专利名称：一种易碎防伪rfid蚀刻电子标签及其制造工艺的制作方法
技术领域：
本发明涉及物联网RFID领域，更具体的说涉及一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签及其制造工艺，其适用于各种需要防伪、防拆的RFID应用场合，尤其成为车辆管理、酒类、药品、化妆品等高档产品溯源及防伪的理想选择。
背景技术：
普通易碎标签是以易碎印刷材料为面料，背面涂有特种强力胶粘剂，其面料断裂强度远低于胶粘剂粘合能力；当易碎标签被贴上基材后再揭起时，材料无规则断裂，显示产品包装已被拆开过，且无法复原。但是普通易碎标签主要是由打印出来的条码构成，其信息储存量很少，并且需要扫描枪读取。
RFID标签具有体积小、容量大、寿命长以及可重复使用等特点，其可支持快速读写、非可视识别、移动识别、多目标识别、定位及长期跟踪管理；RFID技术与互联网、通讯等技术相结合，可实现全球范围内物品跟踪与信息共享。近年来，随着大规模集成电路、网络通信和信息安全等技术的发展，RFID技术进入了商业化应用阶段。由于具有高速移动物体识别、多目标识别和非接触识别等特点，RFID技术显示出巨大的发展潜力与应用空间，被认为是21世纪最有发展前途的信息技术之一。目前随着国家对财产安全、食品安全、药品安全等越来越重视，易碎防伪RFID电子标签在溯源与防伪上面越来越重要，在越来越多的领域取代普通易碎标签。但是，市场上的易碎防伪RFID标签其至少存在如下缺陷
一、现有易碎防伪RFID标签通常采用的技术方案，是将导电油墨或金属颗粒通过丝网印刷在易碎纸质材料及PET基材上面，形成印刷RFID天线，但由于印刷天线精度低、导电物质电阻阻抗不一致，故始终无法制成高质量的RFID电子标签，适用范围比较窄；
二、现有易碎防伪标签往往仅是部分损坏该标签，即不是从根本上损坏该标签，从而具有损坏程度不够，进而具有防伪性差的缺点。有鉴于此，本发明人针对现有易碎防伪RFID电子标签的上述缺陷深入研究，遂有
本案产生。
发明内容
本发明的第一目的在于提供一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签，以解决现有技术中电子标签在撕毁时损坏程度不够而具有防伪性差的缺陷。为了达成上述目的，本发明的解决方案是
一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签，其中，包括承载基材、第一胶层、蚀刻层、RFID芯片、第二胶层以及易碎纸层；该第一胶层位于承载基材和蚀刻层之间，该蚀刻层为铜箔或铝箔经蚀刻工艺而成型，该承载基材、第一胶层、蚀刻层与RFID芯片构成芯料组件，该易碎纸层通过第二胶层而粘结在蚀刻层上，该第二胶层的粘性要强于第一胶层的粘性。进一步，该蚀刻层上线路的蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或线路端点最小间距^ O. 12mm。进一步，该承载基材选自PI膜或PET膜。进一步，该第二胶层选自聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种；该第一胶层选自聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、丙烯酸压敏胶、硅胶的一种或几种。本发明的第二目的在于提供一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签的制造工艺，其中，包括如下步骤
①、选择铝箔或铜箔，并在其上涂布第一胶层后与承载基材进行复合，而形成复合基
材；
②、在复合基材的铝箔或铜箔上面形成感光型复合材料；
③、将需要蚀刻的天线图形制成菲林底片，采用曝光方法，将导线部线路转移至感光型复合材料上面；
④、将曝光好并贴有感光型复合材料的复合基材进行显影、蚀刻和剥膜,如此形成蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或端点最小间距< O. 12mm蚀刻天线；
⑤、将蚀刻天线与RFID芯片组装在一起，而制成芯料组件；
⑥、取易碎纸层，并在其一面上涂布粘性强于第一胶层的第二胶层；将易碎纸层上第二胶层所在的表面与芯料组件上蚀刻天线所在表面复合而形成易碎防伪RFID蚀刻电子标签。进一步，该铝箔或铜箔的厚度选择9 38um，该承载基材的厚度则选择为12 200um,该易碎纸层则选择为30 lOOum。进一步，该感光型复合材料为感光型干膜材料、感光型湿膜材料或者感光型绝缘油墨材料。进一步，该承载基材选自PI膜或PET膜。进一步，该第二胶层选自聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种；该第一胶层选自聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、丙烯酸压敏胶、硅胶的一种或几种。进一步,该步骤②中感光型复合材料与招箔或铜箔之间的成型采用卷对卷贴合，该步骤③中曝光则是采用卷对卷曝光机进行曝光。进一步，该步骤④的蚀刻步骤中蚀刻液为30% 35%的盐酸和双氧水的水混合液，其中盐酸和双氧水的体积比为3:1。采用上述结构后，本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签及其制造工艺，其至少具有如下有益效果
一、由于该蚀刻层一侧通过第一胶层而与承载基材(在蚀刻电子标签投入使用时则被标识物所替代)相粘结，另一侧通过第二胶层而与易碎纸相粘结；另外基于第二胶层的粘性大于第一胶层，故当人们非法撕揭电子标签时，该易碎纸层会和蚀刻层一起被撕揭，即让蚀刻层完全变形，如此使得整个电子标签被完全损毁；
二、由于其在制造成型过程中采用了承载基材、第一胶层以及铝箔或铜箔，从而确保了蚀刻工艺的实施条件；同时由于采用了形成感光型复合材料以及曝光的方式而实现线路转移，接着再通过蚀刻的工艺，如此使得形成在承载基材和第一胶层上的蚀刻层上线路的蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或线路端点最小间距彡O. 12mm。由此使本发明上线路精度大大提高，从而提高了整个蚀刻电子标签的整体性能。
图I为本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签的剖视 图2为本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签中蚀刻天线一种具体实施例的示意图。图中
蚀刻电子标签100
承载基材I第一胶层2
蚀刻层3第二胶层4
易碎纸层5。
具体实施例方式为了进一步解释本发明的技术方案，下面通过具体实施例来对本发明进行详细阐述。如图I所示,本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签100,包括承载基材
I、第一胶层2、蚀刻层3、RFID芯片(图中未示出)、第二胶层4以及易碎纸层5，该第一胶层2位于承载基材I和蚀刻层3之间，具体的，该第一胶层2选自自聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、丙烯酸压敏胶、硅胶的一种或几种，从而一方面起到将承载基材I与蚀刻层3粘结在一起的功效，另一方面还起到让蚀刻层与不同的表面物体能实现很好的粘结作用。该蚀刻层3为铝箔或铜箔经蚀刻工艺而成型，并且该蚀刻层3上线路的蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或线路端点最小间距彡O. 12mm。优选地，该承载基材I可以选自PI膜或PET膜。如图2所示，其为该蚀刻电子标签100中蚀刻层3 —种实施例的示意图。该承载基材I、第一胶层2、蚀刻层3与RFID芯片构成芯料组件，该易碎纸层5通过第二胶层4而粘结在蚀刻层3上，该第二胶层4的粘性要强于第一胶层2的粘性。优选地，该第二胶层4则可以选自聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种。由此，由于该蚀刻层3 —侧通过第一胶层2而与承载基材I (在蚀刻电子标签100投入使用时则被标识物所替代)相粘结，另一侧通过第二胶层4而与易碎纸相粘结；另外基于第二胶层4的粘性大于第一胶层2，故当人们非法撕揭电子标签时，该易碎纸层5会和蚀刻层3 —起被撕揭，即让蚀刻层3完全变形，如此使得整个电子标签被完全损毁；
为了让本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签100能被充分公开，本发明还提供其制造工艺，下面先对其第一较佳实施方案进行详细阐述
实施例一
该制造工艺，包括如下步骤
①、选择厚度为9 38um的铝箔，并在其上涂布第一胶层后与厚度为12 200um的承载基材进行复合，而形成复合基材；②、在复合基材的铝箔上面形成感光型复合材料；在本实施例中，该感光型复合材料采用感光型干膜材料，当然其还可以被感光型湿膜材料或者感光型绝缘油墨材料所替代；
③、将需要蚀刻的天线图形制成菲林底片，采用曝光方法，将导线部线路转移至感光型复合材料上面；
④、将曝光好并贴有感光型复合材料的复合基材进行显影、蚀刻和剥膜,如此形成蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或端点最小间距彡O. 12mm蚀刻天线。优选的，该蚀刻步骤中蚀刻液为30% 35%的盐酸和双氧水的水混合液,其中盐酸和双氧水的体积比为3 :1，从而为较佳的蚀刻精度提供保障；
⑤、将蚀刻天线与RFID芯片组装在一起，而制成芯料组件，即INLAY;优选地，该蚀刻天线与RFID芯片采用倒装焊接的方式相连；
⑥、取厚度为30 IOOum的易碎纸层，并在其一面上涂布第二胶层；将易碎纸层上第二胶层所在的表面与芯料组件上蚀刻天线所在表面复合而形成易碎防伪RFID蚀刻电子标 签。需要说明的是，在本实施例中，该承载基材可以选自PI膜或PET膜；该第二胶层则可以选用聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种，从而确保具有足够的粘结强度。实施例二
在本实施例中，其与第一实施例的步骤基本相同，其不同之处在于将铝箔用铜箔来替代。实施例三
在本实施例中，其可以采用第一实施例和第二实施例的全部方案，但是其为了达到提高生产效率的目的，其对前述步骤②和前述步骤③均进行了改进，具体的，该步骤②中感光型复合材料与铝箔或铜箔之间的成型采用卷对卷贴合，该步骤③中曝光则是采用卷对卷曝光机进行曝光。由上可知，本发明涉及的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签的制造工艺，由于其在制造成型过程中采用了承载基材、第一胶层以及铝箔或铜箔，从而确保了蚀刻工艺的实施条件；同时由于采用了形成感光型复合材料以及曝光的方式而实现线路转移，接着再通过蚀刻的工艺，如此使得形成在承载基材和第一胶层上的蚀刻层上线路的蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或线路端点最小间距彡O. 12mm。由此本发明与现有技术相比，其还具有线路精度大大提高，并且提高了整个蚀刻电子标签的整体性能。上述实施例和图式并非限定本发明的产品形态和式样，任何所属技术领域的普通技术人员对其所做的适当变化或修饰，皆应视为不脱离本发明的专利范畴。
权利要求
1.一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签,其特征在于,包括承载基材、第一胶层、蚀刻层、RFID芯片、第二胶层以及易碎纸层；该第一胶层位于承载基材和蚀刻层之间，该蚀刻层为铜箔或铝箔经蚀刻工艺而成型，该承载基材、第一胶层、蚀刻层与RFID芯片构成芯料组件，该易碎纸层通过第二胶层而粘结在蚀刻层上，该第二胶层的粘性要强于第一胶层的粘性。
2.如权利要求I所述的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签，其特征在于，该蚀刻层上线路的蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或线路端点最小间距彡O. 12mm。
3.如权利要求I所述的一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签，其特征在于，该承载基材选自PI膜或PET膜；该第二胶层选自聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种；该第一胶层选自聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、丙烯酸压敏胶、硅胶的一种或几种。
4.一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签的制造工艺，其特征在于，包括如下步骤 ①、选择铝箔或铜箔，并在其上涂布第一胶层后与承载基材进行复合，而形成复合基材； ②、在复合基材的铝箔或铜箔上面形成感光型复合材料； ③、将需要蚀刻的天线图形制成菲林底片，采用曝光方法，将导线部线路转移至感光型复合材料上面； ④、将曝光好并贴有感光型复合材料的复合基材进行显影、蚀刻和剥膜,如此形成蚀刻精度公差在±0. 02mm和/或端点最小间距< O. 12mm蚀刻天线； ⑤、将蚀刻天线与RFID芯片组装在一起，而制成芯料组件； ⑥、取易碎纸层，并在其一面上涂布粘性强于第一胶层的第二胶层；将易碎纸层上第二胶层所在的表面与芯料组件上蚀刻天线所在表面复合而形成易碎防伪RFID蚀刻电子标签。
5.如权利要求4所述的制造工艺,其特征在于,该招箔或铜箔的厚度选择9 38um,该承载基材的厚度则选择为12 200um，该易碎纸层则选择为30 lOOum。
6.如权利要求4所述的制造工艺，其特征在于，该感光型复合材料为感光型干膜材料、感光型湿膜材料或者感光型绝缘油墨材料。
7.如权利要求4所述的制造工艺，其特征在于，该承载基材选自PI膜或PET膜。
8.如权利要求4所述的制造工艺，其特征在于，该第二胶层选自聚胺酯改性环氧树脂胶、聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、二聚酸环氧树酯胶的一种或多种；该第一胶层选自聚醚改性环氧树酯胶、丙烯酸改性环氧树酯胶、丙烯酸压敏胶、硅胶的一种或几种。
9.如权利要求4所述的制造工艺，其特征在于，该步骤②中感光型复合材料与铝箔或铜箔之间的成型采用卷对卷贴合，该步骤③中曝光则是采用卷对卷曝光机进行曝光。
10.如权利要求4所述的制造工艺，其特征在于，该步骤④的蚀刻步骤中蚀刻液为30% 35%的盐酸和双氧水的水混合液,其中盐酸和双氧水的体积比为3 :1。
全文摘要
本发明公开一种易碎防伪RFID蚀刻电子标签及其制造工艺，包括承载基材、第一胶层、蚀刻层、RFID芯片、第二胶层及易碎纸层；第一胶层位于承载基材和蚀刻层之间，蚀刻层为铜箔或铝箔经蚀刻工艺而成型，该承载基材、第一胶层、蚀刻层与RFID芯片构成芯料组件，易碎纸层通过第二胶层而粘结在蚀刻层上，第二胶层的粘性要强于第一胶层的粘性。制造工艺包括以下步骤形成蚀刻精度公差在±0.02mm和/或端点最小间距≤0.12mm蚀刻天线的步骤；将蚀刻天线与RFID芯片组装在一起而制成芯料组件；取易碎纸层并在其一面上涂布第二胶层；将易碎纸层上第二胶层与芯料组件上蚀刻天线复合而形成易碎防伪RFID蚀刻电子标签。本发明涉及电子标签具有被撕揭时损毁程度大及性能高的特点。
文档编号G06K19/077GK102955976SQ20121000795
公开日2013年3月6日 申请日期2012年1月12日 优先权日2012年1月12日
发明者李金华 申请人:厦门英诺尔电子科技股份有限公司