1.一种基于外置耦合光栅谐振腔的高精度测量装置，其特征在于：包括光源（1）、第一光纤（2）、光学光谱分析仪（3）、第二光纤（4）、纳米锥形光学光纤（5）、外置耦合光栅（6）；
其中，纳米锥形光学光纤（5）的一端通过第一光纤（2）与光源（1）的输出端连接，另一端通过第二光纤（4）与光学光谱分析仪（3）的输入端连接；外置耦合光栅（6）水平镶嵌于纳米锥形光学光纤（5）的下侧，且外置耦合光栅（6）的中心光腔对应于纳米锥形光学光纤（5）的腰部中央；
所述外置耦合光栅（6）包括基底、第一外置耦合光栅（9）、第二外置耦合光栅（10）、第三外置耦合光栅（11）、第四外置耦合光栅（12）、第五外置耦合光栅（13）；
其中，第一外置耦合光栅（9）、第二外置耦合光栅（10）、第三外置耦合光栅（11）、第四外置耦合光栅（12）、第五外置耦合光栅（13）由左向右依次排列于基底的上表面中央；
第一外置耦合光栅（9）为无缺陷的光栅；第二外置耦合光栅（10）、第三外置耦合光栅（11）、第四外置耦合光栅（12）、第五外置耦合光栅（13）均为有缺陷的光栅；
基底的长度（14）为15mm、宽度（15）为12mm、厚度（16）为2mm；
第一外置耦合光栅（9）的狭板宽度（17）为50nm、光栅周期（18）为330nm、支撑板宽度（19）为0.25mm、光栅长度（20）为1mm、凹槽宽度（21）为305nm、凹槽深度（22）为2μm、狭板数（23）为300；
第二外置耦合光栅（10）的狭板宽度（24）为50nm、光栅周期（25）为340nm、支撑板宽度（26）为0.25mm、光栅长度（27）为1mm、凹槽宽度（28）为510nm、凹槽深度（29）为2μm、左部狭板数（30）为75、右部狭板数（31）为75；
第三外置耦合光栅（11）的狭板宽度（32）为50nm、光栅周期（33）为300nm、支撑板宽度（34）为0.25mm、光栅长度（35）为1mm、凹槽宽度（36）为450nm、凹槽深度（37）为2μm、左部狭板数（38）为100、右部狭板数（39）为100；
第四外置耦合光栅（12）的狭板宽度（40）为50nm、光栅周期（41）为340nm、支撑板宽度（42）为0.25mm、光栅长度（43）为1mm、凹槽宽度（44）为510nm、凹槽深度（45）为2μm、左部狭板数（46）为125、右部狭板数（47）为125；
第五外置耦合光栅（13）的狭板宽度（48）为50nm、光栅周期（49）为320nm、支撑板宽度（50）为0.25mm、光栅长度（51）为1mm、凹槽宽度（52）为495nm、凹槽深度（53）为2μm、左部狭板数（54）为165、右部狭板数（55）为165。
2.根据权利要求1所述的一种基于外置耦合光栅谐振腔的高精度测量装置，其特征在于：所述基底为石英基底；所述第一外置耦合光栅（9）、第二外置耦合光栅（10）、第三外置耦合光栅（11）、第四外置耦合光栅（12）、第五外置耦合光栅（13）均为二氧化硅材料。