技术特征：
技术总结
本公开的实施例提供了用于提高半导体制造产率的系统和方法。本公开的实施例提供了一种产率提高系统。该系统包括训练工具，该训练工具被配置为基于第一衬底的检查的一个或多个经验证的结果的接收而生成训练数据。该系统还包括点确定工具，该点确定工具被配置为基于训练数据、第二衬底的弱点信息、以及用于第二衬底的扫描器的曝光方案，确定第二衬底上待检查的一个或多个区域。
技术研发人员：方伟
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2017.08.14
技术公布日：2019.04.16