技术特征：
1.一种用于分析基板处的样本的系统，所述系统包括：光源，用于生成第一光；以及空间光调制器，用于从所述第一光形成第二光，其中，所述基板包括至少一个传感器，所述至少一个传感器用于检测基于所述第二光所发射的发射物，其中，在所述基板处，所述第二光形成基于所述至少一个传感器选择的形状，其中，所述第二光照射所述基板对应于所述形状的区域。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述空间光调制器是透射空间光调制器。3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述空间光调制器是反射空间光调制器。4.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述空间光调制器是幅度空间光调制器。5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述幅度空间光调制器包括可定向的反射镜，并且其中，所述幅度空间光调制器至少定向所述反射镜中的第一反射镜以形成所述第二光。6.根据权利要求5所述的系统，还包括光束收集器，其中，所述幅度空间光调制器至少定向所述反射镜中的第二反射镜以将第三光引导到所述光束收集器处，所述第三光是所述第一光的一部分。7.根据权利要求1-3中任一项所述的系统，其中，所述空间光调制器是相位空间光调制器。8.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述基板的区域包括多边形。9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述第二光照射所述基板的多个区域，所述多个区域中的每一个是多边形区域。10.根据权利要求1-7中任一项所述的系统，其中，所述基板的区域包括椭圆。11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述第二光照射所述基板的多个区域，所述多个区域中的每一个是椭圆形区域。12.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述第二光照射所述基板的多个区域。13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述多个区域中的至少两个具有彼此不同的形状。14.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述传感器包括互补金属氧化物半导体设备。15.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述基板包括用于所述样本的流动池。16.根据权利要求15所述的系统，其中，所述基板包括由所述流动池覆盖的多个传感器。17.根据权利要求15所述的系统，其中，所述基板包括多个流动池。18.根据权利要求17所述的系统，其中，所述基板包括多个传感器，并且其中，所述多个流动池中的每一个至少覆盖所述多个传感器中的对应的一个。19.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述基板还包括与所述传感器相关的标识符，其中，所述系统检测所述基板处的所述标识符，并且其中，基于所检测到的标识符来选择所述形状。
20.根据权利要求19所述的系统，其中，所述标识符包括射频识别标签或视觉代码中的至少一个。21.根据前述权利要求中任一项所述的系统，其中，所述发射物包括荧光。22.一种方法，包括：将第一光引导到被配置用于分析基板处的样本的系统中的空间光调制器处，其中所述基板包括至少一个传感器；控制所述空间光调制器以从所述第一光形成第二光；将所述第二光引导到所述基板处，其中，所述第二光照射所述基板具有基于所述至少一个传感器选择的形状的区域；以及检测基于所述第二光所发射的发射物。23.根据权利要求22所述的方法，其中，所述空间光调制器是幅度空间光调制器，其中，所述幅度空间光调制器包括可定向的反射镜，并且其中，控制所述幅度空间光调制器以形成所述第二光包括定向所述反射镜中的至少第一反射镜。24.根据权利要求23所述的方法，其中，所述第一反射镜被定向以呈现至少两种状态中的一种状态。25.根据权利要求23-24中任一项所述的方法，还包括将所述反射镜中的至少第二反射镜定向为将第三光引导到光束收集器处，所述第三光是所述第一光的一部分。26.根据权利要求22所述的方法，其中，所述空间光调制器是相位空间光调制器，并且其中，控制所述相位空间光调制器以形成所述第二光包括改变所述第二光的强度分布或辐照度分布。27.根据权利要求26所述的方法，其中，改变所述强度分布或所述辐照度分布包括将所述第二光从照射所述基板的多个区域改变为照射少于所述多个区域的至少一个区域，并且其中，在所述至少一个区域中亮度增加。28.根据权利要求22至27中任一项所述的方法，其中，所述第二光照射所述基板的多个区域。29.根据权利要求28所述的方法，其中，所述多个区域中的至少两个区域具有彼此不同的形状。30.根据权利要求22至29中任一项所述的方法，其中，所述基板还包括与所述传感器相关的标识符，所述方法还包括由所述系统检测所述基板处的所述标识符，并且其中，基于所检测到的标识符来选择所述形状。31.根据权利要求30所述的方法，其中，检测所述标识符包括从射频识别标签接收信号或读取视觉代码中的至少一个。32.根据权利要求22至31中任一项所述的方法，还包括：提供关于所述第二光的实时反馈；以及使用所述实时反馈控制所述空间光调制器。33.根据权利要求32所述的方法，其中，提供所述实时反馈包括：创建所述第二光的成像图案的逆元；以及将所述逆元与在所述基板处获得的成像相乘。34.根据权利要求22-33中任一项所述的方法，其中所述发射物包括荧光。
技术总结
一种用于分析基板处的样本的系统包括：光源，用于生成第一光；以及空间光调制器，用于从第一光形成第二光，其中，基板包括至少一个传感器，至少一个传感器用于检测基于第二光所发射的发射物，其中，在基板处，第二光形成基于至少一个传感器选择的形状，其中，第二光照射基板对应于该形状的区域。板对应于该形状的区域。板对应于该形状的区域。
技术研发人员：S.普林斯 K.福恩西里 冯文毅
受保护的技术使用者：亿明达股份有限公司
技术研发日：2022.04.07
技术公布日：2022/10/17