一种抛光磨料研磨活化装置的制作方法

本实用新型涉及光学元件冷加工技术领域，尤其涉及一种抛光磨料研磨活化装置。

背景技术：

随着光学系统对光学元件的面形精度、表面粗糙度、激光损伤阈值、亚表面损伤等技术要求的日益提高，对光学元件冷加工所使用的抛光磨料要求也越来越高。抛光磨料在光学元件冷加工过程中作为辅料，可对加工表面进行细微切削，要求抛光磨料的粒度分布均匀、化学性质稳定。目前的抛光磨料存在以下问题：1.粒度分布不均，对光学元件表面的切削不均匀，产生表面及亚表面损伤，降低光学元件的表面粗糙度精度；2.在冷加工过程中会发生团聚、结块等不良现象，造成加工表面产生宽度大的深划痕；3.抛光磨料的形状不规则、棱角过于锐利，在加工表面产生表面裂纹，磨削效率不稳定；由于存在上述问题，目前的抛光磨料不能满足在超光滑抛光、超微损伤抛光等技术领域中的使用要求。

技术实现要素：

针对现有技术缺陷，本实用新型提供一种抛光磨料研磨活化装置，对抛光磨料进行研磨活化处理，使抛光磨料粒度更小、分布更加均匀、化学性质更稳定、悬浮性能更好，并使抛光磨料在进入抛光前就得到活化，解决现有抛光磨料粒度分布不均及团聚、结块的问题，降低光学元件表面/亚表面裂纹深度，降低光学元件表面粗糙度。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：

本实用新型提供一种抛光磨料研磨活化装置，其特征是包括：储液罐、搅拌器、输液管、上磨盘、下磨盘、驱动电机、集液槽、出液管、机台、过滤池、输送管、隔离罩；其中，含有抛光磨料的液体储存在储液罐内，储液罐内放置搅拌器，上磨盘设置有进液孔，抛光磨料流经输液管到达上磨盘进液孔后进入上磨盘和下磨盘之间；上磨盘在驱动电机驱动下转动，抛光磨料被上磨盘和下磨盘研磨，下磨盘周围设置集液槽用于收集研磨后的抛光磨料；集液槽连接出液管，出液管末端连接过滤池，过滤池设置有一级过滤网、二级过滤网，过滤池连接输送管。

所述上磨盘设置的进液孔贯穿所述上磨盘的上下表面，所述上磨盘下面中心设置有内齿轮；所述下磨盘固定在机台上，所述下磨盘中心设置有通孔；所述驱动电机的输出端连接有外齿轮，所述驱动电机的输出端通过所述下磨盘中心的通孔，所述外齿轮与所述上磨盘的内齿轮咬合。

所述上磨盘的材料是低膨胀系数的济南青大理石，所述上磨盘为圆形，其直径是1.2米，其厚度是0.12米；所述下磨盘的材料是低膨胀系数的济南青大理石，所述下磨盘为圆形，其直径是1.3米，其厚度是0.15米。

所述过滤池的一级过滤网有五层结构，依次是纱布、无尘棉、纱布、无尘棉、纱布，所述纱布为医用脱脂纱布，所述无尘棉为高级医用脱脂棉；所述过滤池的二级过滤网有七层结构，依次是纱布、无尘棉、纱布、无尘棉、纱布，无尘棉、纱布，所述纱布为医用脱脂纱布，所述无尘棉为高级医用脱脂棉。

本实用新型的工作过程是：含有抛光磨料的液体储存在所述储存罐内，所述搅拌器工作对含有抛光磨料的液体进行搅拌，抛光磨料通过所述输液管输送进入隔离罩内到达所述上磨盘进液孔后，进入所述上磨盘和所述下磨盘之间，所述上磨盘在所述驱动电机驱动下转动，抛光磨料被研磨，所述下磨盘周围的所述集液槽收集研磨后的抛光磨料，通过所述出液管输送到所述过滤池中，抛光磨料经过所述一级过滤网、所述二级过滤网过滤后，通过输送管输出隔离罩到达抛光磨料使用端。

本实用新型的有益效果是：

本实用新型提供一种抛光磨料研磨活化装置，对抛光磨料进行研磨活化处理，使抛光磨料粒度更小、分布更加均匀、化学性质更稳定、悬浮性能更好，并使抛光磨料在进入抛光前就得到活化，解决现有抛光磨料粒度分布不均及团聚、结块的问题，降低光学元件表面/亚表面裂纹深度，降低光学元件表面粗糙度。

附图说明

附图是本实用新型的一种抛光磨料研磨活化装置的结构示意图；

图中零部件及编号：1-储液罐，101-搅拌器，2-输液管，3-上磨盘，301-进液孔，302-内齿轮，4-下磨盘，401-通孔，5-驱动电机，501-外齿轮，6-集液槽，7-出液管，8-机台，9-过滤池，901-一级过滤网，902-二级过滤网，10-输送管，11-隔离罩。

下面结合实施例和附图对本实用新型进行进一步说明。

具体实施方式

如附图，一种抛光磨料研磨活化装置，其特征是包括：储液罐1、搅拌器101、输液管2、上磨盘3、下磨盘4、驱动电机5、集液槽6、出液管7、机台8、过滤池9、输送管10、隔离罩11；其中，含有抛光磨料的液体储存在储液罐1内，储液罐1内放置搅拌器101，上磨盘3设置有进液孔301，抛光磨料流经输液管2到达上磨盘进液孔301后进入上磨盘3和下磨盘4之间；上磨盘3在驱动电机5驱动下转动，抛光磨料被上磨盘3和下磨盘4研磨，下磨盘4周围设置集液槽6用于收集研磨后的抛光磨料；集液槽6连接出液管7，出液管7末端连接过滤池9，过滤池设置有一级过滤网901、二级过滤网902，过滤池9连接输送管10。

所述上磨盘3设置的进液孔301贯穿所述上磨盘3的上下表面，所述上磨盘3下面中心设置有内齿轮302；所述下磨盘4固定在机台8上，所述下磨盘4中心设置有通孔401；所述驱动电机5的输出端连接有外齿轮501，所述驱动电机5的输出端通过所述下磨盘4中心的通孔401，所述外齿轮501与所述上磨盘的内齿轮302咬合。

所述上磨盘3的材料是低膨胀系数的济南青大理石，所述上磨盘3为圆形，其直径是1.2米，其厚度是0.12米；所述下磨盘4的材料是低膨胀系数的济南青大理石，所述下磨盘4为圆形，其直径是1.3米，其厚度是0.15米。

所述过滤池9的一级过滤网901有五层结构，依次是纱布、无尘棉、纱布、无尘棉、纱布，所述纱布为医用脱脂纱布，所述无尘棉为高级医用脱脂棉；所述过滤池9的二级过滤网902有七层结构，依次是纱布、无尘棉、纱布、无尘棉、纱布，无尘棉、纱布，所述纱布为医用脱脂纱布，所述无尘棉为高级医用脱脂棉。

本实用新型的工作过程是：含有抛光磨料的液体储存在所述储存罐1内，所述搅拌器101工作对含有抛光磨料的液体进行搅拌，抛光磨料通过所述输液管2输送进入隔离罩11内到达所述上磨盘3进液孔301后，进入所述上磨盘3和所述下磨盘4之间，所述上磨盘3在所述驱动电机5驱动下转动，抛光磨料被研磨，所述下磨盘4周围的所述集液槽6收集研磨后的抛光磨料，通过所述出液管7输送到所述过滤池9中，抛光磨料经过所述一级过滤网901、所述二级过滤网902过滤后，通过输送管10输出所述隔离罩11到达抛光磨料使用端。

以上所述仅为本实用新型实施例，并非因此限定本实用新型的专利范围，凡是利用本说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括的本实用新型的专利保护范围之内。