对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测的制作方法

文档序号:17850277发布日期:2019-06-11 22:08阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
在常规的相衬X射线成像系统中,源光栅G0生成照射对象的部分相干线源的阵列以及在该阵列之后的相位光栅G1。该相位光栅的周期性在更远离X射线源的某些情况下自成像,并且在由常规的X射线探测器探测到解调的条纹强度之前由能机械移动的第三吸收分析器光栅G2进行采样。本申请提出使用结构化闪烁体并结合电子信号读出方法直接解调条纹强度,该结构化闪烁体具有与光学探测器层的子像素对齐的多个平板。因此,能够从相衬X射线成像系统中省略能机械移动的第三吸收分析器光栅G2。

技术研发人员:R·斯特德曼布克;E·勒斯尔;W·吕腾
受保护的技术使用者:皇家飞利浦有限公司
技术研发日:2018.08.13
技术公布日:2019.06.07
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