10靠近安装槽13的一侧设置有均匀分布的定位孔11,安装槽的顶部设置有与定位孔11相适配的安装孔,安装孔的内部安装有锁紧销,锁紧销的顶部设置有锁紧旋钮12,安装孔的内部与锁紧销的外部设置有相适配的螺纹,清扫刷2的一侧设置有刷毛,刷毛的一侧与染化池1的内壁相接触,两个清扫刷2均与半圆形结构,驱动马达5的输出端与附近电源电性连接,染化池1的顶部两侧均设置有转动环。

工作原理:在使用时,通过两个驱动杆15的底部均连接有清扫刷2的设计,可以通过液压气缸5驱动伸缩杆进行拉伸或收缩,间接带动清扫刷2对染化池1内壁上的染料进行来回刷洗,调节杆10靠近安装槽13的一侧设置有均匀分布的定位孔11的设计,可以让限位杆9根据针刺毡的高度进行调节限位,防止对针刺毡染化时滑落,染化池1的顶部两侧均设置有转动环的设计,可以对针刺毡的两侧进行放置,该发明整体结构简单,能够根据针刺毡的高度进行调节限位,且能够在染化后清洗非常快捷方便,便于下次使用。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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