一种光学元件损伤阈值测量装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种光学元件损伤阈值多样片对比测量装置。
【背景技术】
[0002]随着激光技术的快速发展，激光技术得以广泛应用，所需的光学元件损伤阈值要求也越来越高，而且对光学元件损伤阈值的测量准确度要求也越来越高，这其中就需要用到光学元件的损伤阈值测量装置。
[0003]对光学元件的损伤阈值测量，传统的方法是一次只能测量一件样片，若要对比不同样片需要经过多次测量方可完成，这就导致了测量误差，导致损伤阈值对比的不准确。
【实用新型内容】
[0004]针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种光学元件损伤阀值测量装置，可以同比测量多个样片，便于不同样片的对比。
[0005]为了达到上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0006]—种光学元件损伤阀值测量装置包括:激光器，所述激光器发出激光光束，沿激光光束的发射方向设置有轨道，在所述轨道上由近至远依次设置有透镜和测量架，所述测量架包括有滑轮底座，所述滑轮底座沿轨道移动，滑轮底座上方设置有垂直于轨道延伸方向的刻度轴，所述刻度轴上设置有滑动座，所述滑动座沿刻度轴移动，滑动座上方设置有测试夹具，待测光学样片沿垂直与轨道延伸方向排列并安装在所述测试夹具上。
[0007]进一步，所述透镜安装在透镜架上，所述透镜架沿所述轨道移动。
[0008]使用时，激光器发出激光光束，激光光束穿过透镜后汇聚在待测光学样片上进行测量，移动滑动座，依次对多个样片进行测量。测试夹具为现有的夹具，可以测量任意角度样片的损伤阀值。
[0009]本实用新型的一种光学元件损伤阀值测量装置，通过测量架可测试任意角度样片的损伤阈值，在此基础上还可同时测量多个样片，以此测量出样片的损伤阈值，及同比对比不同样片的损伤阈值。
【附图说明】
[0010]图1为本实用新型一种光学元件损伤阀值测量装置的结构示意图；
[0011]图2为图1中测量架的示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图，详细说明本实用新型的【具体实施方式】。
[0013]如图1和图2所示为本实用新型一种光学元件损伤阀值测量装置的具体实施例，在本实施例中具体包括:激光器1、轨道2、透镜3和测量架；其中，激光器I发出平行的激光光束，沿激光光束的发射方向设置有轨道2，在轨道2上由近至远依次设置有透镜3和测量架，透镜3安装在透镜架8上，透镜架8能够沿轨道2移动，测量架包括有滑轮底座4，滑轮底座4沿轨道2移动，滑轮底座4上方设置有垂直于轨道2延伸方向的刻度轴5，刻度轴5上设置有滑动座6，滑动座6沿刻度轴5移动，滑动座6上方设置有测试夹具7，待测光学样片9沿垂直与轨道I延伸方向排列并安装在测试夹具7上，参考图2。
[0014]使用时，激光器I发出激光光束，激光光束穿过透镜3后汇聚在待测光学样片9上进行测量，移动滑动座6，依次对多个样片9进行测量。测试夹具7为现有的夹具，可以测量任意角度样片9的损伤阀值。
[0015]本实用新型的一种光学元件损伤阀值测量装置，通过测量架可测试任意角度样片的损伤阈值，在此基础上还可同时测量多个样片，以此测量出样片的损伤阈值，及同比对比不同样片的损伤阈值。
[0016]上述示例只是用于说明本实用新型，本实用新型的实施方式并不限于这些示例，本领域技术人员所做出的符合本实用新型思想的各种【具体实施方式】都在本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种光学元件损伤阀值测量装置，其特征在于，该测量装置包括:激光器，所述激光器发出激光光束，沿激光光束的发射方向设置有轨道，在所述轨道上由近至远依次设置有透镜和测量架，所述测量架包括有滑轮底座，所述滑轮底座沿轨道移动，滑轮底座上方设置有垂直于轨道延伸方向的刻度轴，所述刻度轴上设置有滑动座，所述滑动座沿刻度轴移动，滑动座上方设置有测试夹具，待测光学样片沿垂直与轨道延伸方向排列并安装在所述测试夹具上。2.如权利要求1所述测量装置，其特征在于，所述透镜安装在透镜架上，所述透镜架沿所述轨道移动。
【专利摘要】本实用新型公开了一种光学元件损伤阀值测量装置包括：激光器，所述激光器发出激光光束，沿激光光束的发射方向设置有轨道，在所述轨道上由近至远依次设置有透镜和测量架，所述测量架包括有滑轮底座，所述滑轮底座沿轨道移动，滑轮底座上方设置有垂直于轨道延伸方向的刻度轴，所述刻度轴上设置有滑动座，所述滑动座沿刻度轴移动，滑动座上方设置有测试夹具，待测光学样片沿垂直与轨道延伸方向排列并安装在所述测试夹具上。本实用新型的一种光学元件损伤阀值测量装置，通过测量架可测试任意角度样片的损伤阈值，在此基础上还可同时测量多个样片，以此测量出样片的损伤阈值，及同比对比不同样片的损伤阈值。
【IPC分类】G01M11/02
【公开号】CN204882037
【申请号】CN201520459524
【发明人】刘景峰
【申请人】北京奇峰蓝达光学科技发展有限公司
【公开日】2015年12月16日
【申请日】2015年6月30日