在叠盖度量中(尤其在使用多晶硅或在UV及可见区域中吸收但在较长波长下透明的另一材料的装置中)提供性能优点。IR允许对底层及图案的较高敏感性且由此可显著增加对上部装置图案的相对叠盖的敏感性。所述计算机子系统可以任何适宜方式确定所述叠盖。
[0058]上述系统实施例中的每一者可经配置以执行本文中所述任何方法的任何步骤。另夕卜，可根据本文中所述的任何其它实施例或系统来配置本文中所述的系统实施例中的每一者。
[0059]另一实施例涉及一种确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性的方法。所述方法包含将光引导到在所述晶片上形成的一或多个结构，这可根据本文中所述的任一实施例来执行。所述光包含UV光、可见光及IR光。所述一或多个结构包含至少一个HAR结构或至少一个大横向尺寸结构。可如本文中所述般进一步配置光及所述结构。
[0060]所述方法还包含产生响应于来自所述一或多个结构的光(归因于引导到所述一或多个结构的光)的输出，这可根据本文中所述的任一实施例来执行。另外，所述方法包含使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性，这可根据本文中所述的任一实施例来执行。
[0061]上述方法的实施例中的每一者可包含本文中所述的任何其它方法的任何其它步骤。另外，可根据本文中所述的任何系统执行上述方法的实施例中的每一者。
[0062]另一实施例涉及一种非暂时性计算机可读媒体，其包含存储于其中的用于致使计算机系统执行计算机实施方法的程序指令，所述计算机实施方法用于确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性。所述计算机可读媒体的一个实施例展示于图6中。特定来说，计算机可读媒体600包含存储于其中的用于致使计算机系统604执行计算机实施方法的程序指令602，所述计算机实施方法用于确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性。
[0063]所述计算机实施方法包含上文相对于所述系统的计算机子系统所述的任何步骤。例如，所述计算机实施方法可包含使用响应于来自所述一或多个结构的光(归因于引导到所述一或多个结构的光)的输出确定一或多个结构的一或多个特性。所述计算机实施方法还可包含本文中所述的任何其它方法的任何其它步骤。另外，可如本文中所述般进一步配置所述计算机可读媒体。
[0064]实施例如本文中所述的方法的程序指令602可存储于计算机可读媒体600上。所述计算机可读媒体可为非暂时性计算机可读存储媒体(例如磁盘或光盘、磁带或此项技术中已知的任何其它适宜的非暂时性计算机可读媒体)。
[0065]可以任何各种方式(包含基于程序的技术、基于组件的技术及/或面向对象的技术等)实施所述程序指令。例如，可使用ActiveX控件、C++对象、JavaBeans、微软基础类(Microsoft Foundat1n Classes) ( “MFC”)或所需的其它技术或方法实施所述程序指令。
[0066]计算机系统604可呈各种形式，包含个人计算机系统、主计算机系统、工作站、图像计算机、并行处理器或此项技术中已知的任何其它装置。通常，术语“计算机系统”可经宽泛定义以涵盖具有一或多个执行来自存储器媒体的指令的处理器的任何装置。
[0067]鉴于本发明描述，所属领域的技术人员将明白本发明的各种方面的其它修改及替代实施例。例如，提供用于高纵横比及大横向尺寸结构的度量系统及方法。因此，本描述应被理解为仅具说明性且其旨在教示所属领域的技术人员实行本发明的一般方式。应理解，本文中所示且所述的本发明的形式应被视作当前优选的实施例。所属领域的技术人员在知晓本发明描述内容的益处后将明白可用元件及材料替代在本文中所述的元件及材料，可颠倒部件及过程，且可独立地使用本发明的某些特征。在不脱离如所附权利要求书所述的本发明的精神及范围的情况下，可对本文中所述的元件进行改变。
【主权项】
1.一种系统，其经配置以确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性，所述系统包括: 照明子系统，其经配置以将光引导到在所述晶片上形成的所述一或多个结构，其中所述光包括紫外光、可见光及红外光，且其中所述一或多个结构包括至少一个高纵横比结构或至少一个大横向尺寸结构； 检测子系统，其经配置以产生响应于归因于引导到所述一或多个结构的所述光而来自所述一或多个结构的光的输出；以及 计算机子系统，其经配置以使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性。
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个高纵横比结构包括由具有不同光学性质的不同材料组成的交替层。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个大横向尺寸结构并非在所述晶片上形成的多个周期结构中的一者。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构具有大于0.5微米的周期。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统包括至少一个激光维持等离子光源。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统经进一步配置以将所述光引导到所述一或多个结构上的光斑，且其中所述光斑具有至少一个小于50微米的横向尺寸。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统经进一步配置以将不同波长的紫外光、可见光及红外光依序引导到所述一或多个结构，且其中所述照明子系统经进一步配置以随引导到所述一或多个结构的所述光的波长变化而改变所述光所引导到的光斑的大小及位置。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明子系统包括在单个衬底上具有第一区域及第二区域的滤光器，其中所述第一区域经配置以在紫外光被所述照明子系统引导到所述一或多个结构时使用，且其中所述第二区域经配置以在红外光被所述照明子系统引导到所述一或多个结构时使用。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于椭圆偏振术。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于光谱椭圆偏振术。
11.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于反射术。
12.根据权利要求1所述的系统，其中所述照明及检测子系统中的至少一者包含切趾元件，且其中所述照明及检测子系统经进一步配置以用于光谱椭圆偏振术、光谱反射术、射束轮廓椭圆偏振术或射束轮廓反射术。
13.根据权利要求1所述的系统，其中所述检测子系统包括经配置以检测来自所述一或多个结构的红外光而非紫外光的第一分光计子系统及经配置以检测来自所述一或多个结构的紫外光而非红外光的第二分光计子系统，其中所述第一及第二分光计的波长范围重叠，且其中所述计算机子系统经进一步配置以使用在重叠的所述波长范围中产生的所述输出来组合来自所述第一及第二分光计的输出。
14.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统经进一步配置以使用响应于来自所述一或多个结构的红外光的所述输出来确定所述至少一个高纵横比结构的底部部分的一或多个特性及使用响应于来自所述一或多个结构的可见及紫外光的所述输出来确定所述至少一个高纵横比结构的顶部部分的一或多个特性。
15.根据权利要求1所述的系统，其中所述计算机子系统经进一步配置以不使用响应于紫外光及可见光的所述输出来确定所述至少一个大横向尺寸结构的所述一或多个特性。
16.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构并非装置结构，且其中所述一或多个结构包括包含在所述装置结构中的一或多个层且具有不同于包含在所述装置结构中的所述一或多个层的厚度。
17.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构包括对所述光的至少一些不透明的材料，且其中所述一或多个特性包括基于所述材料变不透明时的波长确定的所述材料的能带隙及基于所述能带隙确定的所述材料的组成。
18.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构包括对所述光的至少一些不透明的材料，且其中所述一或多个特性包括基于所述材料变不透明时的波长确定的所述材料的能带隙及基于所述能带隙确定的所述一或多个结构的尺寸。
19.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个结构包括在所述晶片的第一层上形成的一或多个第一结构及在所述晶片位于所述第一层下方的第二层上形成的一或多个第二结构，且其中所述一或多个特性包括所述一或多个第一结构相对于所述一或多个第二结构的叠盖。
20.一种用于确定在晶片上形成的一或多个结构的一或多个特性的方法，其包括: 将光引导到在所述晶片上形成的所述一或多个结构，其中所述光包括紫外光、可见光及红外光，且其中所述一或多个结构包括至少一个高纵横比结构或至少一个大横向尺寸结构； 产生响应于归因于引导到所述一或多个结构的所述光而来自所述一或多个结构的光的输出；以及 使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性。
【专利摘要】本发明提供用于高纵横比及大横向尺寸结构的各种度量系统及方法。一种方法包含将光引导到在晶片上形成的一或多个结构。所述光包含紫外光、可见光及红外光。所述一或多个结构包含至少一个高纵横比结构或至少一个大横向尺寸结构。所述方法还包含产生响应于归因于引导到所述一或多个结构的所述光而来自所述一或多个结构的光的输出。另外，所述方法包含使用所述输出确定所述一或多个结构的一或多个特性。
【IPC分类】H01L21-66, G01N21-17, G01B11-24
【公开号】CN104781650
【申请号】CN201380060029
【发明人】撒迪厄斯·吉拉德·奇乌拉, 刘学峰, 戴维·Y·王, 乔·马德森, 亚历山大·库兹涅佐夫, 乔汉斯·D·迪·维尔, 桑卡·克里许南, 德里克·萨乌夫尼斯, 安德烈·谢卡格罗瓦
【申请人】科磊股份有限公司
【公开日】2015年7月15日
【申请日】2013年10月24日
【公告号】US8860937, WO2014066679A1