技术特征：
技术总结
本发明涉及一种在透明玻璃基底上镀金属膜并用聚焦离子束方法刻蚀百纳米尺寸通孔的光学高分辨率测试靶的制造方法。其特征在于：使用磁控溅射或电子束蒸发镀膜技术在合适厚度的玻璃基底上镀一层合适厚度的金属膜，将该结构放置入聚焦离子束设备时使用导电胶带将金属膜与设备样品台相粘接，然后设计合理的刻蚀通孔及图案排布，使用聚焦离子束在非目标区刻蚀，通过设备自带的扫描电子显微镜进行成像，判断是否刻蚀通透以调整离子束参数，再在目标区刻蚀。这种方法有效地解决了绝缘基底结构影响聚焦离子束刻蚀的问题，并可获得稳定性状的百纳米尺寸通孔用于光学高分辨率成像系统标定。
技术研发人员：谢虔;汪林俊;章维勇;苑震生
受保护的技术使用者：中国科学技术大学
技术研发日：2018.05.23
技术公布日：2018.10.19