一种离子敏场效应晶体管型pH传感器及其制备方法

文档序号:32445693发布日期:2022-12-07 00:02阅读:107来源:国知局
一种离子敏场效应晶体管型pH传感器及其制备方法
一种离子敏场效应晶体管型ph传感器及其制备方法
技术领域
1.本发明属于传感器领域,具体涉及一种离子敏场效应晶体管型ph传感器及其制备方法。


背景技术:

2.由于ph值在化学制药、生产农业、食品加工、环境科学、生物医学等领域的中心地位,电化学ph传感器吸引了研究人员的注意,它的响应速度快(《10秒)、ph传感范围较宽(2~12)、灵敏度高(接近59.12mv/ph的能斯特响应)、良好的生物相容性、低制造成本,在食品加工、健康监测、水质监测等领域应用广泛,且具有良好的发展前景。
3.isfet(离子敏场效应晶体管)是一种电位测量装置,其工作原理类似于金属氧化场效应半导体晶体管(mosfet)。1970年bergveld首次研究了isfet,通过去掉mosfet的栅极,用sio2和参比电极替代形成新的栅极,测试结果表明源极和漏极电流与响应离子的浓度呈线性关系。自此开启了isfet的研究。
4.isfet型ph传感器相比于传统的ph传感器而言,具有多方面的优势,在耐用性、快速性、精确性、灵敏度、微型化等方面更具优势。近年来,研究发现用于在栅极上制作离子敏感层的材料种类繁多,其中有陶瓷、有机物、聚合物、金属氧化物等。而基于金属氧化物的isfet型ph传感器无疑是研究热点。
5.对于isfet型ph传感器来说,敏感层材料的选择直接决定着传感器的检测灵敏度,同时isfet型ph传感器存在漂移和滞后等问题。研究发现,掺杂金属氧化物的ph传感器具有更好的稳定性、灵敏度、较长的寿命、较低的电位漂移,并且不易受其他离子的影响。


技术实现要素:

6.本发明的目的是提供一种离子敏场效应晶体管型ph传感器及其制备方法,尤其是一种基于ruo
2-ta2o5的离子敏场效应晶体管型ph传感器及其制备方法。
7.ruo2是一种混合电子离子导体,具有高导电性、ph敏感性、选择性、化学和热稳定性等优点,但是价格昂贵,为了降低基于ruo2的离子敏场效应晶体管型ph传感器的成本并改善其传感性能,可掺杂ta2o5等金属氧化物材料,ta2o5具有高灵敏、低漂移和较低的氧化导致的表面劣化等优点。
8.本发明的目的可以通过以下技术方案来实现:一种离子敏场效应晶体管型ph传感器,包括衬底、绝缘层、敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层、漏电极以及源电极,所述绝缘层紧贴衬底上表面,绝缘层上表面设有有源层,有源层上表面设有漏电极和源电极,且漏电极和源电极互不接触;有源层、漏电极和源电极通过环氧树脂封装形成传感器槽。
9.进一步地,所述衬底包括硅衬底或锗衬底,厚度为0.3~1.3mm。
10.进一步地,所述绝缘层为sio2,厚度为50~300nm。
11.进一步地,所述有源层的敏感膜由金属氧化物ruo2和ta2o5组成,有源层的厚度为30~200nm。
12.进一步地,所述漏电极和源电极为叉指电极,叉指电极的材料为ti/au,电极厚度为60~600nm。
13.本发明还提供一种离子敏场效应晶体管型ph传感器的制备方法,具体制备过程为:
14.步骤(1):清洗衬底;
15.步骤(2):采用化学气相沉积法在衬底表面形成sio2绝缘层;
16.步骤(3):将采用球磨法制备的ruo2和ta2o5混合物粉末涂覆在sio2绝缘层表面得到敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层;在有源层上涂一层光刻胶;
17.步骤(4):在光刻胶上曝光形成漏电极和源电极掩膜;
18.步骤(5):采用电子束蒸镀法沉积ti/au,形成漏电极和源电极;
19.步骤(6):敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层、漏电极和源电极通过环氧树脂封装形成传感器槽,得到基于ruo
2-ta2o5敏感膜的离子敏场效应晶体管型ph传感器。
20.进一步地,有源层的敏感膜ruo
2-ta2o5的涂覆方法包括溅射或化学气相沉积。
21.进一步地,敏感膜中ruo2和ta2o5的重量比为10:90~90:10。
22.更进一步地,敏感膜中ruo2和ta2o5的重量比为30:70~60:40。
23.本发明的离子敏场效应晶体管型ph传感器工作原理为:敏感膜ruo
2-ta2o5和ag/agcl参比电极代替导电介质做栅极与溶液界面产生膜电位,引起场效应管漏电流的变化,根据能斯特方程,产生h
+
的响应。
24.与现有技术相比,本发明具有以下优点:
25.1、本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器采用敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层,具有高敏感性、低漂移等优点,同时金属氧化物ruo2和ta2o5的掺杂使ph传感器制造成本降低;
26.2、本发明为离子敏场效应晶体管型ph传感器,相比传统的离子选择性电极,具有响应时间快、输入阻抗高、输出阻抗低、兼有信号放大功能,可采用集成电路工艺,适于批量生产;
27.3、本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器可应用于食品质量检测、环境监测、生物化学等领域,具有广阔的应用前景;
28.4、本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器相较许多传感器体积大的缺陷,易于微型化,可结合电路工艺和微加工技术,实现多种离子和多功能器件的集成化;
29.5、本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器结构方面采用全固态结构,强度大、耐腐蚀性强、稳定性强,适用范围广;
30.6、本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器相较其他ph传感器,具有快速响应、低滞后效应和优异灵敏度,更重要的是在长期应用过程中具有更长的使用寿命。
附图说明
31.图1为本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器的结构示意图;
32.图2为本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器的工作原理示意图;
33.图3为本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器的制作流程示意图;
34.图中标识为1:衬底;2:绝缘层;3:有源层;4:漏电极;5:源电极;6:ag/agcl参比电极。
具体实施方式
35.下面将结合附图和实施例对本发明进行详细说明。需要指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变化和改进。这些都属于本发明的保护范围。
36.以下实施例中所使用的试剂皆为市售试剂。以下实施例中所使用的设备皆为市售设备。
37.实施例1
38.参见图1,本发明离子敏场效应晶体管型ph传感器的结构示意图,包括衬底1、绝缘层2、敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层3、漏电极4以及源电极5,其中,有源层3、漏电极4和源电极5通过环氧树脂封装形成传感器槽。具体制备流程参见图3:
39.步骤(1):清洗衬底1,衬底厚度为0.3~1.3mm;
40.步骤(2):采用化学气相沉积法在衬底1表面形成sio2绝缘层2;
41.向850~1100℃的反应室内通入四氯化硅气体、氢气以及氧气,经化学反应后,再采用等离子或激光辅助技术降低沉积温度,使衬底1表面形成sio2绝缘层2,厚度为50~300nm;
42.步骤(3):将采用球磨法制备的ruo2和ta2o5混合物粉末涂覆在sio2绝缘层2表面得到敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层3;
43.首先将步骤(2)制得的表面为sio2绝缘层2的衬底1放在磁控溅射系统直流电源的阳极上,再把要在衬底上生成敏感膜的原材料ruo2和ta2o5混合物粉末作为溅射靶材放在磁控溅射系统的阴极上,随后,将系统的工作腔体压力抽到真空1.0pa下,在ar/o2气体比为10:0~8:2时,操控系统使阴阳两极通电,在100w的功率下进行,形成敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层3,厚度为30~200nm;在有源层3上旋涂一层s1800系列光刻胶,其厚度为5~15μm,并在65℃下烘干,即在有源层3上形成厚度均匀、附着性强、没有缺陷的光刻胶薄膜;
44.步骤(4):对步骤(3)制得的光刻胶薄膜进行曝光、去胶得到漏电极和源电极掩膜;
45.步骤(5):采用电子束蒸镀法沉积ti/au,经过剥离后得到漏电极和源电极;
46.打开冷却水系统,开机械泵,在5pa时,对漏电极和源电极掩膜表面进行离子轰洗5~10min,设置轰击电压为3kv,电流为150ma;在1pa时,对镀膜工作室进行真空抽气,同时在压强低于10-2
pa后接通真空机开关,工作时压强低于6
×
10-3
pa,形成的漏电极4和源电极5的厚度为60~600nm;
47.步骤(6):将敏感膜为ruo
2-ta2o5的有源层3、漏电极4和源电极5通过环氧树脂封装形成传感器槽,即得到基于ruo
2-ta2o5敏感膜的离子敏场效应晶体管型ph传感器。
48.本发明的离子敏场效应晶体管型ph传感器的工作原理参见图2:将待测溶液滴入传感器槽中,将ag/agcl参比电极6固定于传感器的旁边,敏感膜ruo
2-ta2o5和ag/agcl参比电极代替导电介质做栅极与溶液界面产生膜电位,引起场效应管漏电流的变化,根据能斯特方程,产生h
+
的响应,从而评价待测溶液的ph。
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